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反渗透设备设备的组成
反渗透设备设备的组成
反渗透设备设备的组成，反渗透纯水处理设备(反渗透装置)通常由精密过滤器、高压泵、反渗透膜、压力容器以及相应的仪器、仪表、阀门、机架、管道及管件等组成。
反渗透纯水处理设备(反渗透装置)通常由精密过滤器、高压泵、反渗透膜、压力容器以及相应的仪器、仪表、阀门、机架、管道及管件等组成。
1、精密过滤器
又称保安过滤器，因为能对反渗透装置起到必要的保护作用而得名。有人把它当做为预处理的一部分，也也有人把它做为反渗透装置的组成部分。精密过滤器用以去除极微小的颗粒。普通砂滤能够去除很小的固体颗粒，使出水浊度达到1NTU 左右，但
2、出水仍然含有大量粒径在1～5μm 的颗粒，这些颗粒是砂滤无法去除的，虽然颗粒极小，可是如果直接进入反渗透主机，在RO 膜的浓缩作用下，仍然会造成膜元件的污染，要去除这些颗粒，就必须采用精密过滤。精密过滤器常设置在压力过滤器之后，有时也设置在整个预处理工艺的末端防止破碎的滤料、活性炭、树脂等进入反渗透系统，尽量做到不将上道工序产生的微粒带到下一道工序中去。滤孔孔径应与水中所含杂质的粒径相匹配，避免过粗或过细。
2、高压泵
高压泵是反渗透设备的主要动力设备，高压泵应设置高过热保护，泵前后分别设置低、高压保护开关。当高压泵进水压力低于设定值后，高压泵停运，以保护高压泵;当高压泵出口压力高
3、于设定值后，高压泵停运，以保护反渗透膜。在大型的反渗透系统中，为了防止高压泵启动时对供电电网的冲击，一般设软启动器或变频控制器来启动高压泵。
3、反渗透膜
反渗透膜是一种由压力驱动的新型分离膜，在压力推动下，溶液中的水分子透过膜，而其它分子、离子、细菌、病毒等被截留，从而达到制取纯水的目的。反渗透膜的孔径小于1nm(纳米)，能有效去除二价离子，对一价离子的去除率也可达95～99%;对低分子量有机物的去除率可达100%;反渗透系统能够除去原水中99%以上的矿物质、细菌、病毒、热原及细菌内毒素等。
反渗透膜的横向流速
由于进水中杂质被浓缩后必须由剩余的水带走，更高的横向流速
4、能降低浓差极化和污染物在膜表面的沉积速度。但是过高的横向流速将导致进水流量增大，对提高经济效益不利，同时会造成膜元件进出水压力降增加，引起望远镜现象，所以我们规定了膜元件的最大进水流量和最小浓水流量(如下表)。
另外，污染速度还受回收率、进水含盐量等参数影响。
8英寸膜元件 4英寸膜元件 2.5英寸膜元件
最大进水流量(m3/h) 19 3.6 1.0
最小浓水流量(m3/h) 4.4 0.95 0.25
4、压力容器
盛装反渗透膜，其容器材质多为不锈钢和玻璃钢两种，根据膜的规格来确定，一般单支压力容器最多可以装填6支反渗透膜。当压力串联时，前面膜的浓水作为
5、后面膜的进水，如此下去，所有容器两侧端板上的产水口连接到总的产水管。
5、相关仪器、仪表
反渗透设备的最基本的仪器、仪表有压力表、流量计、电导率仪、压力保护器;
压力表：设在泵前、泵后、段间、浓水、产水侧，在线指示反渗透装置的运行压降，根据此信息判断膜的堵塞状况。
流量计：一般设在产水和浓水口，依此调节浓水、淡水产水比例使反渗透系统达到最佳回收率;进水流量则由浓水流量+产水流量计算得出。
电导率仪：用以在线监测产品水水质情况。
压力保护器:分为高压保护和低压保护器。高压保护器设在高压泵后，当系统因故障等原因，造成泵后压力急剧增高时，高压保护器向高压泵发出指令
6、使高压泵停止运行，以避免对设备造成更大的损害;低压保护器设在高压泵前，当原水因缺水等原因造成进水压力或流量不足时，低压保护器向高压泵发出指令，使高压泵停止运行，以避免高压泵空转而对系统造成更大的损害。
6、阀门
在反渗透装置的给水、浓水、产品水管道设有自动控制阀，对反渗透进行停机保护、保护冲洗、产品水超标自动排放;在产品水和浓水管道设有调节阀门，来调节产品水和浓水的产水量及产水比例，使设备满足系统设计要求及系统达到最佳运行状态。
7、管道
反渗透纯水处理设备(反渗透装置)的高压管道一般采用不锈钢管道;低压管道可采用UPVC材质。
8、保护冲洗、化学清洗装置
7、 保护冲洗装置：在反渗透初次运行的时候，用原水对系统进行低压冲洗，目的是将膜中保护液冲出来，使膜充分湿润，并且尽快适应原水的水质、水温等;在反渗透设备每次停止运行的时候，用除盐水将系统中的浓水置换出来，使设备停止运行时使整个设备处在一个相对清洁的环境中，可有效防止水中污染物质沉积在膜表面。
化学清洗装置：反渗透装置在正常运行条件下，反渗透膜被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面，引起反渗透装置出力下降或脱盐率下降。为了恢复良好的透水和除盐性能，需对膜进行化学清洗。
清洗装置是反渗透系统中十分重要的部分，通常大中型系统均设有专用的清洗系统，但是对于小型(产水量<5 吨/小时)反渗透系统，由于受到成本的限制，有时不设清洗装置，但必须考虑到对膜元件进行化学清洗时系统的扩展性及设备的可维护性。
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