锆基非晶合金电解质等离子体抛光工艺及废液处理.pdf

treatment J.China Surface Engineering,2024,37(1):267-279.Citation format:WANG Chengyong,TANG Zimin,DING Feng,et al.Plasma electrolyticpolishing process forZr-based metallic glasses and waste liquor引用格式：王成勇，唐梓敏，丁峰，等.锆基非晶合金电解质等离子体抛光工艺及废液处理 .中国表面工程，2 0 2 4，37(1)：2 6 7-2 7 9.industriallyrformance,doi:10.11933/jj.issn.1007-9289.202210170022024Feb.CHINASURGINEERING2024年2 月No.1Vol.37面国中表程第37 卷第1期锆基非晶合金电解质等离子体抛光工艺及废液处理1,2,3王成勇1,2,3唐梓敏丁,峰 1,2,3 黄瑜1,2,3张涛1,2,3郑李娟1,2,3朱旭光1,2,3,4（1.广东工业大学机电工程学院广州510006;2.广东省微创手术器械设计与精密制造重点实验室广州510006;3.高性能工具全国重点实验室广州510006;4.东莞市逸昊金属材料科技有限公司东莞523690)摘要：电解质等离子体抛光技术在非晶合金结构件的应用仍处于探索阶段，而且会产生含较高浓度的重金属和氟离子废液。为了提高锆基非晶合金结构件的表面质量以满足其使役性能，研究抛光时间、工作电压、硫酸铵浓度、初始温度、工件入水深度、阳极挂具材料等电解质等离子体抛光工艺参数对锆基非晶合金表面粗糙度、晶化情况的影响，并利用正交试验进行参数组合优化，对比不同参数对于表面粗糙度的影响显著程度。最后针对抛光后废液污染的问题，探究并配套合适的废液处理方案。结果表明：影响抛光后材料表面质量因素的显著程度为抛光时间 工作电压初始温度 硫酸铵浓度，最优抛光工艺参数组合为抛光时间8 min，工作电压2 2 0 V，初始温度8 8，硫酸铵浓度为5%，此时表面粗糙度为0.10 3m。经化学混凝沉淀法和离子交换树脂法组合工艺处理后，出水废液中的重金属和氟离子浓度均能达国家电镀污染物排放标准。研究成果可为电解质等离子体抛光在锆基非晶合金的实际生产提供工艺指导，有助于推广锆基非晶合金结构件的产业化应用，促进锆基非晶合金的大规模工业生产。关键词：锆基非晶合金；电解质等离子体抛光；表面质量；工艺优化；废液处理中图分类号：TG707；X7 8 1Plasma Electrolytic Polishing Process for Zr-based Metallic Glasses andWaste Liquor TreatmentWANG Chengyong1,2,3TANG Zimin 1,2,3DING Feng1,2,3HUANG Yu 1,2,3ZHANG Tao I,2,3ZHNEG Lijuan1,2,3ZHU Xuguang1,2,3,4(1.School of Electromechanical Engineering,Guangdong University of Technology,Guangzhou 510006,China;2.Guangdong Provincial Key Laboratory of Minimally Invasive Surgical Instruments andManufacturing Technology,Guangzhou 510006,China;3.State Key Laboratory for High Performance Tools,Guangzhou 510006,China;4.Dongguan Yihao Metal Technology Co.,Ltd.,Dongguan 523690,China)Abstract:Zirconium-based bulk metallic glasses(BMGs)exhibit metal and glass properties,excellent mechanical pecorrosion resistance,and good biocompatibility.Zr-based BMG is currently the only amorphous alloy that has been基金项目：国家自然科学基金（517 350 0 3）；广东省基础与应用基础研究重大项目（2 0 19B030302010）。Fund:National Natural Science Foundation of China(51735003);Guangdong Major Project of Basic and Applied Research(2019B030302010).收稿日期：2 0 2 2-10-17；修改日期：2 0 2 3-0 5-2 2；接受日期：2 0 2 3-0 6-2 7；上线日期：2 0 2 3-12-15。Received October 17,2022;Revised May 22,2023;Accepted in revised form June 27,2023;Available online December 15,2023.268面中2024年表国程produced as a structural component,and its surface quality is a key factor affecting its operational performance.Plasma electrolyticpolishing,which requires low electrical conductivity,is suitable for intricate workpieces and does not have any adverse effects onmultiphase alloys.Thus,this is an ideal polishing technology for Zr-based BMG structural components.This study aimed toinvestigate the effects of plasma electrolytic polishing on the surface quality of Zrs:Cu15.46Ni2.74Ali0.34Nb2.76Yo.5 BMGs and obtain theoptimal process parameters and polishing quality to provide process guidance for plasma electrolytic polishing in the actualproduction of Zr-based BMGs.The effects of different process parameters,such as polishing time,ammonium sulfate concentration ofthe electrolyte,working voltage,initial temperature,immersion depth of the workpiece,and anode rack materials,on the polishingsurface roughness were studied using single-factor experiments.Subsequently,based on the single-factor experiments,we conductedfour orthogonally designed experiments,each with four factors and four levels,using the factors that were more influential on thesurface quality.These experiments aimed to minimize the surface roughness after polishing.Range and variance analyses wereconducted to study the influence of each polishing process parameter on the surface roughness during polishing and determine theprimary and secondary order of influence indicators,and the optimal combination of process parameters was obtained.To address theissue of waste liquor pollution after polishing,the effects of chemical neutralization-coagulative precipitation process andion-exchange resin method on treating the waste liquor generated after polishing Zr-based BMGs were studied.A combinationtechnology was proposed to treat the waste liquor.The quality of the effluent based on its compliance with the National EmissionStandard for Electroplating Waste Liquor(GB219002008)was measuring.The results showed that the surface roughness of theZr-based BMGs decreased and stabilized with increasing polishing time.A working voltage that was too high or too low could notachieve good surface quality,and the lowest surface roughness was achieved at a working voltage of 210 V.Ammonium sulfate wasthe primary component of the electrolyte,and ammonium sulfate concentrations that were too high or too low could affect thepolishing effect.A concentration of 4.5%resulted in the lowest surface roughness.As the initial temperature increases,the roughnessof the polished surfaces decreases.The immersion depth of the workpiece affects its surface pressure,which in turn,affects theformation of the surface air layer,with excessive immersion depth increasing the surface roughness.Copper anode rack materials canachieve lower surface roughness than stainless-steel anode rack materials.The results of the orthogonal experiment with the minimumsurface roughness as the objective showed that the significant degree of factors affecting the surface roughness after polishing werethe polishing time,working voltage,initial temperature,and ammonium sulfate concentration,The optimal combination of polishingprocess parameters was achieved with a polishing time,a working voltage,an initial temperature,and an ammonium sulfateconcentration of 8 min,220 V,88 C,and 5%,respectively.The optimal surface roughness obtained in the experiments was 0.103 m.The chemical neutralizing-coagulative precipitation process or ion-exchange resin method alone could not meet the NationalEmission Standard for Electroplating Waste Liquor through a single waste liquor treatment process.However,a combination of thetwo could effectively treat heavy metals and fluoride ions in the waste liquor generated after the polishing of Zr-based BMGs andreduce the concentration of heavy metals and fluoride ions in the effluent to meet the national standard for electroplating waste liquor.The research results will be helpful for promoting the industrial application of Zr-based BMG structural components and massproduction and application of Zr-based BMGs.Keywords:Zr-based BMGs;plasma electrolytic polishing;surface quality;process optimization;waste liquor treatment0前言锆基非晶合金（Zr-based bulk metallic glasses,Zr-basedBMGs）兼具有金属和玻璃的优良特性，不存在位错、空穴等晶体缺陷，具有优异的力学性能、耐腐蚀性能和良好的生物相容性 1-2 等，有望应用于3C电子、医疗器械、汽车、航空航天和高端工业装备等领域 3-5。此外，锆基非晶合金也是当前唯一实现结构件工业化生产的非晶合金 6 。然而，锆基非晶合金是典型的难加工材料 7。当前锆基非晶合金结构件的制备方法通常采用压铸成形的方法，近净成形出对应的毛坏零部件 8 ，然后利用切削、铣削等机械加工手段进一步提高零部件的形位精度 9。CHEN等 10 研究揭示了锆基非晶合金由于粘性流动而难以被加工成镜面状表面。表面质量是影响结构件使役性能的关键因素，例如，高的表面质量以满足装配要求（折叠手机转轴），高的表面质量以降低表面应力延长使用寿命（汽车结构件），高的表面质量以获得可观的外观（手表表壳）269王成勇，等：锆基非晶合电解质等离子体抛光工艺及废液处理第1期等。低的表面质量极大地限制了锆基非晶合金结构件在各类领域产业化的应用推广。抛光技术能有效地提高材料表面的质量，达到去除毛刺、降低表面粗糙度并提高光泽度的效果。这对提升锆基非晶合金表面质量，改善锆基非晶合金结构件的使役性能、延长其使用寿命有着重要意义。传统的抛光技术主要有机械抛光、化学抛光和电化学抛光等。然而锆基非晶合金本身具有高硬度和耐磨损等特征，以及机械抛光效率低，工具磨损严重，且复杂异形面零件抛光困难等 。化学、电化学腐蚀抛光通常采用高强酸等溶液作为抛光溶液才能实现锆基非晶合金表面的抛光，抛光后表面的化学残留难以清洗，同时电化学抛光还受限于非晶合金的高阻率 12-13。现有的抛光方法已无法完全满足锆基非晶合金结构件高效高质的抛光要求。电解质等离子体抛光是可用于金属材料表面处理的新型高效加工技术 14-16 ，其基本加工原理是，利用在金属和电解抛光液之间形成的气层，并产生等离子放电微轰击去除作用达到金属表面抛光的效果。电解质等离子体抛光的电解液一般为低浓度的盐溶液，抛光加工过程中不会产生有害气体，对材料导电性能要求低，适用于复杂形面的工件且对多相合金无不利影响，已成功应用于不锈钢 17-18 、钛合金19-2 0 1、铝合金 2-2 、铜合金 2 3-2 4等常用金属部件的复杂型面抛光领域，是锆基非晶合金结构件理想的抛光技术 2 5 然而，目前针对锆基非晶合金电解质等离子体抛光的研究仍处于探索阶段，鲜有相关的研究报道。何小琳 2 6 率先开展了锆基非晶合金的电解质等离子体抛光的应用研究，自主搭建了电解质等离子体抛光装置，并研究了锆基非晶合金的稳定抛光过程，揭示了表面平滑机理，优化了适用于锆基非晶合金抛光用的电解质溶液组成比。为了进一步促进电解质等离子体抛光在锆基非晶合金大规模工业化生产中的应用，还需完善锆基非晶合金电解质等离子体抛光工艺的研究。同时，实际生产中，锆基非晶合金经电解质等离子体抛光后会产生含较高浓度的重金属和氟离子废液 2 6 ，若未处理直接排放会对环境、动植物和人体造成严重危害。这也成为制约锆基非晶合金电解质等离子体抛光技术工业化应用的关键难题之一。在当前针对水体重金属污染物处理的研究中，主要有化学沉淀法和离子交换法两种技术。邝金勇等 2 7 以受镉污染的饮用水为研究对象，发现化学沉淀与强化混凝沉淀联用技术能有效地降低废水中的含量。李鸿义等 2 8 利用离子交换法实现了沉钒废水中钒及铬分别为7 2%、95%的总回收率，其终产品纯度分别为96%、93%。而现有的研究中，针对含氟废液往往采用化学沉淀法和混凝沉淀法联用的方式来去除，刘海波等 2 9 通过对含氟废水处理研究发现，采用CaCl2十PAC十PAM药剂组合处理工艺能使出水中残余氟降至4.6 mg/L，周芬等 30 同样采用CaCl2十PAC+PAM药剂组合对含氟含重金属废水进行处理，发现在最佳工艺条件下可使氟离子浓度由16 3.7 mg/L降至8 mg/L，除氟效果显著。然而，由于非晶合金多组元、电解质等离子体复杂工况的特性，上述方法是否适用于其废液处理尚未有相关的研究报道。为此，本文研究Zr58Cu15.46Ni12.74Al10.34Nb2.76Yo0.5锆基非晶合金电解质等离子体抛光工艺对表面质量的影响，以获得最佳工艺参数及最佳抛光质量，为电解质等离子体抛光在锆基非晶合金的实际生产提供工艺指导；同时针对锆基非晶合金抛光后废液处理技术开展研究，研究化学混凝沉淀法和离子交换树脂法组合处理工艺，获得配套的废液处理方案，实现出水废液达国家电镀物排放标准。研究成果有助于推广锆基非晶合金结构件的产业化应用，促进锆基非晶合金的大规模工业生产、应用。1试验准备1.1抛光工艺参数优化试验采用工件材料为东莞逸昊金属材料科技有限公司提供的Zr58Cu15.46Ni12.74Al10.34Nb2.76Y0.5（Vi t106C）非晶合金，工件尺寸为10 0 mm10mm1mm，图1的XRD检测显示了典型的馒头峰，证明了材料的非晶态。678910Zr58Cu15.46Ni12.74Al10.34Nb2.76Yo.520304050607080Diffraction20/()图1106C锆基非晶合金样品及XRD检测Fig.1As-cast 106C Zr-based BMG workpiece and XRD pattern面270中2024年表国程试验在深圳晟启科技有限公司自研的电解质等离子体抛光机上进行，图2 所示为电解质等离子体抛光主机和抛光专用电源的实物图。抛光专用电源为0350 V的连续可调的直流恒压工频电源，输出电流为0 2 0 0 A，最大输出功率为10 0 kW。电解质溶液各组分配比采用何小琳所研究获得的配方比（硫酸铵为4.75%、氟化氢铵为0.31%、钼酸铵为0.1%、亚硫酸钠为0.1%和十二烷基磺酸钠为30 g）2 6 。抛光前先用180#的砂纸对工件表面进行磨抛预处理，以保证每个样品有一致的表面粗糙度，样品的初始表面粗糙度为0.49m。(a)Plasma Electrolytic(b)Dedicated powersupplyPolishingMachine图2 试验设备Fig.2Experimental setup首先通过单因素试验研究不同工艺参数如抛光时间、电解质硫酸铵浓度、工作电压、初始温度、入水深度和阳极挂具材料对抛光表面粗糙度的影响，试验方案如表1所示。表1单因素试验方案Table1SSingle factor experimental schemePolishing parametersFactorlevelPolishing timet/min2,4,6,8Concentration of(NH4)2SO4/wt.%4.25,4.5,4.75,5Working voltageU/V190,200,210,220,230,240Initial temperatureT/C85,88,91,94Soaking depth h/cm1,4,8,12AnoderackmaterialsStainless steel,copper alloyNote:When a parameter was changed,the others were set as U=200 V,T=88,t =4m in,h=4 c m,c o n c e n t r a t io n o f (NH 4)2 SO 4was 4.75%,anode rack materials was copper alloy.借助ET-150台阶仪（Kosaka）对抛光前后工件的表面粗糙度进行测量，以衡量抛光表面质量；借助X射线衍射仪（XRD，Br u k e r，D 8 A D V A NC C M）对抛光前后工件的微观结构进行分析，以辨别材料是否发生晶化。利用场发射电子扫描电镜（SEM，Hitach，SU 8 2 2 0）对工件表面的显微形貌进行观察。最后，在单因素试验的基础上，选取影响表面质量较大的四个工艺参数设计了四因素四水平的正交试验，以获得最小抛光后表面粗糙度为目标，对试验数据进行极差分析和方差分析，研究抛光过程中各抛光工艺参数对表面粗糙度影响的显著程度，确定各因素影响指标的主次顺序和最佳的工艺参数组合，以获得最优的抛光表面质量，试验方案如表2 所示。表2 正正交试验因素表Table2Factor table of orthogonal experimentABCDLevelWorkingPolishingConcentration ofInitialvoltage/time/(NH4)2SO4/wt.%temperature/Cmin14.2585200224.588210434.7591220645942308Note:h=4 cm,anode rack materials was copper alloy.1.2抛光后废液处理试验样品材料为锆基非晶合金抛光1h后产生的废液，如图3a所示，图3b显示经检测原始废液pH值为4。废液中含有待处理的重金属、氟离子的浓度如表3所示。请您在半秒后取出对照0.51.52.53.54.51.02.03.04.05.015010050(a)Digital photographs(b)pH图3扶抛光后废液Fig.3Waste liquor after polishing表3抛光后废液中离子的浓度Table3Concentration of ions in the waste liquorafter polishingIonFeCrCuNiZrFConcentrations/3225.0831.620.3 88.868.64796.6(mg:L-)试验分别研究了化学混凝沉淀法和离子交换树脂法一级处理下对抛光后废液处理效果，并提出了组合工艺法对抛光后废液进行处理，以GB21900一271王成勇，等：锆基非晶合一体抛光工艺及废液处理第1期2008国家电镀污染物排放标准为依据来衡量出水废液是否达标。离子交换树脂法处理废液试验在自建试验平台（图4）上进行。取10 0 mL的抛光废液，利用微型蠕动泵按8 BV/H的工作流速将废液输入到离子交换树脂柱（内径为2 1mm）中，树脂的装填量为100mL，通过离子交换作用将废液中的阳离子或阴离子吸附，从而有效地去除废液中的重金属离子和氟离子。所用的两种树脂耗材均采购于北京科海思公司，见表4，包括CH-90Na、CH-8 7 离子交换树脂。-Water inletBackwashingspaceResin-Outletvalve(a)Experimental setup(b)Schematic diagram图4高离子交换树脂法Fig.4lon-exchange resin method表4离子交换树脂试验耗材Table 4Experimental consumables used inion-exchange resin methodCH-90NaCH-87DigitalphotographsMicroscopicmorphology1mm1mmSEM500umS00uTTarget ions toHeavymetalionsFluoride ionbetreated化学混凝沉淀试验所用试剂及其用途见表5。取100mL抛后的废液，往废液中加入氢氧化钠来调节废液的pH值；其次，加固体CaCl2，用玻璃棒搅拌使充分反应；接着分别加入PAC和PAM，用玻璃棒搅拌使其充分反应；静置沉降6 0 min后使废液分层；然后，取上清液并稀释10 0 倍后过滤进行测试。表5化学混凝沉淀试验所用化学试剂Table5Chemical reagents used in chemical neutralizing-coagulative precipitation processChemicalformulaChemical reagentGradeMain applicationor shorthandSodiumhydroxideNaOHARAdjust pHFluorineremovalcalcium chlorideCaCl2ARagentPolymeric aluminumCoagulatingPACARchloridesedimentationPolyacrylamidePAMARCoagulant aids试验方案见表6，公共组试验参数pH为7,PAC投加量为6 0 0 mg/L,CaCl2投加量为12 0 g/L，PA M投加量为5mg/L。在保持其他参数不变的前提下，分别开展pH因素水平为5、7、9、11，PAC投加量因素水平为2 0 0、40 0、6 0 0、8 0 0 mg/L，Ca Cl 2 投加量因素水平为30、6 0、90、12 0、150 g/L的单因素试验，以处理后废液中Zr、Cu、Ni、Fe、Cr、F离子浓度为衡量指标，尽可能降低各类离子的整体含量，以获得最佳的处理方案。表6 化学混凝沉淀单因素试验方案Table 6 Single factor experimental scheme for chemicalneutralizing-coagulative precipitation processParameterFactorlevelpH5,7,9,11PAC dosage/(mg/L)200,400,600,800CaCl2 dosage/(g/L)30,60,90,120,150PAM dosage/(mg/L)5Note:When a parameter was changed,the others were set as follows:pH was 7,PAC dosage was 600 mg/L,CaCl2 dosage was 120 g/L.2抛光工艺参数优化研究表明，随着时间或者在升温和加压的条件下，非晶会晶化成晶态物质 。何小琳 2 前期研究表明，本试验中设置的抛光时间、工件入水深度并不会影响材料的晶化情况。故如图5所示，针对本试验中其他主要的工艺参数如工作电压、初始温度和硫酸铵浓度在不同参数值下的抛光前后表面用XRD进行分析。抛光处理前后的XRD衍射峰均为馒头峰，无尖锐的衍射272面中2024年表程国峰，因此证明在工作电压190 2 40 V、初始温度8 594和硫酸铵浓度在4.2 5%5.0%范围内抛光后表面仍是非晶态，故后续对表面质量的研究主要集中于工艺参数对表面粗糙度的影响。U=240VU-230VU-220VU=210VU-200VU-190VAs-cast2030405060708020/()(a)Working voltageT-94T-91T-88T-85As-cast12030405060708020/（)(b)Initial temperature5.0%(NH4)2SO44.75%(NH4)2SO44.5%(NH4)2SO44.25%(NH4)2SO4As-cast2030405060708020/()(c)Concentration of(NH4)SO4图5不同工艺参数对抛光表面晶化的影响Fig.5Influence of different process parameters onthe crystallization of the polished surface2.1抛光时间图6 为抛光过程中锆基非晶合金工件表面粗糙度随抛光时间变化的趋势图，随着抛光时间的增加，表面粗糙度降低。同时，进一步观察发现，在0 2 min时间内表面粗糙度的下降速率最高，而随着抛光时间的继续增加，表面粗糙度值降低的趋势减缓，这是由于随着抛光的进行，表面粗糙度降低，表面变得越来越平整，因而工件表面电场强度降低，导致单位时间内的轰击去除速度下降，表面粗糙度下降的速率降低。0.60.50.40.30.20.1002468Polishingtimet/min图6 抛光时间对工件表面粗糙度的影响(U=200 V,h=4 cm,T=88,4.7 5%(NH 4)2 SO 4,铜合金阳极挂具材料）Fig.6 Influence of polishing time on the surfaceroughness of the workpiece(U=200 V,h=4 cm,T=88,4.7 5%(NH 4)2 SO 4,anode rack materials was copper alloy)2.2工作电压随着工作电压的增加，抛光后锆基非晶合金工作表面粗糙度变化趋势为先下降后升高，抛光后的材料在工作电压为2 10 V时表面粗糙度达最低，表面粗糙度变化趋势图如图7 所示。电压越低，工件周围的电场强度越低，工件单位面积上的放电电流密度就越小，因此工件表面的微观凸起去除速率低，抛光后表面的粗糙度会稍微比较高；电压越高，工件周围的电场强度相应也越高，对表面微轰击的能量也增加，气液界面的热通量超过临界热通量，导致表面过轰击，所以抛光后表面粗糙度升高 3。0.60.50.40.30.20.1180190200210220230240250Working voltageU/V图7 工作电压对工件表面粗糙度的影响(t=4 min,h=4 cm,T=88,4.7 5%(NH 4)2 SO 4,铜合金阳极挂具材料）Fig.7 Influence of working voltage on the surfaceroughness of the workpiece(t=4 min,h=4 cm,T=88,4.7 5%(NH 4)2 SO 4,anode rack materials was copper alloy)273第1期王成勇，等：锆基非晶合质菌工艺及废液处理2.3硫酸铵浓度硫酸铵是锆基非晶合金抛光的电解质溶液配比最主要的成分，在所有成分中其含量最高，不同硫酸铵浓度值对抛光后工件表面粗糙度的影响如图8所示，在浓度为4.5%时可获得最低的表面粗糙度。硫酸铵浓度对电解质溶液的电导率有重要影响，而电导率决定了电解质等离子体抛光过程中的气层是否可稳定形成，以及加载在锆基非晶合金工件单位面积上能量的大小。电解质溶液中的硫酸铵浓度越低，电解质溶液的电导率也越低，导致抛光过程中形成的气层不稳定和工件单位面积轰击能量小，抛光去除率低，因此抛光后工件表面粗糙度高；随着电解质溶液中硫酸铵浓度增加，电解质溶液的导电性变好，气层趋于稳定，抛光去除率升高，抛光后表面粗糙度降低；但随着硫酸铵浓度进一步增加，电解质溶液电导率升高，工件单位面积轰击的次数和能量增多，导致表面过轰击，抛光后表面粗糙度升高。0.60.50.40.30.20.104.254.504.755.00Ammonium sulfate concentration c/(wt.%)图：硫酸铵浓度对工件表面粗糙度的影响(U=200 V,t=4min,h=4 cm,T=88,铜合金阳极挂具材料）Fig.8 Influence of ammonium sulfate concentrationon the surface roughness of the workpiece(U=200 V,t=4 min,h=4 cm,T=88,anode rack materials was copper alloy)2.4初始温度如图9显示了电解质初始温度对电解质等离子体抛光后的表面粗糙度的影响趋势，可以看出，随着初始温度的升高，抛光后工件表面粗糙度总体呈下降的趋势。电解质初始温度对电解质等离子体抛光过程中的稳定气层的形成有重要影响，随着初始温度的升高，抛光过程中气层越来越稳定，形成稳定的等离子放电，因此抛光后表面粗糙度降低。0.60.50.40.30.20.1085889194Initial temperatureT/图9 花初始温度对工件表面粗糙度的影响(U=200 V,t=4 min,h=4 cm,4.75%(NH4)2SO4,铜合金阳极挂具材料）Fig.9Influence of initial temperature on the surfaceroughness oftheworkpiece(U=200 V,t=4 min,h=4 cm,4.75%(NH4)2SO4,anode rack materials was copper alloy)2.5工件入