正畸治疗中的口腔健康教育和卫生保健ppt课件.ppt

,单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,.,*,单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,.,*,口腔正畸学,1,.,第十二章,正畸治疗中的口腔健康教育和卫生保健,2,.,随着人们对美的追求，口腔正畸也越来越发展，在给我们解决牙齿畸形的同时，由于患者不好的口腔卫生习惯和饮食习惯而导致菌斑的产生，从而破坏牙釉质,3,.,目录,釉质脱矿,1,牙周组织炎症,2,口腔健康教育,3,口腔卫生保健,4,4,.,一,釉质脱矿,牙釉质：,牙釉质位于牙冠表面,是一层坚硬、白色透明的钙化程度最高的坚硬组织,它保护着牙齿内部的牙本质和牙髓组织。因此,光亮完好的牙釉质是牙齿健康的保证。,5,.,牙釉质脱矿,饮料,口腔卫生差,不良饮食习惯,牙菌斑 ！,6,.,（一）,临床表现,早期:,牙齿的唇颊面上形态不规则的白垩色斑 釉质早期龋,脱矿严重:,明显龋损,再矿化:,白垩斑边缘模糊，白垩色变浅,7,.,正畸治疗中口腔卫生状况不良患,牙面上的菌斑滞留,正畸治疗后牙齿唇颊面上的白垩色,釉质脱矿病损,8,.,（二）,患病情况,患病率,50%60%,无明显性别差异,多数患者轻中度脱矿,极少数患者重度脱矿，甚至出现龋洞,9,.,（三）,好发部位,上颌牙齿 下颌牙齿,上颌前牙最容易发生,侧切牙发病率最高,下颌尖牙和前磨牙也是易感牙位,10,.,（四）病因,1.饮用各种蔗糖和含酸性物质的饮料会增大脱矿几率。,2.上颌前牙远离口腔内大唾液腺开口处，菌斑产生的酸性物质不易被唾液成分缓冲，所以容易上前牙容易发生脱矿。,3.患者唾液系统出现问题（如：唾液分泌量小，唾液粘稠）。,11,.,二 牙周组织炎症,12,.,（一）,临床表现,早期,最常见牙龈炎症,牙龈红肿，探诊出血，牙龈增生。,（多数是暂时的）,晚期,牙周探诊深度增加，牙槽骨吸收，牙齿松动度增加以及牙龈退缩。,13,.,（二）患病情况,约半数以上的青少年患者会出现牙龈炎,成年人患病率相对较低,有10%的患者发生了牙周组织的破坏，表现,为附着丧失。,14,.,（三）好发部位,后牙 前牙,邻面 唇面、舌面,上颌后牙更易发生，下颌前牙也是好发之一,15,.,（四）,发病因素,直接原因：菌斑滞留,间接原因：口腔卫生及保健,16,.,（三）口腔健康教育,17,.,教育的重点,教会患者如何在矫治中控制菌斑和改变不良的饮食习惯。,提高患者对于菌斑控制重要性的认识，明确空腔卫生不良的危害。,未成年人应取得家长的理解和配合。,治疗前口腔卫生不良者，应在治疗前反复不断的进行口腔卫生宣教和指导，直至卫生状况改善后再治疗。,在治疗中两餐之间尽可能不进食甜饮料和食物，睡后刷牙不进食。,18,.,（四）口腔卫生保健,19,.,（一）准备工作,1.仔细检查患者的口腔健康,2.对该治疗的牙齿要先进行治疗后才放置正畸装置,3.正畸前多进行牙周洁治，清除龈上牙石,20,.,（二）菌斑的控制,是预防正畸治疗中釉质脱矿和牙周组织损害的,最有效方法,1.刷牙；,改良Bass法刷牙,2.专业清洁,；牙周洁治，清除龈上菌斑和牙石,3.局部使用化学物质；,0.12%氯己定溶液含漱,21,.,（三）氟化物的局部使用,1 使用含氟牙膏并配合低浓度含氟溶液漱口,2 粘结托槽后氟凝胶，氟泡沫处理牙面5分钟或直接涂抹在唇颊面。,3 使用玻璃离子粘固剂连接在治疗中可以缓慢释放氟,22,.,（四）规范正畸临床操作,1.应使用酸蚀凝胶，严格控制酸蚀面积,2.粘接托槽后及时清理周围的粘结剂，发现松动的托槽，重新粘结,3.选择大小合适的带环，边缘较窄的带环,4.对已患牙周疾病的患者，尽可能使用可以直接粘结的颊管,23,.,对脱矿病损和牙周组织损害的治疗,出现釉质脱矿时可以使用氟化物,对于较重的可以先磨出少许釉质（约0.1mm）在使用氟化物。,牙龈增生影响正畸或原先牙周疾病出现反复，病情发展时应暂停正畸而进行系统的牙周治疗，对牙龈增生的可以采取牙龈切除术。,24,.,Thank For Your Attention,！,25,.,后面内容直接删除就行,资料可以编辑修改使用,资料可以编辑修改使用,资料仅供参考，实际情况实际分析,26,.,主要经营：,课件设计，文档制作，,网络软件设计、图文设计制作、发布广告等,秉着以优质的服务对待每一位客户，做到让客户满意！,致力于数据挖掘，合同简历、论文写作、,PPT,设计、计划书、策划案、学习课件、各类模板等方方面面，打造全网一站式需求,27,.,感谢您的观看和下载,The user can demonstrate on a projector or computer,or print the presentation and make it into a film to be used in a wider field,28,.,