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利音股份有限公司
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产 品 名 称
ITO 卷筒薄膜溅镀系统
产 品 型 号
RaON1300
制 造 供 应 商
VTS Corporation
项 目
规 格
整套系统结构
◆ 应 用
这套系统设计作为SiO2/ITO单面溅镀软性塑料材料, 特别是PET这类塑料基材.
◆ 整套系统结构
1. 主要制程系统
2. 再卷线 (Re-winding) / 展开卷线(Un-winding)系统
3. 真空帮浦系统
4. 预热单元
5. 预处理单元
6. 溅镀系统
7. 电子控制系统
8. 效用
项 目
规 格
◆ 系统结构
1. 系统空间
2. 基础薄膜规格
3. 卷线(winding)系统
4. 真空帮浦系统
5. 预热单元
6. 预处理单元 (离子束单元)
7. 溅镀系统
8. 电子控制系统
9. 系统效用与销售条件
10. 真空测试
11. 镀膜
1. 系统空间
◆ 尺 寸
4.37(宽) x 7.05(长) x 2.60(高)公尺
2. 基本薄膜规格
◆ 规 格
¨ 产品 : 应用于触控式面板
¨ 薄膜材料 : 光学硬化处理 PET 薄膜
¨ 薄膜厚度 : 25 ~ 200um
¨ 薄膜宽度 : 1,340mm
¨ 镀膜宽度 : 1,300mm
¨ 有效镀膜宽度 : 1,250mm
¨ 薄膜长度 (薄膜卷线直径) : 1,000M (Ø600mm)@188um
¨ 结构 : PET / SiO2 /ITO
3. 卷线系统
◆ 组 成
¨ 薄膜速度范围 : 0.5 ~10m/min (step 0.1m/min)
¨ 薄膜速度稳定性 : + 0.1% (at 10m/min)之内
¨ 薄膜张力范围 : 24 ~ 180N Load cell
¨ 薄膜张力稳定性 : + 5N (在静止状况)之内
¨ 工作速度 : > 3m/min
¨ 薄膜速度方向 : 正常 / 反转卷线 (3m/min)
¨ 冷却系统温度 : 温度 10℃ ~ 室温
² 冷却时间 : 15 min. @Room Temp. 10℃
² 加热时间 : 15 min. 10℃ Room Temp.
¨ 驱动马达 : 伺服马达系统 (UW, MR, RW)
¨ 滑行, 凹陷, 皱纹, 刮伤 : 无
¨ 薄膜移动 : + 0.5mm
项 目
规 格
4. 真空帮浦系统
4.1 主要帮浦系统
² Cryo pump, 2,400 liter/sec : 8 ea
² 机械 booster pump, 30,000 liter/min : 2 ea
² Rotary pump, 4,000 liter/min : 7ea
² Poly cold 100,000 liter/sec (展开卷线区, 阴极区) : 1 ea
4.2 真空测量计单元
² Pirani gauge : 8 ea
² Baratron vacuum gauge : 4 ea
² Full range gauge : 6 ea
4.3 气体供应单元
² MFC for 预处理 : Ar gas/range 1,000sccm : 1 ea
O2 gas/range 200sccm : 1 ea
² MFC for ITO 溅镀 : Ar gas / range 1,000sccm : 8 ea
O2 gas/range 200sccm : 8 ea
² MFC for SiO2 溅镀 : Ar gas / range 1,000sccm : 3 ea
O2 gas/range 200sccm : 3 ea
O2 gas/range 50sccm : 3 ea
5. 预热单元
◆ 组 成
¨ 卤素灯 : Approx. 12mm x 1,450mm (L) ... 1 sets
¨ PID control unit : PLC control (temp. control) … 1 sets
¨ SCR unit : 1 Phase, 110 Vac, Approx, 15KW
¨ 温度范围 : 最大. 200℃
6. 预处理单元
6.1 操作规格
² 离子源型态 : 正极层离子加速器I …1 ea
² 离子能源 : 400 ~ 2,500eV
² 正极电压 : 0.7 ~ 5KV
² 放出电流 : 4.2mA/sm slit
² 离子电流 : 1.1 ~ 1.3A
² 工作压力 : 5 x 10¯4 torr
² 代表气流 : Ar :1,000sccm / O2:200sccm … 1 ea
6.2 水冷却
² 最小水流 : 5 liter/min
² 最大进水温度 : Min. 15℃
² 最大水阻 : 50 kΩ-cm
项 目
规 格
7. 溅镀系统
7.1 操作规格
7.1.1 电源
ITO : Pulse DC 12KW … 4 sets
SiO2 : MF 40KW … 1 set
7.1.2 靶材
ITO : In203/SnO2 (90/10wt%)
SiO2 : Si target
7.1.3 电力密度
ITO : 1~5 W/c㎡
SiO2 : 1~7 W/c㎡
7.1.4 靶材尺寸 : Approx.125mm(W) X 1,650mm(L) X 6mm (t)
7.1.5 靶材利用率 : 25~30% both of Si and ITO
7.1.6 阴极数量
ITO : 单磁阴极 …4 sets
SiO2 : 双磁阴极 …1 set
7.1.7 工作压力 : ~2 x 10¯3 torr
7.1.8 代表气流
ITO : Ar :1,000sccm / O2:100sccm
SiO2 : Ar :1,000sccm / O2:100 + 50sccm
7.2 所有操作模式
² 绝缘 : > 500V 真空 (Anode – Cathode-Ground)
² 最大进水压力 : 3Kgf/c㎡
² 最大进水温度 : Min. 15℃
² 水阻 : 50kΩ-cm
8. 电子控制系统
8.1 接口方法
² 机器 – PLC : Digital I/O, Analog I/O, RS232C,RS485
² PLC – GUI (Touch screen) : Mitsubishi controller
² PLC – PC : Ethernet
² PLC – Remote PC : Ethernet (Option)
8.2 电子控制的优点
² 人工操作 / 半自动 / 全自动预转
² 安全连锁
² 独立计算机程序处理
² 处理过程实时监控
² 数据处理反馈与曲线图绘制功能
² 预防操作失误
² 容易的电子线路联机
² 卷线控制模式 (4 款模式 :Un/W and Re/W)
² 薄膜张力个别控制 (Un/W and Re/W)
8.3 量测单元
² 原地电组测试单元 (Guide roll contact type)
² 实时监控与测试数据绘制图形
项 目
规 格
9. 系统效用与销 售条件
9.1 效用
² 主要动力 : 380V or 220V, 3 phase, 60Hz or 50Hz
² 动力消耗 : approx. 400KW
² 空气 : 3 ~ 4.5Kg/c㎡, 100 liter/min
² 水 : 3Kg/ c㎡, 大于 400 liter/min, min.15℃
9.2 交货 : 订单签约后 5个月 (装船)
9.3 保证
² 档案配置后提供 12 个月保证
² 在12个月结束候后可以提供维护保养合约
10. 真空测试
10.1 最后压力测试
² 系统的干燥、清洁、清空
² < 5.0 x 10¯6 torr 在溅镀区,帮埔运转 12小时
10.2 帮埔速度
² 系统承载一卷PET film尺寸 : 1,300mmW x 1,000mL x 188umT)
² 溅镀压力 < 5.0x10¯5 torr in less than 60min.
10.3 渗透测试 : 小于 5.0x10¯8 torr liter/sec (氦渗透侦测)
11. 镀膜测试
11.1 ITO 材料
溅镀 PET, 188um厚度, 溅镀宽度 1,250mm, 溅镀厚度ㄧ致性在 +5%;
单面磁阴极溅镀, 溅镀速度 3m/min 在最小 250A, 表面阻抗近似
400Ω/cm²
穿透度相对于未溅镀前约 -4%.
11.2 SiO2 材料
溅镀 PET, 188um厚度, 溅镀宽度 1,250mm, 溅镀厚度ㄧ致性在 +5%
; 单一双磁性阴极溅镀, 溅镀速度在最小120A时为 3m/min
11.3 黏胶测试
100% (1mm Step 10 x 10 cut, 3M 610. Cross cut tape test (JIS))
溅镀、电子束/热蒸发器、热CVD,PECVD, RTA, PLD, MBE, 蚀刻器,
IBAD, 系统升级, CVD 气体线路, 真空配件…等等
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