纳米刻蚀技术.doc

纳米刻蚀技术
单 位：南京邮电大学
地 址：南京市亚东新城区文苑路9号 邮 编：210046
联 系 人：朱金龙 电 话：025-85866909
电子信箱：zhujl@
成果简介：
该项目研发了纳米刻蚀（DPN）技术，已申请及授权多项发明专利。
技术指标：首次在 Si/SiOx 表面上得到100纳米以下的Au 的纳米结构和12纳米的Au Nanogaps。
创新内容：发明了一种联合“蘸笔”纳米刻蚀 (DPN) 和湿化学腐蚀的方法，在Si/SiOx 表面上构造 Au, Ag 和 Pd 的纳米结构；发明了一种构造“蘸笔”纳米刻蚀 (DPN) Stamp 针尖的方法；发明了一种新的表征自组装膜表面酸碱性 (pK值) 的方法-----化学力滴定。
成熟程度：试生产阶段。
投资规模：投资约1000万；场地200平米左右的超净室。
合作方式：面谈。