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扩散工艺说明尚德模板.doc

上传人:精**** 文档编号:2606085 上传时间:2024-06-03 格式:DOC 页数:8 大小:2.64MB
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资源描述

1、SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩 散工位编号KS需要人数第1张共7张流向ZBKS1. 目 确保单晶硅磷扩散工艺处于稳定受控状态2. 适用范围适适用于单晶硅磷扩散工序3. 责 任本工艺说明由技术部负责4. 内 容4.1 工艺步骤4.1 根据设备点检表点检设备是否完好,符合运行条件。4.2 升温4.2.1 根据扩散设备操作规程进行升温。对于不常见炉管,需优异行一次饱和。4.3 装片、检验(见附页一)4.3.1 打开传输窗,将片盒从传输窗拿出放到净化工作台里;4.3.2 用舟叉将空石英舟端至净化工作台;4.3.3 用石英

2、真空吸笔将片盒内硅片移至石英舟槽内,每槽2片;4.3.4 在装片过程中,需检验硅片表面是否洁净。若硅片两面全部不洁净,做返工片处理;若一面洁净,一面不洁净,则将洁净面作为扩散面;4.3.5 检验硅片是否有裂纹,若有裂纹作碎片处理。4.4 上桨(见附页二)4.4.1 用舟叉将石英舟平稳端出净化台,石英舟微微向上倾斜,约15,端至碳化硅桨上,一边靠近匀流板约13cm。4.5 扩散4.5.1 根据扩散设备操作规程,开启设备,含有生产条件;4.5.2 点击触摸屏上“工艺运行”按钮,输入正确工艺号,参考扩散工序工艺参数表,检验各工艺参数是否符合要求,点击“确定”按钮,运行扩散工艺。更改标识数量更改单号签

3、 名日 期签 名日 期第1页拟 制审 核共7页标准化批 准 旧底图总号 底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩 散工位编号KS需要人数第2张共7张流向ZBKS4.6 方块电阻测量(见附页三)4.6.1 扩散工艺运行完成后,用舟叉将石英舟端至卸片台,根据从炉口到炉尾方向依次均匀取五片,放入片盒中,注意区分扩散面和非扩散面,扩散面一定要朝片盒大面放置。4.6.2 根据四探针测试仪操作规程测量方块电阻,测量硅片中心点和四个角方块电阻值,测量四角方块电阻时注意探针距硅片边缘距离要大于1cm,测完后关闭

4、四探针主机电源,而且正确填写方块电阻统计表。4.6.3 方块电阻值要求在405范围内,不均匀度不超出10,如超出该范围,应立即通知工艺人员。不均匀度定义为:计算五片硅片方块电阻平均值,在这五个数值中取最大值和最小值,(R最大-R最小)/(R最大+R最小)100%即为不均匀度。4.7 卸片、检验(见附页四)4.7.1 若方块电阻无异常,则将石英舟上扩散后硅片装至黑色承载盒中,确保全部硅片扩散面向上。4.7.2 经过传输窗流入下道工序。4.8 工艺参数4.8.1 扩散工艺参数 在各炉管中,均定义为01号工艺。时间(分钟)温度()大N2(L/min)小N2(L/min)O2(L/min)源温()进炉

5、6840890253020稳定9840890253020通源203084089025301.62.01.82.220吹氮10840890253020出炉10840890253020注:因各炉管之间差异,所以各工艺参数之间也存在差异,上表给出是正常工艺参数 范围。更改标识数量更改单号签 名日 期签 名日 期第2页拟 制审 核共7页标准化批 准 旧底图总号 底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称 扩 散 工位编号KS需要人数第3张共7张流向ZBKS4.8.2 TCA清洗工艺 在各炉管中,均定义为02

6、号工艺。时间(分钟)温度()大N2(L/min)小N2(L/min)O2(L/min)源温()通氧510502510.020通源4801050251.010.020吹氧1010502510.0204.9 注意事项4.9.1 各个炉管工艺参数操作者不得随意改动。4.9.2本工序必需穿戴连体洁净工作服、洁净工作鞋、洁净工作帽、乳胶手套及口罩。4.9.3 必需正确填写电池线生产日报&交接表。5.引用文件 扩散设备操作规程:SFQD-设备-02 炉管清洗工艺操作规程:SFQD-工艺-03 扩散检验工艺规程:SFQD-工艺-13 四探针测试仪操作规程:SFQD-设备-12更改标识数量更改单号签 名日 期

7、签 名日 期第3页拟 制审 核共7页标准化批 准旧底图总号底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩散 工位编号KS需要人数第4张共7张流向ZBKS附页一:装片、检验更改标识数量更改单号签 名日 期签 名日 期第4页拟 制审 核共7页标准化批 准插 片插片时必需穿好洁净工作服。净化工作台严禁裸手操作,一定要戴好乳胶手套,且不得用手直接接触硅片和石英舟。石英吸笔,从片盒中吸收硅片插到石英舟内。片 盒石英舟,每个槽插两片硅片旧底图总号底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF

8、5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩散 工位编号KS需要人数第5张共7张流向ZBKS附页二:上桨更改标识数量更改单号签 名日 期签 名日 期第5页拟 制审 核共7页标准化批 准上 桨移动、放置石英舟时,一定要小心轻放!触摸屏碳化硅桨,易碎安装、拆卸时切勿碰撞!距离13cm匀流板 旧底图总号 底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩散 工位编号KS需要人数第6张共7张流向ZBKS附页三:方块电阻测量 更改标识数量更改单号签 名日 期签 名日 期第6页拟 制审 核

9、共7页标准化批 准四探针测试台测 量四探针主机扩散面朝上如实填写方块电阻统计表,如有异常情况,立即通知工艺人员。 旧底图总号 底 图 总 号日 期 签 名SF工艺说明产品名称单晶硅电池片编号SF5.405.010GGS产品图号SF5.405.010版号01工位名称扩散 工位编号KS需要人数第7张共7张流向ZBKS附页四:卸片、检验5引用文件 扩散设备操作规程:SF/QD-设备-02 炉管清洗工艺操作规程:SF/QD-工艺-03 扩散检验工艺规程:SF/QD-工艺-13 更改标识数量更改单号签 名日 期签 名日 期第7页拟 制审 核共7页标准化批 准卸 片卸片台,不得放置异物,以免污染硅片!扩散面一律朝上!承载盒旧底图总号底 图 总 号日 期 签 名

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