双面曝光机技术方案.docx

DL-UV 3双面曝光机技术文件

用于已覆有感光膜材料的单、双面电路板曝光，适合各种PCB、铭牌、镂空件等产品的光化学转移制作过程。
*最小解析线宽度：3mil
*最小解析线距宽度：3mil
*最大曝光幅面：3mm x 4mm
*光源：进 UV-A波段紫外灯管
* 波长：365nm
* 产能：120PNL/H
*真空压力：＜0.6MPa
*透光材料：工业专用透光膜
*设备内置微控制器，可进行程序设定
*设备配有液晶屏交互界面，蜂鸣提示报警
* 电源：220VAC/50Hz
* 功率：0.2kW
*重量：15kg
* 外形尺寸（长/宽/高）：620mm x 240mm x 650mm