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单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,*,*,TFT LCD简介与生产工艺流程,2025/1/28,2,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,TFT-LCD Structure&Principium,TFT,T,hin,F,ilm,T,ransistor,薄膜电晶体,LCD,L,iquid,C,rystal,D,isplay,液晶显示器,由于,TFT-LCD,具有体积小,重量轻,低辐射,低耗电量,全彩化等优点,因此在各类显示器材上得到了广泛的应用。,2025/1/28,4,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,TFT-LCD,显示原理,液晶简介,光与液晶分子产生的效果,偏光板的特性,将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果,TFT-LCD,显像原理,2025/1/28,5,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,TFT-LCD使用的液晶为TN(Twist Nematic)型液晶,液晶分子呈椭圆状。,TN,型液晶一般是顺着长轴方向串接,长轴间彼此平行方式排列。,当接触到槽装表面时,液晶分子就会顺着槽的方向排列于槽中。,液晶简介,2025/1/28,6,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,光与液晶分子产生的效果,当线性偏极光射入上层槽状表面时,此光线随着液晶分子的旋转也产生旋转。,当线性偏极光射出下层槽状表面时,此光线已经产生了,90,度的旋转。,2025/1/28,7,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,偏光板的特性,作用:将非偏极光(一般光线)过滤成偏极光。,当非偏极光通过a方向的偏光片时,光线被过滤成与a方向平行的线性偏极光。,右上图:线性偏极光继续前进,通过 第二片偏光片时,光线通过。,右下图:通过第二片时,光线被完全 阻挡。,2025/1/28,8,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果(1),当上下偏光片相互垂直时,若未施加电压,光线可通过。,2025/1/28,9,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,当施加电压时,光线被完全阻挡。,将偏光板、槽状表面、液晶组合后产生的光学效果(2),TFT LCD简介与生产工艺流程,TFT-LCD显像原理(1),sunyes,TFT-LCD显像原理(2),sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,2025/1/28,12,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Color Filter Fabrication Process,TFT Array Process,Liquid Crystal Cell Process,Module Assembly Process,TFT-LCD Process,2025/1/28,13,C/F Process,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,2025/1/28,14,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,ITO,透明导电层的作用,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,2025/1/28,16,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,因,TFT,组件的动作类似一个开关,(Switch),,液晶组件的作用类似一个电容,藉,Switch,的,ON/OFF,对电容储存的电压值进行更新,/,保持。,SW ON,时信号写入,(,加入、记录,),在液晶电容上,在以外时间,SW OFF,,可防止信号从液晶电容泄漏。,在必要时可将保持电容与液晶电容并联,以改善其保持特性。,TFT Array,等效电路,2025/1/28,17,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,这是5次光刻形成TFT图形,采用底栅背沟道刻蚀的工艺。以玻璃为基板。第一次光刻形成栅线原料为Cr。第二次光刻形成“硅岛”SiNx,a-Si,n+-a-Si层,第三次光刻形成ITO导电膜,第四次光刻形成源极漏极,材料为Cr,并进行n+切断,基本形成TFT。最后第五次光刻形成SiNx保护膜。,TFT-Array Process,Data Bus Line and S/D Metal Sputtering,Data Bus Line and S/D Patterning Using 4,th,MASK,Etch-Back of n+a-Si Using S/D Layer as a MASK,Passivation SiNx Deposition Using PECVD,Passivation SiNx Atch Using RIE,2025/1/28,18,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Cell Process,(1),2025/1/28,19,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Cleaning,2025/1/28,20,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,CF&TFT,PI Coating,淡黃色,8001200,将,PI,液滴在,Anilox Roll,上。,Doctor Roll,将,Anilox Roll,上的,PI,液整平。,APR,板上的圆型凸出物将,Anilox Rool,凹槽内,PI,挤压出来并带走。,将,APR,板上,PI,均匀转印到基板上,提供液晶配向层。,2025/1/28,21,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,PI Rubbing,PI,膜配向:,基板和,R,oller,成45度角,TFT,和,CF,基板方向差,90 度.,Roller,高速旋轉時,絨毛上的纖維會甩立起來,將,PI,膜刷出紋路.,Rubbing,的情況,類似於重鋪柏油馬路之前的,刨路機,將路面刨出紋路.,配 向 絨 布,2025/1/28,22,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Cell Process(,2),2025/1/28,23,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Seal Printing,2025/1/28,24,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Spacer Spray,制程:将间隙粒子均匀地分布在基板上,以作为,TFT,与,CF,间的支撑,使整个面板拥有均匀的间隙。,Spacer spray,2025/1/28,25,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,湿式洒布,2025/1/28,26,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Hot Pressure,2025/1/28,27,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Hot Press,2025/1/28,28,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Cell Process,(3),2025/1/28,29,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Scribing&Breaking,2025/1/28,30,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,1,ST,CUTTING,2,ND,CUTTING,Cutting Method,2025/1/28,31,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,对设备的影响,玻璃基板的尺寸变大直接音响电极图案形成设备。(,Array,),e.g.,成膜设备:占地面积加大与确保膜厚均匀性等问题。,e.g.,湿式设备:更换效率与节省水等问题。,切割尺寸增大直接影响面板组装设备。(,CELL,),e.g.,液晶注入设备:处理时间过长等问题。,次代交替快,产品生命周期短,厂商设备开发成本高。,LCD面板世代,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,LC Injection,将容器抽真空,将装有,LC,的容器上升与,PANEL,的注入端接触,此时,LC,通过毛细现象上升。,过一段时间后充入洁净的空气或氮气破真空至常压。,通过真空差压的原理,,LC,经过一段时间后充满,PANEL,。,2025/1/28,33,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,目的:将灌好,LC,的,PANEL,封口。,End Seal,2025/1/28,34,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Beveling,目的:将切裂后的玻璃毛边用磨轮磨出倒角,并去除外围的短路棒(,Shorting Bar,),2025/1/28,35,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Polarizer Attachment,上下偏光片,滤,光角度差90度,偏光片貼附,2025/1/28,36,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,CELL Test,目的:用电性能测试的方式检测做完的,PANEL,,看是否有缺陷。,方法:将,Date Line,的,R,线并连,,G,线并练,,B,线并连。,Full dot test,2025/1/28,37,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,TFT In China,2025/1/28,38,sunyes,TFT LCD简介与生产工艺流程,Thanks!,
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