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单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,用紫外可见光谱法求禁带宽度,通常,(ahv),是有单位的,,(eV),1/2,.cm,-1/2,或,(eV),1/2,.cm,-1/2。,由上述公式可知,,(ahv),1/2,和,(ahv),2,只与,hv,成线性关系,能用于估算Eg。,由朗伯-比尔定律知,A=abc,a是吸光系数,b是比色皿或者薄膜样品厚度,c是浓度。b,c是固定值,a=A/bc=A/K。禁带公式可写成如下形式:,K,值的大小对,Eg,没有影响,以,hv,为横坐标,以 或 为纵坐标,作图,再做切线,即可得到Eg。hv用1024/波长代替。,前者为直接半导体禁带宽度值,后者为间接半导体禁带宽度值。A(Absorbance)即为紫外可见漫反射中的吸光度。,Kubelka-Munk公式,A=-lg(R)(1),F(r)=(1-R),2,/2R=a/s(2),R,为反射率,a吸收系数,s反射系数,求禁带宽度:利用第一个公式求每个吸光度对应的,R,,用,E1240,/波长,做横坐标,利用第二个公式求,F(R),,再用 做纵坐标,做图,再做切线,即得带隙图谱,二 求半导体禁带实例,将紫外可见分光漫反射数据导入到excell,然后进行数据处理,下面用第一个公式进行数据处理:,下面用Kubelka-Munk公式处理:,三 关于K值大小对结果的影响,同一组数据在不同的处理方法下得到的Eg.以下也是这一组数据的处理,由上图可见,密度,厚度等因素影响K的大小,但并不影响所求的Eg.,此课件下载可自行编辑修改,仅供参考!感谢您的支持,我们努力做得更好!谢谢,
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