掩模板功能用途书面书.doc

掩模板功能用途说明书

中文名称：掩模板
英文名称：Photo Mask
原 产 地：韩国
照片：

掩模板简介
1.客户: LG Display 等
2.何为掩模板: 所谓液晶光学掩模板(Photo Mask)就是先将玻璃加工成所需尺寸的形状，再对玻璃进行粗磨、精修、磨平及抛光，然后利用激光在石英玻璃基板上的金属铬层和光阻层上的加工所形成图纸的基板。
3.掩模板用途: Photomask(掩模板)，是生产TFT(薄膜晶体管)、CF(彩色滤光片)必要的光学组件。它是连接设计与制程之间的关键组件，大尺寸掩模板的制作与薄膜晶体管(Thin Film Transistor, TFT）、彩色滤光片(Color Filter，CF)等，有着十分密切的关系。
4.使用光掩膜制成的产品: 液晶显示板内的TFT((薄膜晶体管)、CF(彩色滤光片)
5.客户使用方式：
技术人员通过曝光机把基板上面的图案转印到液晶面板上。

技术說明
1.1 物品名称：Photo Mask

1.2 功能說明：所有显示器(Display)的显示部位，都是以掩模板为原版、透过写真平版印刷术(利用光的技术，将精密的图案转印至玻璃基版上)而制成的。面板厂或彩色滤光片厂，以曝光方式使用掩模板进行生产所有与显示器(Display)相关的产品。

1.3 工作原理及技术说明：
配合曝光机，将掩模板上的图形转移到面板上。

凹镜
凸镜
棱镜
掩模板
光源
玻璃基板
曝光机台

1.4 制造流程：
CAD 数据
基板
• 显影
• 蚀刻
• 剥离/ 清洗
检测 / 修复
装保护膜
质量检验
激光描画
图案结构成形
保护膜
掩模板制作
光阻
Cr 膜
基板