1、1(对应考点一)下列说法正确的是()A硅是良好的半导体材料，能与盐酸或氢氧化钠溶液反应B二氧化硅不导电，能与盐酸或氢氧化钠溶液反应C硅酸具有多孔性结构，可用作吸附剂或催化剂载体D二氧化硅是酸性氧化物，能与氢氟酸反应，也能与氢氧化钠溶液反应解析：硅与盐酸不反应，A不正确；二氧化硅与盐酸也不反应，B不正确；具有多孔结构，用作吸附剂或催化剂载体的是硅胶，而不是硅酸，C不正确；D项正确，SiO24HF=SiF42H2O,2NaOHSiO2=Na2SiO3H2O。答案：D2(对应考点一)由下列试验事实得出的结论正确的是()A由SiO2不能与水反应生成H2SiO3，可知SiO2不是酸性氧化物B由SiO22
2、CSi2CO，可知碳的非金属性大于硅CCO2通入Na2SiO3溶液产生白色沉淀，可知酸性H2CO3H2SiO3DSiO2可与NaOH溶液反应，也可与氢氟酸反应，可知SiO2为两性氧化物解析：SiO2是酸性氧化物，A项错误；反应SiO22CSi2CO不能说明碳的非金属性比硅强，该反应能发生是由于生成CO气体，它的放出促进了反应进行，B项错误；CO2通入Na2SiO3溶液中生成H2SiO3胶体，符合强酸制弱酸的规律，证明酸性H2CO3H2SiO3，C项正确；D项中SiO2除氢氟酸外不能与其他的酸反应，SiO2为酸性氧化物，不具有两性，D项错误。答案：C3(对应考点二)下列关于硅的说法不正确的是()
3、A硅是非金属元素，它的单质是灰黑色有金属光泽的固体B硅的导电性能介于导体和绝缘体之间，是良好的半导体材料C硅的化学性质不活泼，常温下不与任何物质发生反应D加热到肯定温度时，硅能与氯气、氧气等非金属反应解析：硅的导电性介于导体和绝缘体之间，是良好的半导体材料；硅的化学性质稳定、常温下可与F2、HF、强碱溶液反应，加热或高温下可与O2、Cl2等一些非金属发生反应。答案：C4(对应考点二)单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家估计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大得多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：SiO22CSi2CO
4、Si2Cl2SiCl4SiCl42H2Si4HCl。下列对上述三个反应的叙述中，不正确的是()A为置换反应B为化合反应C均为氧化还原反应D三个反应的反应物中硅元素均被还原解析：反应中硅元素被还原，反应中硅元素被氧化，D错误。答案：D5(热点题)氮化硅高温陶瓷材料是现代重要的结构陶瓷，因其有硬度大、熔点高、化学性质稳定等特点而受到广泛关注。工业上普遍用下列流程进行生产：(1)SiO2和C反应除了得到粗硅外，还有可能得到一种硬度也很大的物质，是生成粗硅还是生成该物质主要是由_打算的。(2)反应的条件是_。(3)写出反应的化学方程式_。(4)A中可能的杂质有_。(5)现在是用四氯化硅、氮气、氢气在稀有气体爱护下加强热，得到纯度较高的氮化硅，其反应方程式为_。解析：SiO2与C在高温下反应，会因C的用量不同而使产物不同：SiO22CSi2CO或SiO23CSiC2CO；反应的条件是：高温存隔绝空气；反应的化学方程式：3CuO2NH33CuN23H2O；A中可能的杂质有：NH3和H2O；得到纯度较高的氮化硅的反应方程式为：3SiCl42N26H2Si3N412HCl。答案：(1)C的用量(2)高温存隔绝空气(3)3CuO2NH33CuN23H2O(4)NH3和H2O(5)3SiCl42N26H2Si3N412HCl
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