曝光工艺流程示意图.ppt

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,2,#,显影（显影机）,蚀刻（蚀刻机）,后烘烤,剥膜（脱膜机）,检查,镀,ITO,导电膜,(,镀膜机）,光阻涂布（涂布机）,来料,烘烤,曝光,玻璃盖板,Cover Lens,ITO,氧化铟锡,PR,PR,ITO,氧化铟锡,1,2025/4/29 周二,镀,ITO,导电膜,(,镀膜机）,ITO,氧化铟锡,8486302200,制造平板显示器用物理气相沉积装置,在来料玻璃盖板表面镀一层,ITO,导电膜,(,氧化铟锡,),用于导电，如图中黄色示意部分,真空镀膜机,玻璃盖板,Cover Lens,镀膜,2,2025/4/29 周二,在镀过,ITO(,氧化铟锡,),的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料,(PR,如图中蓝色示意部分,),，然后再进行烘烤,涂布机,光阻涂布（涂布机）,PR,镀完,ITO,导电膜产品,ITO,氧化铟锡,涂布,3,2025/4/29 周二,8486303900,其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置,(,制造平板显示器用的机器或装置,),将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在,ITO,玻璃表面的感光光阻,(PR),上,曝光机,UV,灯,掩膜版,曝光产品,曝光,感光光阻涂布后产品,PR,4,2025/4/29 周二,UV,光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，,UV,光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分，,UV,光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在,ITO,玻璃表面的感光光阻,(PR),上。,UV,灯,掩膜版固定位置,曝光产品固定位置,UV,灯,掩膜版,曝光产品,曝光,被照射部分,5,2025/4/29 周二,8486304900,其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置,将显影液喷淋到曝光后的产品表面，显影液会将被,UV,光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被,UV,光照射的部分，保留在产品表面,显影机,显影,显影（显影机）,曝光后产品,被曝光部分,未被曝光部分,PR,6,2025/4/29 周二,蚀刻,蚀刻（蚀刻机）,8486304900,其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置,将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面，蚀刻液会将未被感光光阻,PR,覆盖部分的,ITO,蚀刻掉，留下被感光光阻,PR,覆盖保护的部分，保留在产品表面,蚀刻机,显影后产品,未被曝光部分,PR,7,2025/4/29 周二,ITO,氧化铟锡,剥膜,蚀刻后产品,剥膜（脱膜机）,8486304900,其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置,将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面，脱膜液会将未被,UV,光照射的感光光阻,PR,溶解掉，留下被保护的,ITO,部分，从而形成线路,脱膜机,8,2025/4/29 周二,