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脉冲激光沉积PLD

   简单来讲，脉冲激光沉积PLD(PulsedLaserDeposition)确实是根基脉冲激光光束聚焦再固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。

脉冲激光沉积的优点有：
1. 由于激光光子能量特不高，可溅射制备许多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物薄膜，多层金属薄膜等；PLD能够用来合成纳米管，纳米粉末等
2. PLD能够特别轻易的连续融化多个材料，实现多层膜制备
3. PLD能够通过操纵激光能量和脉冲数，周密的操纵膜厚。

脉冲激光沉积对激光器的要求有：
1. 尽可能防止热效应：激光波长越短，越轻易实现“冷加工〞因此193nm,248nm的准分子激光器和266nm,355nm的高次谐波ND:YAG固态激光器为客户所常用
2. 大能量，短脉冲制造超过靶材的阈值的功率密度
3. 比立高的重复频率，提升溅射速度。
4. 激光器使用简单，寿命长，易于维护〔这一点Nd:YAG固态激光器要好于准分子激光器〕

先锋公司相关产品

激光光源局部：法国Quantel公司的脉冲Nd:YAG激光器，(链接)
推举型号：
1. BrillantB系列：即插即用型3倍频〔355nm〕，4倍频〔266nm〕结构；用户使用方便，也是商用PLD系统OEM厂家的选择。
2. YG980系列：高能量输出，工作稳定，维护方便。是科研用PLD系统的首选。

测试系统局部：
1. 等离子体光谱测试系统：英国Andor公司，
2. 真空腔剩余气体分析仪：美国SRS公司RGA200等
3. 红外热像仪：美国Electrophysics公司PV320等