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第四节 合成钻石及其方法
一、合成钻石的历史和现状
二、高温高压中晶触媒法合成钻石
三.化学气相沉淀法(CVD)合成钻石
一、 合成钻石的历史和现状
早在18世纪人们就开始了合成钻石的探索,但直到20世纪,由于热力学及高温高压技术的发展,才使钻石的合成得以实现。1953年瑞士工程公司(ASEA)使用压力球装置首次成功地合成出了40粒小颗的钻石,美国通用电气公司(GE)也于1955年采用压带装置合成出了小颗粒的钻石。此后,工业级钻石的合成技术得到广泛应用,目前几乎三分之二的工业用钻已由合成钻石替代了。但直到1970年宝石级大颗粒的钻石才由美国通用电气公司合成成功。经过近三十年的努力,目前已能获得十几克拉大的晶体,但宝石级钻石合成的成本仍然很高,不能进行大批量的生产。2000年可切磨的合成钻石只有3500ct,仅占当年天然宝石级钻石产量的0.01%。
到二十世纪九十年代,采用化学气相沉淀法(CVD)合成钻石薄膜,在固相基片上沉积形成金刚石多晶质薄膜,作为工业用途。2003年,美国阿波罗公司合成出达到宝石级单晶,并开始商业性生产。最近 ,美国华盛顿卡内基研究所地球物理实验室实现100μm/h的CVD合成钻石的速度,生产出了10ct、半英寸厚的单晶钻石。为了进一步加大合成钻石晶体的尺寸,采用CVD顺序地在钻石基片的6个面上生长 的方法,有可能实现英寸级(约300ct)无色钻石单晶的三维生长。人们还发现,高压高温热处理能改善CVD合成钻石的颜色、提高合成钻石的硬度。
二、 高温高压种晶触媒法合成钻石
图7-34 钻石-石墨相图
1. 合成钻石的原理
钻石和石墨是碳的两种同质多像的变体。根据钻石-石墨的相平衡图可知,在常温常压下石墨是碳的稳定结晶形式,钻石只有在高温高压下才是最稳定的,在高温高压(相图中钻石稳定区的条件)下,石墨的中的碳原子会重新按钻石的结构排列,而形成钻石(图7-34)。
合成钻石的方法主要分静压法、动压法和低压法(即在亚稳定区内生长钻石的方法)。合成工业用钻石主要采用静压法中的静压触媒法,通过液压机产生(4500-9000)X109Pa的压力,以电流加热到1000-2000℃的高温,利用金属触媒实现石墨向钻石的转化。
宝石级合成钻石也是采用的静压法,但加入了种晶,所以又称为晶种触媒法。金属触媒的主要作用是降低石墨向钻石转化的温度和压力条件,提高转化率。同时,金属触媒可以作为碳的溶剂。在适当的温度压力条件下,石墨和钻石都可以溶于触媒中,并且,石墨的溶解度大于钻石,当压力升高时,二者的差异也增大。因此,当石墨在金属触媒中溶解达到饱和时,对钻石而言就已经达到过饱和了,此时,钻石容易从触媒中结晶出来。在合成过程中对温度、压力的控制较复杂,晶体生长的时间较长,所以成本比合成工业钻砂高得多。
2. 宝石级钻石的合成工艺
(1)高压装置
合成宝石级钻石主要采用带 形压机和球形压机两种:
① 带状压机(Belt):这种装置是美国通用电气公司发明的,又称两面顶压机(图7-34),压力由上下两个顶锤的挤压产生。这种压机合成一粒1克拉 大小的晶体需要60个小时。
② 球形压机(BARS):1990年由俄罗斯人发明的,压力由六个个顶锤的挤压产生(图7-35、36),体积比带状压机小,生产成本更低。
图7-35 球形压机
图7-34 压形压机
图7-36 球形压机
图7-37 反应舱内部结构(压带装置和分裂球装置中的反应舱相同)
(2)原料:通常选用天然或合成的钻石粉、石墨及石墨与钻石的混合物作为碳源。
(3)触媒:一般采用铁镍合金、铁锰镍合金,也可根据消除氮(N)的需要采用其他的触媒,如铝质的触媒。
(4)压力舱:用叶腊石作成柱形舱体,用来放置原料、触媒和种晶。
(5)种晶:天然或者合成钻石1到2粒,放在生长舱的两端。
(6)工艺过程:在5.5-6 x109Pa的压力和1650℃温度下,碳溶解于金属触媒中,样品仓具有一定的温度梯度,中间温度较高(1650℃),两端较低(1550℃), 溶解于触媒中的碳 迁移到温度较低的种晶上结晶出来,生长出钻石单晶体。
3. 合成钻石的晶形、颜色及类型的控制
(1)晶形:合成钻石晶体形态主要为立方体与八面体的聚形。合成时的温度对形态有一定的影响。温度较低(1300℃)时以立方体为主,温度较高(1600℃)时以八面体为主(图7-38,39)。
图7-38 合成钻石晶形与生长温度的关系
图7-39 合成钻石晶体呈立方体的与八面体的聚形
(2)颜色和类型
合成钻石的颜色和类型也可以控制。因为生长舱内充满了空气,空气中含有氮,所以大多数合成钻石都是含孤氮的Ib型钻石。这种钻石多为黄到褐色。如果在反应舱内放一些氮的吸收剂,如锆或铝,则可以获得无色的不含氮的Ⅱa型钻石。如果同时再加入一些硼,则可合成出含硼的蓝色Ⅱb型钻石。
图7-40合成钻石可显示
漏砂状、交切状纹理
4. 宝石级合成钻石的主要识别特征
(1)结晶习性:合成钻石常常为立方体、八面体,及二者的聚形(图7-39),而天然钻石最常见的形态是八面体、菱形十二面体或二者的聚形或三角薄片双晶。
(2)晶面纹理:合成钻石可显示树枝状、漏砂状或交切状纹理(图7-40),接种面上粗糙不平。天然钻石常见三角凹痕(图7-41)。
(3)种晶:存在种晶和种晶幻影区。
(4)钻石类型:合成钻石为Ib型或者II型,Ib型经高温处理后可成为Ib和IaAB的混合型。
(5)包裹体:针状、片状、针点状的金属包裹体(图7-42),大量的金属包裹体使得合成钻石具有明显的有磁性,甚至会导电。
(6)吸收光谱:合成钻石无415nm吸收线,D.Beers钻石贸易公司(DTC)推出的钻石光谱鉴定仪(DIAMONDSURE,图7-43)就是通过检测415nm吸收线是否存在来区分天然与合成钻石。
图7-41 天然钻石表面有时
可见三角凹痕
图7-42 金属熔剂残余包裹体
图7-43 钻石光谱鉴定仪
(DIAMONDSURE)
(7)紫外荧光:合成钻石的长波紫外荧光弱于短波,而天然钻石的正好相反。
(8)荧光分带图案:合成钻石在超短波紫外线下有特征的分带现象,称为“马尔他十字分带”现象,如图7-44所示。天然钻石则显示年轮状荧光分布。钻石荧光 图案鉴定仪(DIAMONDVIEW,图7-45)是专门用于检测钻石荧光图案特征的仪器。
(9)阴极发光:与紫外下荧光分带特征相似。
图7-44 合成钻石在紫外光下
特征的荧光分带现象
图7-45 钻石结构荧光鉴定仪
(DIAMONDVIEW)
三、化学气相沉淀法(CVD)合成钻石
1. 基本原理
这种方法是用微波加热、放电等方法激活碳基气体(如甲烷),使之离解出碳原子和氢原子(或甲基CH3和氢原子), 游离的碳原子形成钻石。
合成的条件是: 温度800~1000℃,约0.1个大气压的CH4+H2混合气体,过高的H2分压易形成石墨,衬底用钻石晶体,起种晶的作用,生长速度0.01-1mm/h。
2. 合成装置:如图7-46所示。
图7-46 化学气相沉淀法合成钻石的装置
4. CVD合成钻石的主要识别特征
(1)生长特征:具有生长层结构,如平行的异常消光纹。
(2)钻石类型:CVD合成钻石为Ib型或者含极少孤N的IIa型。
(3)红外光谱:在753,7354,6856,6425,5564,3323,3123cm-1处有与H有关的吸收峰,经HTHP处理可将其部分除去,只留下3107cm-1的H-C峰。
(4)紫外荧光特征:未经高温高压处理的CVD钻石具有特征的橙红色荧光(图7-48a),高温高压处理后呈黄绿色(图7-48b)。
(5)荧光图案:CVD合成钻石的荧光图案具有细致的纹理,尤其是在阴极发光下易于观察到(图7-48)。
(6)外观特征:切磨的钻石往往呈扁平状,淡褐色到深褐色的体色,但是经HTHP处理后可近于无色。
a.
b.
a.橙色的荧光和细密的生长纹;b.经HTHP处理后,荧光改变成黄绿色, 但细密的生长纹特征没有改变
图7-48 CVD合成Ib型钻石的紫外荧光图案
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