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载流下MoS_2_Ag纳米复合薄膜摩擦学性能_苏煜.pdf

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资源描述

1、2023 年 2 月第 48 卷 第 2 期润滑与密封LUBICATION ENGINEEINGFeb.2023Vol.48 No.2DOI:10.3969/j.issn.02540150.2023.02.023文献引用:苏煜,郑韶先载流下 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦学性能 J 润滑与密封,2023,48(2):154162Cite as:SU Yu,ZHENG ShaoxianFriction and wear mechanism of MoS2/Ag nanocomposite film under current carrying J Lubrication En-gineerin

2、g,2023,48(2):154162收稿日期:20211213;修回日期:20220112作者简介:苏煜(1996),女,硕士研究生,研究方向为载流摩擦。Email:suyu963 。通信作者:郑韶先(1978),男,博士,教授,研究方向为纳米复合薄膜制备及性能。Email:zhengsx2008 。载流下 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦学性能苏煜郑韶先(兰州交通大学材料学院甘肃兰州 730000)摘要:MoS2基纳米复合薄膜具有良好的摩擦学性能,但较差的导电性能限制了其在载流条件下作为润滑材料的应用。为提高 MoS2基纳米复合薄膜的导电性能,采用非平衡磁控溅射系统沉积 2 种不同 Ag

3、含量的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜,并在不同的电流条件下研究 MoS2/Ag 纳米复合薄膜与 GCr15 钢球对摩时的摩擦学性能。结果表明:在载流下 2种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜表现出相似的摩擦性能,而低掺杂 MoS2/Ag 薄膜具有更佳的耐磨性能,这归因于低掺杂MoS2/Ag 薄膜具有较好的力学性能;无载流时,MoS2/Ag 纳米复合薄膜在摩擦过程中生成的氧化物颗粒增加了磨损、降低了润滑性,磨损机制主要为磨粒磨损;电流小于 0.5 A 时,电流促进了转移膜形成,使得摩擦因数降低,但磨损率增加,磨损机制主要为黏着磨损;当电流大于 0.5 A 时,由于电弧烧蚀加速了薄膜的磨损,磨损机制主

4、要为磨粒磨损、黏着磨损和电弧腐蚀磨损。关键词:MoS2薄膜;纳米复合薄膜;载流;磨损;摩擦学中图分类号:TH117.1Friction and Wear Mechanism of MoS2/Ag NanocompositeFilm under Current CarryingSU YuZHENG Shaoxian(Materials Institute,Lanzhou Jiaotong University,Lanzhou Gansu 730000,China)Abstract:MoS2based nanocomposite films have good tribological prope

5、rties,but the poor electrical conductivity limitstheir application as lubricating materials under current carrying conditionsIn order to improve the electrical conductivity ofMoS2based nanocomposite film,the MoS2/Ag nanocomposite films with two different Ag contents were fabricated using anunbalance

6、d magnetron sputtering system,and their tribological properties against GCr15 steel ball under different currentconditions were studiedThe results show that the two kinds of MoS2/Ag films have a similar friction performance undercurrent carrying,while the lowdoped MoS2/Ag nanocomposite film exhibits

7、 superior wear resistanceThis is due to thebetter mechanical properties of the lowdoped MoS2/Ag nanocomposite filmWhen there is no current carrying,the oxideparticles generated in the friction process of MoS2/Ag nanocomposite films increase wear and reduce lubrication,and thewear mechanism is mainly

8、 abrasive wearWhen the current is less than 0.5 A,the current promotes the formation of thetransfer film,which reduces the friction coefficient,but increases the wear rate,and the wear mechanism is mainly adhesivewearWhen the current is higher than 0.5 A,the wear of the film is accelerated by arc ab

9、lation,and the wear mechanismsare mainly abrasive wear,adhesive wear and arc corrosion wearKeywords:MoS2film;nanocomposite film;currentcarrying;wear;tribology过渡金属硫化物(TMD)中,MoS2由于优异的润滑性能受到极大关注,被广泛地应用于航空航天领域1。MoS2的润滑特性主要归因于其独特的层状六方晶体结构,其每一层 Mo 原子被两层 S 原子夹在中间,形成 S Mo S 三明治层状结构。其中,层内MoS键以较强的化学键相结合,层间则以较

10、弱的范德华力相结合。因层内以离子共价键结合导致剪切强度较强,而层间的剪切强度较弱,由此使得 MoS2拥有良好的自润滑性能和摩擦学性能24。然而 MoS2受空气中的水蒸气和氧气的影响导致其润滑效果和服役寿命降低5,且较差的导电性能也限制了 MoS2在载流条件下作为润滑材料的应用。在电接触滑动过程中,磨损主要由机械磨损和电气磨损共同作用,有电流时的摩擦学行为与无电流时相差较大67。BAUNOVIC8 研究了用铝线连接不同材料组成摩擦副对摩时,不同电流(0.01 0.5 A)对电腐蚀触点的影响,发现较高的电流延迟了电阻的波动,并导致接触电阻的降低。WAGHAY 等9 研究发现,在电流为 01 A 时

11、不锈钢球上溅射沉积的 MoS2薄膜的摩擦因数从 0.01 增加到 0.05,这种高电流强度下摩擦因数的升高源于薄膜的氧化。WATANABE10 的研究表明,含 MoS2层状固体润滑剂的金属复合材料,在 5 N 法向载荷下与碳滑块对摩时的摩擦因数,从0.1 A 时的 0.1 降至 1 A 时的 0.08;但由于氧化膜的形成,5 A 时摩擦因数又增加到 0.14。为改善 MoS2薄膜在载流条件下的摩擦磨损性能,研究人员发现通过掺杂金属元素或者化合物可以提高 MoS2薄膜的导电性能,进而改善薄膜在载流条件下的摩擦性能。其中,掺杂 Ti 和 Pb 金属能够显著改善电流对 MoS2薄膜摩擦磨损性能的影响

12、,并延长其使用寿命1112。Ag 元素具有良好的导电性13 和抗氧化性,广泛用于电触头材料。然而,Ag 掺杂 MoS2薄膜在载流条件下的摩擦学行为鲜有研究报道。因此,本文作者采用非平衡闭合场磁控溅射技术制备出不同含量 Ag 掺杂的MoS2基纳米复合薄膜,研究复合薄膜在载流条件下的摩擦行为与失效机制,以期获得兼具良好自润滑性能和电学特性的 MoS2基复合薄膜,为 MoS2薄膜在载流领域的应用提供理论支持。1试验部分1.1样品制备采用 teer CF800 非平衡磁控溅射系统沉积 2 种不同 Ag 含量的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜。基底材料使用表面镜面抛光的 GCr15 不锈钢和(100)硅片

13、,其中 GCr15 不锈钢用于摩擦磨损测试,(100)硅片用于薄膜的结构分析。在沉积薄膜之前,将基底依次分别用丙酮和无水乙醇超声清洗 20 min,用氮气吹干后,装夹在镀膜系统的旋转样品架上。镀膜系统腔体抽真空至 1.0103Pa 以下时,通入工作气体氩气,在500 V 的基底偏压下利用辉光放电刻蚀基底表面20 min,去除样品表面的氧化物及杂质。然后,设置偏压为70 V,Ti 靶电流为 3.0 A,在基底表面沉积一层厚度约为 200 nm 的 Ti 过渡层,以提高薄膜与基底之间的结合力。最后,通过设定不同 Ag 靶电流,制备出 2 种不同 Ag 含量的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜。具体工艺

14、参数列于表 1。表 1不同 Ag 含量的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的制备参数Table 1Preparation parameters of MoS2/Ag nanocompositefilms with different Ag contents薄膜MoS2靶电流I1/AAg 靶电流I2/A旋转速度 n/(rmin1)低掺杂 MoS2/Ag16025高掺杂 MoS2/Ag160451.2试验方法采用场发射型扫描电镜(FESEM)和原子力显微镜(AFM)表征薄膜的表面、截面形貌及截面厚度。用 X 射线衍射仪(XD,Cu 靶 K 为射线源)分析薄膜的晶体结构,扫描速度 7()/min,扫描范

15、围为 590。薄膜的化学键通过 X 射线光电子能谱(XPS,ESCALAB 250Xi)表征。硬度与弹性模量采用纳米压痕仪(MST NanoIndenter G200)测量,测量时使用压头型号为 Berkovich 金刚石压头,将最大压痕深度控制在薄膜厚度的 10%以内,以最大限度地减少基材效应,取 5 次测量的平均值作为最后的结果。摩擦测试后,通过扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)分析磨痕和对偶球转移膜的表面形貌和成分;利用拉曼光谱仪分析对偶球转移膜的成分变化,激光波长为 532 nm;利用双束扫描电镜(FIB)制备透射电子显微镜样品,并使用透射电子显微镜(TEM,TALOS)观

16、察转移膜的微观结构、EDS 谱图等。薄膜在大气环境下的载流摩擦性能采用 CSM 球盘摩擦磨损试验机测试,分别在 0、0.3、0.5、0.7 A电流条件下测试制备薄膜的摩擦因数和磨损率。摩擦对偶为 G10 级直径 6 mm 的 GCr15 钢球,电流由直流电源(32 V6 A)正极输出,通过滑动变阻器、薄膜和对偶钢球后输入负极。采用往复滑动摩擦模式,实验参数分别为法向载荷 2 N,频率 2 Hz,步长 5mm,摩擦周期为 3 600 次往复循环。实验环境温度2530,相对湿度 H(405)%。采用接触式二5512023 年第 2 期苏煜等:载流下 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦学性能维轮廓仪测

17、试磨痕截面轮廓,对截面轮廓进行积分计算得到磨损面积,并通过公式 W=V/(F S)计算薄膜的磨损率。其中 W 为磨损率,m3/(Nm);V 为磨损体积,m3;F 为法向载荷,N;S 为滑动距离,m。每个参数下的摩擦磨损测试分别进行 3 次,取平均值。2结果与讨论2.1薄膜的成分、形貌和结构图 1 显示了 2 种 MoS2/Ag 纳米复合膜的表面和截面形貌,其中图 1(a)所示为低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜,图 1(b)所示为高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜。低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜表面比较均匀,团簇较为平滑,AFM 测试的表面粗糙度为 13.0nm。随着薄膜中 Ag 含

18、量的增加,由于薄膜中 Ag 易于团簇14,高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜表面团簇增大,表面粗糙度增至 14.8 nm。2 种薄膜的截面形貌呈典型的鳞片状结构特征,低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag纳米复合薄膜的厚度分别为 2.9 和 2.6 m。图 1低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的表面和截面形貌Fig.1Surface and crosssection morphologies of lowdoped(a)and highdoped(b)MoS2/Ag nanocomposite film为了分析 2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的化学键,通过 XPS 测量了 Mo 3d

19、、S 2p 和 Ag 3d 的结合能,如图 2 所示。其中 MoS2的 Mo 3d5/2和 Mo 3d3/2峰分别位于 228.8 和 231.9 eV 处1517,另一对在 228.1 和231.3 eV 处的峰归属于 MoS2x的 Mo 3d5/2和 Mo 3d3/2;结合能为 232.1 和 234.6 eV 的双峰与 MoOx有关,更低的结合能(225.8 eV)处的肩峰与 S 2s 相关联。此外,MoS2的 S 2p3/2和 S 2p1/2位于162.2 和163.3 eV处,MoS2x的 S 2p3/2和 S 2p1/2分别位于 161.4 和 162.7eV 处1720。在薄膜的

20、沉积过程中,由于 S 被高能Ar+轰击从 MoS2中分离出来,从而导致薄膜中 S 的缺失2124。对于 Ag 3d 谱图,结合能位于 368.8 和374.8 eV 处的 2 个肩峰分别归属于 Ag 的 3d5/2和3d3/225。采用 X 射线衍射仪分析了 2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的晶体结构,如图 3 所示。XD 谱图中除了来自基体的衍射峰外,位于 12左右的衍射峰对应于MoS2的(002)晶面,33左右的衍射峰对应于 MoS2的(100)晶面,60左右的衍射峰则对应于 MoS2的(110)晶面。对比 2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜 XD谱图发现,低掺杂 MoS2/Ag 纳

21、米复合薄膜出现了MoS2的(002)晶面衍射峰,并且 MoS2(100)峰强略有降低。651润滑与密封第 48 卷图 2低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜 XPS 谱图Fig.2XPS spectra of lowdoped(a)and highdoped(b)MoS2/Ag nanocomposite film图 3低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜 XD 谱图Fig.3XD spectra of lowdoped and highdopedMoS2/Ag nanocomposite films2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的成分和力学性能列于表 2 中。由于薄膜制

22、备过程腔体中残留的气体以及薄膜放置在大气环境中的氧化,在复合薄膜表面都检测到了 O 元素(原子分数分别为 7.8%、9.4%)。比较 2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的力学性能发现,低掺杂 MoS2/Ag 薄膜的硬度和弹性模量分别为 2.0 和45.2 GPa,高掺杂 MoS2/Ag 薄膜的硬度和弹性模量分别降低至 1.4 和 40.6 GPa。一般认为,弹性指数(H/E,硬度和弹性模量的比值)是表征材料表面接触弹性行为极限的最有效手段之一26。通过对比 2 种MoS2/Ag 纳米复合薄膜的 H/E,推测低掺杂 MoS2/Ag薄膜具有更佳的耐磨性,这与下文的摩擦磨损试验结果相吻合。表 2M

23、oS2/Ag 纳米复合薄膜的元素含量与力学性能Table 2Elemental content and mechanical properties of MoS2/Ag nanocomposite films薄膜元素原子分数 wa/%MoSAgO硬度H/GPa弹性模量E/GPaH/E低掺杂 MoS2/Ag3405463678204520044高掺杂 MoS2/Ag30751980941440600362.2薄膜在电流作用下的摩擦磨损性能2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜在不同电流条件下的摩擦因数和磨损率如图 4 所示。图 4(a)、(b)所示分别为低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 薄膜的摩擦因

24、数随7512023 年第 2 期苏煜等:载流下 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦学性能时间的变化曲线。可见,低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的摩擦因数在载流摩擦条件下波动较大,而高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合膜的摩擦因数相对较平稳,这可能与高 Ag 掺杂的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜具有更小的接触电阻有关。图 4(c)、(d)示出了 2 种纳米复合薄膜在载流条件下的平均摩擦因数和磨损率。当电流为 0 时,低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的摩擦因数分别为 0.2 和 0.19;电流升高至 0.3 A 时2 种薄膜的摩擦因数均明显减小,分别为 0.14 和0.13;在电流升高至

25、 0.5 A 时 2 种薄膜均表现出较好的润滑性能,摩擦因数分别为 0.10 和 0.11;但当电流增加到 0.7 A 时,摩擦因数变化较小但薄膜失效。综上所述,相同电流条件下 2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜表现出相似的的摩擦性能,但低掺杂 MoS2/Ag复合薄膜的磨损率均低于高掺杂 MoS2/Ag 复合薄膜,归结于其较高的硬度和 H/E 值。图 4低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜在不同载流条件下的摩擦因数曲线、平均摩擦因数和磨损率Fig.4Friction coefficient curves,average friction coefficient and wear ra

26、te of lowdoped and high doped MoS2/Ag nanocompositfilms under different currents:(a)friction coefficient curves of lowdoped MoS2/Ag nanocomposite film;(b)frictioncoefficient curves of highdoped MoS2/Ag nanocomposite film;(c)average friction coefficient;(d)average wear rate2.3磨损表面分析图 5 所示为摩擦后 2 种 MoS

27、2/Ag 纳米复合薄膜的磨痕 和 对 偶 球 磨 斑 转 移 膜 的 光 学 图 像。其 中 图5(a)(d)所示为低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜在不同电流条件下的磨痕和磨斑形貌,可看出随着电流的增加,磨痕深度不断增大,犁沟现象更加明显,而磨痕宽度先变窄后变宽。当电流为 0 时,磨斑边缘规整,转移膜较为均匀,磨斑中部出现的黑色斑点区域可能为摩擦过程中形成的氧化物颗粒,此时的磨损机制主要为磨粒磨损;随着电流的增加,磨斑规整性和转移膜厚度的均匀性被破坏。这是因为随着电流的增加,产生了更高的热能使得摩擦界面温度升高,一方面促进了转移膜的形成,使得摩擦因数降低,另一方面摩擦界面温度的升高使得摩擦

28、副磨损机制发生转变,此时的磨损机制主要为黏着磨损。从图5(e)(h)可见,载流条件下高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜磨痕、磨斑形貌的变化趋势与低掺杂薄膜相似。当电流为 0 时,高掺杂薄膜的磨痕宽度更宽、磨斑面积更大,这与其更高的磨损率相一致;当电流为 0.3、0.5 A 时,高掺杂薄膜的磨痕犁沟深浅不一,并出现了局部薄膜脱落现象,归因于较高的 Ag 掺杂降低薄膜耐磨性的同时,不利于摩擦副在摩擦过程中形成较851润滑与密封第 48 卷为稳定均匀的摩擦界面;当电流达到 0.7 A 时,磨痕表面破坏严重,相较于低掺杂薄膜磨痕的宽度明显增大,薄膜剥落情况更为严重。推测由于电弧烧蚀导致薄膜发生了剥落

29、27,此时薄膜已被完全磨穿,但由于转移膜的存在,薄膜的摩擦因数依然保持较低的数值。图 5低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦后的磨痕和对偶球磨斑光学形貌Fig.5The optical morphologies of lowdoped and high doped MoS2/Ag nanocomposite films under different currents:lowdopedMoS2/Ag nanocomposite film at I=0(a),I=0.3 A(b),I=0.5 A(c),and I=0.7 A(d);highdoped MoS2/Agnanocompo

30、site film at I=0(e),I=0.3 A(f),I=0.5 A(g),and I=0.7 A(h)为了分析低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜对应的对偶球转移膜的成分,采用拉曼光谱对转移膜进行了表征。如图 6 所示,2 种 MoS2/Ag 复合薄膜的转移膜表面都检测到 2 个明显的拉曼信号峰,位于约 379 和 418 cm1处,归属于 MoS2的 E12g和 A1g振动模,表明转移膜中的 MoS2具有较好的结晶性,起到主要润滑作用。当电流为 0 时,2 种薄膜样品均在926 cm1附近出现了一个强峰,这与 MoO3振动有关,说明电流为 0 时 MoS2/Ag 纳米复合薄

31、膜的磨损机制主要是由于 MoS2的严重氧化和非润滑相 MoO3的形成导致的磨粒磨损,这与光学形貌可以互相佐证。此外,高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的 MoO3特征峰的峰强明显高于低掺杂样品,间接证明高掺杂 MoS2/Ag纳米复合薄膜的磨损率高于低掺杂样品。当电流由 0增加到 0.5 A 的过程中,由于电流产生的热能促进了转移膜的形成,这使得 E12g和 A1g的强度不断增加,薄膜的磨损机制转变为黏着磨损。尽管磨痕形貌存在明显的犁沟和电弧烧蚀的痕迹,但此时薄膜并未被磨穿。当电流增加至 0.7 A 时,此时薄膜已被磨穿,滑动过程不断消耗转移膜,由此 MoS2的峰强也明显减弱。9512023

32、年第 2 期苏煜等:载流下 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦学性能图 6低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的摩擦转移膜的拉曼光谱图Fig.6aman spectra of tribofilms of lowdoped(a)and highdoped(b)MoS2/Ag nanocomposite film结合能谱仪分别对低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的转移膜进行进一步的分析,图 7 所示为2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜在 0 和 0.5 A 下摩擦后对偶球转移膜的 EDS 谱图。2 种 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的对偶球表面转移膜的成分随电流的变化规律一致。当电

33、流为 0 时,磨斑上主要元素为 Mo、S 和 O,几乎没有探测到掺杂元素 Ag。当电流增加至 0.5 A时,磨斑上的 Mo 和 S 元素信号明显增强,这与拉曼图谱分析结果相一致;同时 Ag 元素信号略微增强(尤其对于高掺杂 MoS2/Ag 薄膜),而 O 元素的信号变弱。这可能是因为电流产生的电阻热促进了 Ag 的扩散和转移膜的形成,使得润滑性能得到改善。当电流持续增加至 0.7 A 时,由于电流的进一步增大产生了更高的热量,薄膜烧蚀严重,在摩擦力的协同作用下致使薄膜早期失效。图 7低掺杂和高掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜摩擦后对偶球转移膜的 EDS 谱图Fig.7EDS spectra

34、of tribofilms for lowdoped and highdoped MoS2/Ag nanocomposite films after friction tests:lowdoped MoS2/Agnanocomposite film at I=0(a),I=0.5 A(b);highdoped MoS2/Ag nanocomposite film at I=0(c),I=0.5 A(d)通过聚焦离子束(FIB)系统在低掺杂 MoS2/Ag薄膜的对偶球表面转移膜中心位置制备了截面样品,并对其微观结构进行高分辨 TEM 观察,进一步分析MoS2/Ag 纳米复合薄膜载流下的摩擦磨损机

35、制。首先通过能谱图可以看到,Mo 和 S 元素均匀地分布在转移膜内,且信号较强;O 元素主要分布在接近对偶球基底约 30 nm 的区域,而接近摩擦接触界面区域的 O元素信号较弱;与之相反的是 Ag 元素的分布,接近对偶球基底区域表现出较弱的信号而摩擦接触界面区域信号明显增强。从高分辨图中可以清晰观察到,在转移膜最外侧(即摩擦接触界面区域)分布着长程有序平行于基底排列的 MoS2(002)晶面,接近对偶球基底区域则多呈现纳米晶或非晶结构。由此分析得出了 MoS2/Ag 纳米复合薄膜载流下的摩擦磨损机制:载流条件下,电阻热促进了转移膜 MoS2和 Ag 的形成,降低界面摩擦因数,增加磨损;但当电流

36、过高061润滑与密封第 48 卷时,在摩擦力和高电阻热的协同作用下导致摩擦界面烧蚀和黏着加剧,薄膜失效。图 8低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜的 TEM 图片与 EDS 面分布Fig.8The TEM images and EDS maps of lowdoped MoS2/Ag nanocomposite film3结论(1)通过磁控溅射法制备了 Ag 低掺杂和高掺杂的 MoS2/Ag 纳米复合薄膜,2 种薄膜的截面形貌呈典型的鳞片状结构特征,其中低掺杂 MoS2/Ag 纳米复合薄膜出现了 MoS2的(002)晶面衍射峰同时表现出较好的机械性能。(2)无载流时,MoS2/Ag 纳米复合薄

37、膜在摩擦过程中生成的氧化物颗粒增加了磨损、降低了润滑性,磨损机制主要为磨粒磨损。随着电流的增加可分为 2 个阶段:电流小于 0.5 A 时,电流促进了转移膜形成,摩擦副之间润滑效果明显,因此摩擦因数降低,但磨损率增加,此时薄膜的磨损机制主要为黏着磨损;当电流大于 0.5 A 时,由于输出热量过高,摩擦副接触界面发生电弧烧蚀加速了薄膜的磨损,此时的磨损机制主要为电弧腐蚀磨损与黏着磨损的共同作用。参考文献 1邱维维,孟祥宇,王非,等聚酰亚胺基自润滑材料与 WS2Ag 固体润滑膜的相容性J 中国表面工程,2020,33(1):5562QIU W W,MENG X Y,WANG F,et alComp

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46、8MA G W,YUS W,HEI H J,et alEffects of Ag content on fieldemission properties of diamond composite films J China Sur-face Engineering,2019,32(2):7078 14刘乐卿,单奇艺,安宇龙,等WC(W,Cr)2CNi/Ag 复合涂层的制备及摩擦学性能J 中国表面工程,2015,28(3):1016LIU L Q,SHAN Q Y,AN Y L,et alPreparation andtribologyproperties of WC(W,Cr)2CNi/Ag

47、composite coatingsJ China Surface Engineering,2015,28(3):1016 15EN S M,LI H,CUI M J,et alFunctional regulation of PbTi/MoS2composite coatings for environmentally adaptive solidlubricationJ Applied Surface Science,2017,401:362 372 16SHANG K D,ZHENG S X,EN S M,et alImproving the tri-bological and corr

48、osive properties of MoS2based coatings bydualdoping and multilayer constructionJ Applied SurfaceScience,2018,437:233244 17BETTI I,MOHAI M,ENEVIE N M,et alXPS investiga-tion of ion beam treated MoS2Ti composite coatings J Sur-face and Coatings Technology,2000,125(1/2/3):173 178 18LINCE J,CAE D J,FLEI

49、SCHAUE P DEffects of argonion bombardment on the basal plane surface of molybdenumdisulfide J Langmuir,1986,2(6):805808 19 DIMIGEN H,HBSCH H,WILLICH P,et al Stoichiometryand friction properties of sputtered MoSxlayers J Thin SolidFilms,1985,129(1/2):7991 20 STUPP B CSynergistic effects of metals cos

50、puttered withMoS2 J Thin Solid Films,1981,84(3):257266 21BAKE M A,GILMOE,LENADI C,et alXPS investiga-tion of preferential sputtering of S from MoS2and determinationof MoSxstoichiometry from Mo and S peak positionsJ Ap-plied Surface Science,1999,150(1/2/3/4):255262 22DEEPTHI B,BASHILIA H C,AJAM K S,e

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