资源描述
1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分别为:
Ec(k)=+和Ev(k)= -;
m0为电子惯性质量,k1=1/2a;a=0.314nm。试求:
①禁带宽度;
②导带底电子有效质量;
③价带顶电子有效质量;
④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg
根据=+=0;可求出对应导带能量极小值Emin的k值:
kmin=,
由题中EC式可得:Emin=EC(K)|k=kmin=;
由题中EV式可看出,对应价带能量极大值Emax的k值为:kmax=0;
并且Emin=EV(k)|k=kmax=;∴Eg=Emin-Emax==
==0.64eV
②导带底电子有效质量mn
;∴ mn=
③价带顶电子有效质量m’
,∴
④准动量的改变量
△k=(kmin-kmax)=
1-2.(P33)晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
[解] 设电场强度为E,∵F=h=qE(取绝对值) ∴dt=dk
∴t==dk= 代入数据得:
t==(s)
当E=102 V/m时,t=8.3×10-8(s);E=107V/m时,t=8.3×10-13(s)。
3-14.(P82)计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3及受主杂质浓度为1.1×1016cm-3的硅在300k时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。
[解]对于硅材料:ND=9×1015cm-3;NA=1.1×1016cm-3;T=300k时 ni=1.5×1010cm-3:
;
∵且
∴
∴
3-18.(P82)掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一半电离时费米能级的位置和磷的浓度。
[解]n型硅,△ED=0.044eV,依题意得:
∴
∴
∴
∵
∴
4-2.(P113)试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/V·S和500cm2/V·S。当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率。比本征Si的电导率增大了多少倍?
[解]T=300K,,μn=1350cm2/V·S,μp=500 cm2/V·S
掺入As浓度为ND=5.00×1022×10-6=5.00×1016cm-3
杂质全部电离,,查P89页,图4-14可查此时μn=900cm2/V·S
[毕]
4-13.(P114)掺有1.1×1016 cm-3硼原子和9×1015 cm-3磷原子的Si样品,试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度及样品的电阻率。
[解]NA=1.1×1016 cm-3,ND=9×1015 cm-3
可查图4-15得到Ω·cm
(根据,查图4-14得,然后计算可得。)
[毕]
4-15.(P114)施主浓度分别为1013和1017cm-3的两个Si样品,设杂质全部电离,分别计算:①室温时的电导率。
[解]n1=1013 cm-3,T=300K,
n2=1017cm-3时,查图可得
5-5.(P144)n型硅中,掺杂浓度ND=1016cm-3,光注入的非平衡载流子浓度Δn=Δp=1014cm-3。计算无光照和有光照时的电导率。
[解]
n-Si,ND=1016cm-3,Δn=Δp=1014cm-3,查表4-14得到::
无光照:
Δn=Δp<<ND,为小注入:
有光照:
5-7.(P144)掺施主杂质的ND=1015cm-3n型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子Δn=Δp=1014cm-3。试计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级做比较。
[解]
n-Si,ND=1015cm-3,Δn=Δp=1014cm-3,
光照后的半导体处于非平衡状态:
室温下,EgSi=1.12eV;
比较:
由于光照的影响,非平衡多子的准费米能级与原来的费米能级相比较偏离不多,而非平衡勺子的费米能级与原来的费米能级相比较偏离很大。
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