g-C_3N_4_介孔Ti...催化还原Cr(Ⅵ)试验研究_汪益林.pdf

第4 2卷第3期(总第1 8 9期)2 0 2 3年6月湿法冶金H y d r o m e t a l l u r g yo fC h i n aV o l.4 2N o.3(S u m.1 8 9)J u n e2 0 2 3g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究汪益林,高 博,张留科,徐 浩,邢玉鲁,史焕鑫,赵宝秀(青岛理工大学 环境与市政工程学院,山东 青岛 2 6 6 0 0 0)摘要:研究了通过溶胶-凝胶共混法制备g-C3N4/介孔T i O2复合催化剂,并用于光催化还原C r(),分析了g-C3N4/介孔T i O2光 催 化 还 原 性 能 及 稳 定 性。结 果 表 明:g-C3N4与 介 孔T i O2最 佳 掺 杂 比 为15,g-C3N4/介孔T i O2比表面积为1 3 7.0 6 1m2/g;吸收边界红移至可见光区域,禁带宽度为2.6 4e V;g-C3N4/介孔T i O2在C r()初始质量浓度1m g/L、溶液p H=5、催化剂投加量1.6g/L、未添加无机离子条件下反应4 5m i n,光催化还原率高达1 0 0%;可见光照射下,g-C3N4/介孔T i O2产生的光生电子可将吸附在催化剂表面上的C r()还原成C r(),反应更符合准一级反应动力学模型;催化剂循环使用7次后,对废水中C r()的去除率仍保持在8 3%以上,具有潜在应用价值。关键词:g-C3N4/介孔T i O2;复合催化剂;光催化还原;C r()中图分类号:TQ 4 2 6;X 7 0 3 文献标识码:A 文章编号:1 0 0 9-2 6 1 7(2 0 2 3)0 3-0 2 8 2-0 9 D O I:1 0.1 3 3 5 5/j.c n k i.s f y j.2 0 2 3.0 3.0 1 1收稿日期:2 0 2 2-1 2-1 2第一作者简介:汪益林(1 9 9 4),男,硕士研究生,主要研究方向为水污染控制理论与技术。通信作者简介:赵宝秀(1 9 7 8),女,博士,副教授,主要研究方向为水污染控制理论与技术。E-m a i l:z h a o b a o x i u t s i n g h u a.o r g.c n。引用格式:汪益林,高博,张留科,等.g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究J.湿法冶金,2 0 2 3,4 2(3):2 8 2-2 9 0.含铬废水主要来自采矿、冶金、电镀、制革、重铬酸盐化工生产及铬渣处理等行业1-2,其中的铬一般以C r()形式存在,含C r()废水未经处理排放会对周边的水、土壤及生态环境造成污染。目前,去除废水中C r()的方法主要有物理法和化学法3-4。物理法是通过物理吸附分离富集铬,包括物理吸附、膜分离法等;化学法是将C r()还原为C r(),使其生成化学沉淀去除铬,包括化学沉淀法、电化学法、化学还原法等5-6。这2种方法虽能去除废水中的C r(),但都存在一定局限性和缺陷。相较而言,光催化还原法更绿色、安全、高效,它是利用半导体催化剂转化光能生成光生电子(e-),将废水中的C r()还原为C r(),达到去除铬的目的。该法具有条件温和、操作简便、反应快速、成本低7等优点,被认为是去除废水中铬最具前景的技术之一8。目前,关于光催化还原法去除废水中C r()已有一些研究,如采用水热预处理前驱体法制备的吡啶环改性g-C3N4,在模拟日光照射3h条件下,C r()去除率为8 3%9;采用溶胶-凝胶水热法制备的L a2O3/T i O2,在可见光 照 射3 h条 件 下,C r()去 除 率 为7 8.7%1 0。采用溶胶-凝胶法制备的磁性纳米材料F e3O4T i O2,在可见光照射下,C r()去除率高达9 9.8 5%1 1,说 明空穴牺 牲 剂 能 有 效 提 高C r()去除率。试验研究了采用热缩合法制备g-C3N4,再通过溶胶-凝胶共混法制备g-C3N4/介孔T i O2复合光催化剂,并用于光催化还原C r()。考察了溶液初始p H、C r()初始质量浓度、催化剂投加量和添加无机离子对g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()效率的影响。以期为去除废水中的C r()提供一种有效的光催化剂。1 试验部分1.1 试剂与仪器乙酸、钛酸四丁酯、尿素及重铬酸钾,国药集团化学试剂有限公司;无水乙醇、C T A B(十六烷基三甲基溴化铵),天津富宇精细化工有限公司;第4 2卷第3期汪益林,等:g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究硫酸,三和化学试剂有限公司;二苯碳酰二肼,天津市瑞金特化学品有限公司。以上试剂均为分析纯。X-p e r t 3型X射线衍射仪,荷兰帕纳科;G e n i m i3 0 0型热场发射扫描电子显微镜,德国蔡司;J E M-2 1 0 0 F型场发射透射电子显微镜,日本电子;S S A-4 0 0 0型比表面积及孔径分析仪,彼奥德电子;U V3 6 0 0 ip l u s型紫外分光光度计,日本岛津;E s c a l a b2 5 0 X i型多功能X射线能谱仪,美国赛默飞。1.2 g-C3N4/介孔T i O2的制备热缩合法制备g-C3N4:在坩埚中装入2 0g尿素置于烘箱中,以8/m i n的速度将温度从室温升至4 5 0,煅 烧3h后 得 到 黄 色 固 体,研 磨3 0m i n,得g-C3N4粉体。在课题组前期研究结果1 2基础上,采用溶胶-凝胶共混法制备g-C3N4/介孔T i O2。取1 0m L乙醇、5m L去离子水、2 0 m L乙酸、0.1 5gC T A B和0.2 4gg-C3N4配制成溶液A。将溶液A置于磁力搅拌器上,以4 0 0r/m i n搅拌速度搅拌3 0m i n。取5 0m L乙醇加入到5m L钛酸四丁酯中配制成溶液B。将溶液A逐滴加入到溶液B中,持续磁力搅拌,得到溶液C。将溶液C置于烘箱中,首先在7 0 下烘干,之后将温度升至1 0 5,干燥2h,得到黄色颗粒。将黄色颗粒研磨成粉末,置于马弗炉中,以1 0/m i n速度将温度从室温升至4 5 0,煅烧2h,得g-C3N4/介孔T i O2粉体。1.3 g-C3N4/介孔T i O2的结构表征采用X射线衍射仪分析观察表面晶相组成,采用热场发射扫描电子显微镜分析表面形貌,采用场发射透射电子显微镜表征形貌,采用S S A-4 0 0 0型比表面积及孔径分析仪分析比表面积及孔径,采用紫外分光光度计分析光吸收及禁带宽度,采用多功能X射线能谱仪分析表面成分。1.4 g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()光催化反应在烧杯中进行。以2 0 0 W氙灯作为光源,在烧杯中加入1m g/L重铬酸钾溶液2 0 0m L和g-C3N4/介孔T i O2粉末0.0 8g,在避光条件下搅拌3 0m i n,直至C r()在催化剂表面达到催化还原反应平衡。开启氙灯,每隔一定时间取样,经0.2 2m膜过滤,采用二苯碳酰二肼分光光度法测溶液中C r()浓度,计算C r()去除率(y)。计算公式为y=0-01 0 0%。式中:0C r()初始质量浓度,m g/L;反应不同时间后C r()质量浓度,m g/L。2 试验结果与讨论2.1 g-C3N4与介孔T i O2掺杂比对光催化还原C r()的影响在溶液初始p H=5、催化剂投加量0.2g/L、C r()初始质量浓度1m g/L、未添加无机离子条件下,g-C3N4与介孔T i O2掺杂比对光催化还原C r()的影响,结果如图1所示。图1 g-C3N4与介孔T i O2掺杂比对光催化还原C r()的影响 由图1看出:g-C3N4与介孔T i O2掺杂比为15时,g-C3N4/介孔T i O2对C r()的光催化还原效果最 佳,去除率达8 6.1%;掺杂比 小于15时,随g-C3N4掺杂量增大,电荷转移能力增强,光生载流子复合率下降,使C r()去除率提高;掺杂比大于15时,过多的g-C3N4覆盖在介孔T i O2的表面活性位点上,使活性吸附点位减少,降低了C r()还原性能,导致C r()去除率降低。2.2 g-C3N4/介孔T i O2的结构表征2.2.1 X R D表征g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的X R D图谱如图2所示。可以看出:g-C3N4由共轭平面的石墨状结构组成,因此,(0 2)晶面在2 7.5 出现了1个较强的衍射峰1 3;而平面3-s-三嗪结构的g-C3N4的(1 0 0)晶面在1 3.0 有1个较弱的衍射峰1 4;锐钛矿型T i O2的(1 0 1)、(0 4)、(2 0 0)、(1 0 5)、(2 1 1)、(2 0 4)、(1 1 6)、(2 2 0)和(2 1 5)晶面 对 应 的 特 征 峰 分 别 出 现 在2 5.4、3 7.8、4 8.1、5 3.9、5 5.1、6 2.7、6 8.7、7 0.3 和7 5.1 处1 5,这 与 介 孔T i O2的 衍 射 峰 相 一 致;382 湿法冶金 2 0 2 3年6月g-C3N4/介孔T i O2在2 7.5 并未出现g-C3N4的特征峰,可能是因为掺杂的g-C3N4量较少1 6;介孔T i O2的衍射峰与g-C3N4/介孔T i O2的衍射峰相对应,表明g-C3N4并未进入介孔T i O2的晶格里,仅在表面吸附1 7。图2 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的X R D图谱2.2.2 S EM、T EM和H R T EM表征g-C3N4/介孔T i O2的S E M、T E M和H R T E M表征结果如图3所示。由图3(a)看出:g-C3N4/介孔T i O2复 合 催 化 剂 的 微 观 结 构 呈 现 出“芝 麻饼”1 8,不同直径的介孔T i O2微颗粒沉积并散布在g-C3N4片 上;由 图3(b)看 出:微 小 的 介 孔T i O2球体分散在g-C3N4表面,表明g-C3N4/介孔T i O2制 备 成 功;由 图3(c)看 出:g-C3N4/介 孔T i O2有2种不同的晶格条纹,晶格平面间距分别为0.3 5n m和0.3 3n m,这与锐钛矿型T i O2(1 0 1)和g-C3N4(0 2)的衍射平面非常吻合1 9-2 0,表明介孔T i O2颗粒成功负载到g-C3N4表面,且不会影响介孔T i O2结构。aS EM;bT EM;cHR T EM。图3 g-C3N4/介孔T i O2的S EM(a)、T EM(b)和H R T EM(c)分析结果2.2.3 比表面积分析g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的N2吸 附脱 附 等 温 线 和 孔 径 分 布 如 图4所示。ag-C3N4;b介孔T i O2;cg-C3N4/介孔T i O2。图4 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的N2吸附脱附等温线和孔径分布 由图4(a)看出:相对压力(p/p0)在0.61.0之间时,N2吸附量大幅提升,表明g-C3N4表面存在介孔结构;g-C3N4的N2吸附脱附等温线出现明显的滞后环,属于L a n g m u i r 型等温线。由图4(b)看出:介孔T i O2的N2吸附脱附等温线有明显的滞后环,属于典型的L a n g m u i r(a)型等温线;p/p0较低时,N2吸附量随p/p0增大逐渐升高,这是N2分子以单层或者多层吸附在孔隙表面所致;p/p0在0.50.9之间时,482第4 2卷第3期汪益林,等:g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究N2吸附量随p/p0增大产生突跃,这是介孔内的N2发生毛细凝结作用所致;p/p0大于0.9后,N2吸附量趋于饱和,这是材料外表面的多层分子吸附所致2 1。由图4(c)看出:g-C3N4/介 孔T i O2的吸附脱附 等温线没有 滞后环且呈 现阶梯状,属 于典型的L a n g m u i r 型 等 温 线,表明g-C3N4/介 孔T i O2的 表 面 化 学 性 质 较 为均匀。g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的表面性能参数见表1。可以看出:g-C3N4/介孔T i O2平均孔径大于介孔T i O2的平均孔径,这可能是部分g-C3N4吸附于介孔T i O2的介孔内部所致,在一定程度上说明g-C3N4成功负载到介孔T i O2上2 2。表1 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2的表面性能参数光催化剂B E T比表面积/(m2g-1)孔体积/(c m3g-1)平均孔径/n mg-C3N43 8.5 2 90.2 2 31 1.5 7介孔T i O28 3.9 8 30.3 3 98.0 6g-C3N4/介孔T i O21 3 7.0 6 10.5 1 27.4 72.2.4 紫外-可见漫反射表征g-C3N4和g-C3N4/介孔T i O2光催化剂的紫外-可见 漫 反 射 图 谱 如 图5所 示。可 以 看 出:g-C3N4在紫外范围有大量吸收,而在可见光波长范围内只有少量吸收;g-C3N4/介孔T i O2吸收范围拓展到可见光区,最大吸收波长相较于介孔T i O2有红移,禁带宽度为2.6 4e V。ag-C3N4;bg-C3N4/介孔T i O2。图5 g-C3N4和g-C3N4/介孔T i O2的紫外-可见漫反射图谱2.2.5 X射线电子能谱表征为分析样品元素组成、化学价态及稳定性,对g-C3N4/介孔T i O2进 行X P S分 析,包 括C r2p、C1s、N 1s、O 1s和T i2p的X P S窄 谱 及 全谱1 6,2 3-2 4,结果如图6、7所示。图6 光催化前、后g-C3N4/介孔T i O2的X P S全谱 对比图7(a)和(b)看出:C r()的C r2p3/2轨道对应 结 合 能5 7 7.0 05 7 8.0 0e V,C r()的C r2p3/2轨道对应结合能5 8 0.0 05 8 0.5 0e V2 5,说明C r()比C r()结合能更高,吸引电子能力更强。图7(a)的5 7 7.8 3e V处有1个特征峰,图7(b)的5 7 7.8 3和5 8 0.0 1e V处有2个特征峰,这可 能 是 由 污 染 物 中 部 分C r()被 还 原 为C r()。由图7(c)看出:2 8 4.8 6、2 8 7.9 2e V处分别出现1个特征峰,前者为处理过程中引入的杂质碳,后 者为N2CN2 6。由图7(d)看 出:3-s-三 嗪环中的N1s轨道对应的CNC和NC3,结合能分别为3 9 8.5 2、4 0 0.0 8e V,且不存在典型的T iN氮掺杂的电子结合能级峰,说明不存在氮元素掺杂进入T i O2晶格内。由图7(e)看出:5 3 0.0 6、5 3 1.7 6e V处出现的2个特征峰,分别 对 应T iO和 样 品 表 面 羟 基 基 团。由图7(f)看出:T i 2p1/2和T i 2p3/2的结合能分别为4 5 8.8 9、4 6 4.6 1e V。582 湿法冶金 2 0 2 3年6月a暗吸附3 0m i n后C r2p窄谱;b光催化吸附1h后C r2p窄谱;cC1s窄谱;dN1s窄谱;eO1s窄谱;fT i 2p窄谱。图7 光催化前、后g-C3N4/介孔T i O2的X P S窄谱2.3 各因素对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响2.3.1 C r()初始质量浓度的影响在溶液初始p H=5、催化剂投加量0.2g/L条件下,C r()初 始 质 量 浓 度 对g-C3N4/介 孔T i O2光催化性能的影响试验结果如图8所示。图8 C r()初始质量浓度对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响 由图8看出:g-C3N4/介孔T i O2对C r()的去除率随C r()初始质量浓度增大而降低,主要原因是C r()浓度增大,使得溶液颜色变深,导致透光率下降,从而影响光催化还原去除率。2.3.2 溶液初始p H的影响在溶液中C r()初始质量浓度1m g/L、催化剂投加量0.2g/L条件下,溶液初始p H对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响试验结果如图9所示。可以看出:g-C3N4/介孔T i O2对C r()的去除率随p H升高而降低。g-C3N4和介孔T i O2的等电点分别为5.1和5.52 7-2 8。p H在57之间时,C r()以HC r O-4形式存在;p H在79之间时,C r()以C r O2-4形式存在,p H大于9时,C r()以C r2O2-7形式存在2 9。所以,初始p H大于5时,g-C3N4/介孔T i O2表面带负电荷,此时C r()以阴离子形式存在,p H越高,682第4 2卷第3期汪益林,等:g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究g-C3N4/介孔T i O2表面负电荷越多,在库伦斥力作用下对C r()的吸附性能越弱,导致光催化还原去除率降低。图9 溶液初始p H对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响2.3.3 催化剂投加量的影响在溶液中C r()初始质量浓度1m g/L、初始p H=5条件下,催化剂投加量对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响试验结果如图1 0所示。0.0 5g/L;0.2g/L;0.8g/L;0.1g/L;0.4g/L;1.6g/L。图1 0 催化剂投加量对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响 由图1 0看出:g-C3N4/介孔T i O2对C r()的去除率随催化剂投加量增大而升高。催化剂投加量越大,单位体积内催化剂与C r()碰撞概率越大,会有更多HC r O-4吸附在催化剂表面,使得光催化还原去除率提高。2.3.4 共存离子的影响在溶液中C r()初始质量浓度1m g/L、初始p H=5、催化剂投加量0.8g/L条件下,共存离子对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响试验结果 如 图1 1所 示。可 以 看 出:共 存 的C l-和NO-3离子会抑制光催化反应。在p H=5条件下,g-C3N4/介孔T i O2表面带正电,C l-、NO-3和HC r O-4带负电会在催化剂表面形成吸附竞争,导致C r()去除率降低。图1 1 共存离子对g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的影响2.4 循环再生性能测试在溶液初始p H=5、催化剂投加量0.2g/L、C r()初始质量浓度1m g/L、未添加无机离子条件下,对g-C3N4/介孔T i O2催化剂循环再生7次,并光催化还原废水中的C r(),每次还原C r()后g-C3N4/介孔T i O2用纯水清洗、过滤、烘干后再进行试验。g-C3N4/介孔T i O2的循环再生性能测试结果如图1 2所示。图1 2 g-C3N4/介孔T i O2的循环性能测试结果 由图1 2看出:经7次循环再生,g-C3N4/介孔T i O2对废水中C r()的去除率仍保持在8 3.6%。说明g-C3N4/介孔T i O2的光催化性能较稳定。2.5 光催化反应动力学在溶液初始p H=5、催化剂投加量0.2g/L、C r()初始质量浓度1m g/L、未添加无机离子条件下,g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()的性能对比试验结果如图1 3所示。782 湿法冶金 2 0 2 3年6月图1 3 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2光催化性能的对比 由图1 3看出,3种还原剂光催化还原C r()的性 能 排 序 依 次 为:g-C3N4/介 孔T i O2介 孔T i O2g-C3N4,g-C3N4/介孔T i O2对C r()去除率 最 高,约 为g-C3N4的6倍、介 孔T i O2的2倍。这是因为g-C3N4/介孔T i O2的异质结有效的抑制了电子-空穴对的复合3 0,提高了光催化还原率3 1。可能发生的还原反应如下:g-C3N4/介孔T i O2h vh+e-;HC r O-4+7 H+3 e-C r3+4 H2O。采用准一级、准二级动力学模型对上述试验数据进行拟合,拟合曲线如图1 4所示,拟合相应参数见表2。可以看出:准一级动力学模型拟合相关 度(r20.9 5)高 于 准 二 级 动 力 学,表 明g-C3N4/介孔T i O2在可见光下光催化还原C r()的过程更符合准一级动力学模型。准一级动力学方程:l n(0/)=k1t;准二级动力学方程:1t-10=k2t。式中:0光催化反应C r()初始质量浓度,m g/L;t光催化t时间时C r()质量 浓 度,m g/L;k1准一 级 反 应 动 力 学 表 观 反 应 速 率 常 数,m i n-1;k2准二级反应动力学表观反应速率常数,m i n-1;t反应时间,m i n。图1 4 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()的准一级(a)、准二级(b)动力学拟合曲线表2 g-C3N4、介孔T i O2和g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()的动力学拟合参数光催化剂准一级反应动力学准二级反应动力学方程k1/m i n-1r21方程k2/m i nr22g-C3N4l n(0/t)=0.0 0 24t+0.0 2 580.0 0 240.9 6 261/t-1/0=0.0 0 32t+0.0 0 750.0 0 320.9 8 02介孔T i O2l n(0/t)=0.0 0 67t-0.0 2 930.0 0 670.9 9 801/t-1/0=0.0 1 42t-0.3 4 120.0 1 420.9 3 47g-C3N4/介孔T i O2l n(0/t)=0.0 1 40t-0.2 1 050.0 1 400.9 5 741/t-1/0=0.0 8 2t-3.8 8 510.0 8 220.6 5 703 结论采用溶胶-凝胶共混法可制备g-C3N4/介孔T i O2光 催 化 还 原 剂。在 含C r()溶 液 初 始p H=5、C r()初始质量浓度1m g/L、催化剂投加量0.2g/L、未添加无机离子条件下,g-C3N4/介孔T i O2对C r()的去除率约为介孔T i O2的2倍、g-C3N4的6倍。g-C3N4/介孔T i O2光催化还原C r()的反应过程符合准一级反应动力学模型。循环使用7次后,g-C3N4/介孔T i O2对废水中C r()的去除率仍保持在8 3.6%,具有较好的稳定性。参考文献:1 N R I A GUJO,P A C YNAJM.Q u a n t i t a t i v ea s s e s s m e n to fw o r l d w i d ec o n t a m i n a t i o no fa i r,w a t e ra n ds o i l sb yt r a c e882第4 2卷第3期汪益林,等:g-C3N4/介孔T i O2的制备及可见光下光催化还原C r()试验研究m e t a l sJ.N a t u r e,1 9 8 8,3 3 3(6 1 6 9):1 3 4-1 3 9.2 WAN GY,S U H,GUY,e t a l.C a r c i n o g e n i c i t yo f c h r o m i u ma n dc h e m o p r e v e n t i o n:ab r i e fu p d a t eJ.O n c oT a r g e t sa n dT h e r a p y,2 0 1 7,1 0:4 0 6 5-4 0 7 9.3 X I E Y,L I N J,L I AN G J,e t a l.H y p e r c r o s s l i n k e dm e s o p o r o u sp o l y(i o n i cl i q u i d)sw i t hh i g hd e n s i t yo fi o np a i r s:e f f i c i e n ta d s o r b e n t sf o r C r()r e m o v a lv i ai o n-e x c h a n g eJ.C h e m i c a lE n g i n e e r i n gJ o u r n a l,2 0 1 9,3 7 8.D O I:1 0.1 0 1 6/j.c e j.2 0 1 9.1 2 2 1 0 7.4 HEPY,Z HAN GYJ,C HE N H,e ta l.L o w-c o s ta n df a c i l es y n t h e s i so fg e o p o l y m e r-z e o l i t ec o m p o s i t e m e m b r a n ef o rc h r o m i u m()s e p a r a t i o n f r o ma q u e o u s s o l u t i o nJ.J o u r n a lo f H a z a r d o u s M a t e r i a l s,2 0 2 0,3 9 2.D O I:1 0.1 0 1 6/j.j h a z m a t.2 0 2 0.1 2 2 3 5 9.5 YU G,F U F,Y E C,e ta l.B e h a v i o r sa n df a t eo fa d s o r b e dC r()d u r i n gF e()-i n d u c e dt r a n s f o r m a t i o n o ff e r r i h y d r i t e-h u m i c a c i dc o-p r e c i p i t a t e sJ.J o u r n a lo fH a z a r d o u sM a t e r i a l s,2 0 2 0,3 9 2.D O I:1 0.1 0 1 6/j.j h a z m a t.2 0 2 0.1 2 2 2 7 2.6 YAN G X,L I U L,Z HAN G M,e ta l.I m p r o v e dr e m o v a lc a p a c i t y o f m a g n e t i t e f o r C r()b y e l e c t r o c h e m i c a lr e d u c t i o nJ.J o u r n a lo fH a z a r d o u s M a t e r i a l s,2 0 1 9,3 7 4:2 6-3 4.7 赵鑫,孙 好 芬,宫 震,等.改 性T i O2光 催 化 剂 催 化 降 解C r()的研究进展J.湿法冶金,2 0 2 2,4 1(5):3 8 4-3 9 3.8 张凯欣.可见光下T i O2和A g/T i O2光催化还原C r()及机理研究D.青岛:青岛理工大学,2 0 1 9.9 刘方远,刘亚男,陆帅帅,等.吡啶环改性石墨相氮化碳光催化还原C r()的研究J.中 国环境科学,2 0 2 2,4 2(7):3 1 3 0-3 1 3 9.1 0 徐志兵,李晨君,卢伍阳.光敏化L a2O3/T i O2催化剂的制备及其光催化性能研究J.人工晶体学报,2 0 1 5,4 4(2):5 4 2-5 4 5.1 1 王子帅,王耀强,肖刚,等.磁性纳米F e3O4T i O2可见光下光催 化 还 原C r()J.化 工 学 报,2 0 1 9,7 0(1 0):4 0 6 2-4 0 7 1.1 2 张艳青,纪庆鹏,黄悦,等.模板法制备介孔T i O2及其在模拟太阳光下光催化还原C r()性能的研究J.化工新型材料,2 0 2 2,5 0(2):1 7 6-1 8 0.1 3 苏海英,王盈霏,王枫亮,等.g-C3N4/T i O2复合材料光催化降解布洛芬的机制J.中国 环境科学,2 0 1 7,3 7(1):1 9 5-2 0 2.1 4 孟雅丽.g-C3N4的合成及其光催化研究D.大连:大连理工大学,2 0 1 1.1 5 薛虹云,王聪宇,A S A DM,等.二维g-C3N4与A g-T i O2复合光催化剂降解气态乙醛抗失活研究J.无机材料学报,2 0 2 2,3 7(8):8 6 5-8 7 2.1 6 傅遍红,郭淑慧,傅敏,等.g-C3N4/T i 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e d i a t i o nf r o ma q u e o u s e n v i r o n m e n t t h r o u g hm o d i f i e d-T i O2-m e d i a t e dp h o t o c a t a l y t i cr e d u c t i o nJ.B e i l s t e i nJ o u r n a lo fN a n o t e c h n o l o g y,2 0 1 8,9(1):1 4 4 8-1 4 7 0.3 0 N ISY,F UZR,L IL,e t a l.S t e p-s c h e m eh e t e r o j u n c t i o ng-C3N4/T i O2f o r e f f i c i e n t p h o t o c a t a l y t i c d e g r a d a t i o n o ft e t r a c y c l i n eh y d r o c h l o r i d eu n d e rUVl i g h tJ.C o l l o i d s a n dS u r f a c e s:A,2 0 2 2,6 4 9.D O I:1 0.1 0 1 6/j.c o l s u r f a.2 0 2 2.1 2 9 4 7 5.3 1 KHA Z A E EZ,MAH J OU B A R,KHAVA R A H,e ta l.S u b-l e v e l e n g i n e e r i n gs t r a t e g yo fn i t r o g e n-i n d u c e dB i2O3/g-C3N4:a v e r s a t i l e p h o t o c a t a l y s t f o r o x i d a t i o n a n dr e d u c t i o nJ.E n v i r o n m e n t a l S c i e n c e a n d P o l l u t i o nR e s e a r c h,2 0 2 1,2 8(3 6):5 0 7 4 7-5 0 7 6 6.982 湿法冶金 2 0 2 3年6月P r e p a r a t i o no f g-C3N4/M e s o p o r o u sT i O2a n dV i s i b l e-l i g h t-d r i v e nP h o t o