1、SilvacoTCAD-Atlas目录SilvacoTCAD-Atlas简介Atlas器件仿真步骤实例操作演示2.Silvaco TCADAtlas简介SilvacoTCAD软件用来模拟半导体器件电学性能，进行半导体工艺流程仿真，还可以与其它EDA工具组合起来使用(比如spice)，进行系统级电学模拟(Sentaurus和ISE也具备这些功能)。SivacoTCAD为图形用户界面，直接从界面选择输入程序语句，非常易于操作，其例子教程直接调用装载并运行，是例子库最丰富的TCAD软件之一，你做的任何设计基本都能找到相似的例子程序供调用。SilvacoTCAD平台包括工艺仿真(ATHENA)，器件仿
2、真(ATLAS)和快速器件仿真系统(Mercury)，尤其适合喜欢在全图形界面操作软件的用户。3.Atlas简介ATLAS器件仿真系统使得器件技术工程师可以模拟半导体器件的电气、光学和热力的行为。ATLAS提供一个基于物理，使用简便的模块化的可扩展平台，用以分析所有2D和3D模式下半导体技术的的直流，交流和时域响应。ATLAS器件仿真系统：无需昂贵的分批作业试验，即可精确地特性表征基于物理的器件的电气、光学和热力性能；解决成品率和工艺制作过程变异的问题，使其达到速度、功率、密度、击穿、泄漏电流、发光度和可靠性的最佳结合；完全与ATHENA工艺仿真软件整合，具有完善的可视化软件包，大量的实例数据
3、库和简单的器件输入；最多选择的硅模型，III-V、II-VI、IV-IV或聚合/有机科技，包括CMOS、双极、高压功率器件、VCSEL、TFT、光电子、激光、LED、CCD、传感器、熔丝、NVM、铁电材料、SOI、Fin-FET、HEMT和HBT；分支机构遍布世界各地，有专门的物理学博士提供TCAD支持；与专精稳定和有远见的行业领导者合作，在新技术强化上有活跃的发展计划；直接把ATLAS结果输入到UTMOST进行SPICE参数提取，将TCAD技术应用到整个流片(Tapeout)过程。4.用Atlas语法直接进行器件描述，然后进行器件性能仿真。5.Atlas器件仿真步骤启动Atlas软件网格的定
4、义材料区域的定义电极、掺杂、材料特性和模型特性等的定义器件输出特性（I-V曲线）的仿真用tonyplot输出仿真结果6.启动Atlas软件在LINUX系统下，输入deckbuildas&进入Atlas操作界面。Goatlas开始运行。7.网格的定义8.网格的定义x、y坐标的起始位置、终止位置以及网格空间间隔。网格的疏密决定仿真结果的精确程度。9.材料区域的定义10.材料区域的定义定义各个区域材料，并用polarization calc.strain等申明极化效应，并对极化效应大小及极化电荷密度进行计算。11.电极、掺杂、材料特性和物理模型等的定义 定义电极12.定义掺杂13.定义材料特性14.选定物理模型15.定义接触类型16.器件输出特性（I-V曲线）的仿真17.器件最终结构18.用tonyplot输出仿真结果19.20.
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