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离子研磨机应用
Cross section Polisher(CP)
应用介绍
CP用于SEM, EPMA（电子探针仪）和SAM的样品制备，它可以制备软的、硬的和复合材料的样品，损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面，观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。
主要特点： CP可以一步到位地制备出镜面样品。它几乎可以适用于各种材料，包括难以抛光的软材料，如铜、铝、金、焊料和聚合物等；以及难以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高级CCD显微镜，可以精确地把样品定位在几个微米大小的剖面位置上。制备过程中，自动控制样品摇摆，以避免产生表面划痕。由于离子束水平入射、氩离子不会渗入样品表面。
主要设备
在一台仪器上实现了平面和截面两种研磨方式；
研磨速度快，截面研磨速度为300μm/h(Si片)；加工面积大，平面研磨最大可加工直径5mm的区域,加工速度为2μm/h；
可放样品体积大，截面样品：20(W)×12(D)×7(H)mm，平面样品： Φ 50×25(H)mm ；
平面和截面样品台拆卸方便，拆卸后可精确调整；
样品台与日立所有扫描电镜通用。

日立IM4000
主要设备
日本电子离子加速电压
2 ∼ 6kV
离子束直径
500μm(FWHM)
研磨速度
100μm/H (2小时的平均值，加速电压:6kV，硅换算， 边缘距离:100μm)
搭载样品最大尺寸
11mm（宽）×10mm（长）×2mm（厚）
样品移动范围
X轴±10mm Y轴±10mm
样品旋转角度调节范围
±5º
样品加工摆角
±30º专利申请中)
操作方法
触控式面板
使用气体
氩气(由质量流量控制器控制流量)
压力测试
潘宁真空计
主抽真空装置
涡轮分子泵
辅抽真空装置
机械泵
尺寸/重量
主机545 mm(宽)×550 mm(长)×420 mm(高) 64kg
机械泵
150 mm(宽)×427 mm(长)×230.5 mm(高) 16kg
选配件
加速电压8 kV 单元、旋转样品台、高精度定位CCD相机

日本电子IB-09010CP

研磨方式
平面研磨 截面研磨

研磨速度：2 μm/h (入射角度： 60°; 偏心量： 4mm)
最大样品尺寸： Φ 50×25(H)mm
研磨速度：300 μm/h (以Si片为标准，研磨厚度100μm)
最大样品尺寸：20(W)×12(D)×7(H)mm

测试流程

夹具 样品座

测试流程

应用举例
模式：截面研磨 时间：2h 电压：6kV

应用举例

应用举例

传统方法 CP研磨
印刷电路板切片

刀片切割 CP方法
纸张截面观察