1、Edit Master title style,Edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,LCD,清洗技术简介,汉高股份有限公司,2,电子产品的发展方向,TFT-LCD,3,LCD,的结构,透明电极,玻璃基板,导向膜,液 晶,光源,集成电路,反射片,反射片,Color Filter,Black Matrix,Array Board,4,ITO,玻璃制造流程和玻璃清洗剂,CeO,研磨,研磨后,清洗,涂膜前,清洗,母板,ITO,涂膜,切割后,清洗,切割,P3 siliron AP,P3
2、siliron HS,P3 siliron L,P3 siliron E,P3 siliron TK,P3 siliron TKA,P3 siliron S,P3 siliron SA,最新产品:,P3 siliron AP,去除研磨剂,P3 siliron SA,去除颗粒,纸屑,玻璃屑,油污,5,彩色滤光片的制造过程,玻璃基板,黑色矩阵,彩色层,保护层,ITO,导电膜,光阻,涂布,BM,基板清洗,ITO,制程,去除边缘,显影,后段,烘烤,前段,预烤,紫外线,曝光,重复三次(,R,G,B),P3 poleve HP,P3 disperse H,6,印框胶,贴偏振片,检测,下一道工序,去除残留液
3、晶,注射液晶,清洗,面板组合,Array board,基板玻璃,清洗,去除研磨和切割残留物,清洗,金属铬,BM,制程,刻蚀,Array board,光刻制程,Color Filter,曝光,去除边缘,曝光,检测,检测,Color Filter,基板玻璃,去除边缘,显影,去除光阻,显影,光阻,BM,制程,去除光阻,TFT-LCD,制造流程,7,LCD,基板玻璃表面的污染物,污染物分类,污染物来源,清洗方法,有机污染物,包装纸中的有机物、指印、油脂等,玻璃清洗剂清洗,碱液清洗,UV,光照射,(,O3),清洗,无机污染物,灰尘、玻璃屑或研磨剂等微粒子,(,particle),超音波清洗,喷淋加毛刷清
4、洗,配合溢流与过滤,8,基板预清洗,一,.,目的:,对,PI,投入前之基板做清洗工作,确保基板之清洁状态。,二,.,原理:,利用洗剂、毛刷、超音波、,IR,、,UV,等装置,将基板上的微粒及油污清除。,9,LCD,基板清洗,P3 siliron HS(2,槽,),1-5%,45-60,5-10 min.,浸渍,超声波,P3 siliron LS(2,槽,),1-3%,45-60,5-10 min.,喷淋,刷洗,去离子,水,(,4-,5,槽,),RT-60 ,5-10 min.,浸渍,超声波,去离子,水,(,4-,5,槽,),RT-60 ,5-10 min.,喷淋,刷洗,清 洗,漂 洗,PI,前
5、10,强碱清洗的特点,强碱与玻璃有一定的亲合力,容易在玻璃表面形成碱性覆盖膜,不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题,需采取增加冲洗次数的方法改善,一般清洗设备会设计更多的清洗和漂洗槽,但这也增加了设备费用成本。,11,P3 siliron,系列玻璃清洗剂的特点,表面活性剂和助洗剂的协同作用,显示出,卓越的清洗性能,采用了漂洗助剂,残留物极易漂洗干净,。,12,助洗剂浓度:2.0%,表面活性剂浓度:0.1%,清洗温度:60,C,处理时间(,min),清洗能力(%),水,表面活性剂,助洗剂,助洗剂,+,表面活性剂,100,0,1,3,0,20,40,60,80,5,10,Lit.from:
6、Oberflche-Surface 1984,Rossmann:Reinigung starrer,Oberflchen,助洗剂/表面活性剂的协同作用,13,水洗水,1,2,3,脱脂,水洗,举例:,m =10 ml/m,2,表面,Co=25 g/l,Cx=0.01 g/l,稀释比例=1:2500,消耗量,:,1 个水洗槽25.00,l/m,2,表面,2 个水洗槽0.50,l/m,2,表面,3 个水洗槽0.14,l/m,2,表面,水洗水计算方程式,(简化式),L =,n,Co,Cx,L=,水洗水的消耗(,l/m,2,表面),m=,带出量(,l/m,2,表面),n=,水洗区的水洗槽数量,Co=,
7、最后脱脂槽的浓度(,g/l),Cx=,最后水洗槽的浓度(,g/l),m,14,LCD,基板玻璃清洗条件,控制项目,清洗剂浓度测定,:,每天进行,一次,电导率法,酸碱滴定,总碱,定期添加,约5,g/m2,15,LCD,基板玻璃清洗条件,测试方法,水膜浸润度,扫描式电子显微镜(,SEM),X,光能量分散光谱仪(,EDS),16,颗粒残留,以,X,光能量分散光谱仪,(,Energy Dispersive Spectrometer),分析微粒子污染物,确认该微粒子为玻璃屑,17,泄漏液晶清洗,一.目的:,对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作,主要目的是去除狭隘中的残留液晶。,二.原理:,利用液晶清洗
8、剂、超音波等装置,配合溢流(,overflow),与过滤(,filtration),将狭隘中的残留液晶以及表面的微粒清除干净。,由于,STN-LCD,工艺是先将液晶盒裁切(裂片)之后才进行清洗,可以预知液晶盒的玻璃面板边缘与表面,除了沾附液晶分子,亦将附着许多玻璃屑(微粒子),所以清洗槽的溢流与过滤功能就显得非常重要。,18,LCD,清洗条件,P3 kaltfin 20,(2,槽,),45-,6,0,5-10 min.,超声波搅拌,P3 kaltfin 20+P3 Etarap ES,(2,槽,),45-,6,0,5-10 min.,超声波搅拌,P3 allpass 7000/7750,(2,
9、槽,),45-60,5-10 min.,超声波搅拌,IPA,(3,槽,),RT-45 ,15-20 min.,超声波搅拌,Pure Water,(4,槽,或以上,),40-60 ,15-20 min.,超声波搅拌,Pure Water,(4,槽,或,以上,),40-60 ,15-20 min.,超声波搅拌,清 洗,漂 洗,泄漏液晶清洗,19,LCD,清洗工艺,P3 kaltfin 20,+,P3,Etarap ES,清 洗,贮油槽,漂 洗,漂 洗,过滤器,(纯水),1,活性炭,离子交换塔,自来水,废水处理系统,油水分离器,烘箱,烘,干,85-100,漂 洗,2,20,不损害玻璃。,对封口胶无害。,环氧树脂,丙烯酸树脂,不损害金属。,铝,银,铜,不含离子。,表面张力低。,容易用异丙醇或水漂洗。,LCD,清洗剂的要求,21,通过,架片,转动偏振片,液晶片,光源,偏振片,偏振片,无花纹,有花纹,(,偏振玻璃法,),不通过,LCD,清洗效果判定,22,搅拌开启,滴入液晶,可溶解,通过,搅拌停止,清洗剂,不通过,不通过,清洗效果的比较,23,液晶清洗效果(已洗净),24,液晶清洗效果(未洗净),25,






