集成电路布图设计专有权保护机制探析.pdf

集成电路布图设计作为一种新兴的知识产权客体，其保护模式区别于著作权和专利权，但又存在紧密联系，探索出了一条“工业版权”的保护路径。针对布图设计的现有保护机制尚不完善，司法实务中也存在不同裁判观点的现状，在理清布图设计的保护客体、获权要件、保护范围、侵权判断规则和非以“公开换保护”本质的基础上，完善布图设计专有权的确权机制、引入刑事保护措施等强化法律保护，与此同时以利益平衡原则为判断标准，明确反向工程抗辩成立要素、限缩商业使用权的权能范围等权利限制机制，以探索布图设计专有权更优保护路径。关键词：集成电路；布图设计；反向工程作者简介：张一泓，浙江省丽水市人民检察院检察官助理。1.参见国家集成电路产业发展推进纲要。2.郭禾：半导体集成电路知识产权的法律保护，载中国人民大学学报2004 年第 1 期，第 102 页。3.集成电路布图设计保护条例第 2 条第 2 款：集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。4.吴汉东：知识产权法，法律出版社 2021 年版，第 691 页。一、引言在当前信息技术时代，集成电路承担着运算和存储功能，其广泛运用于通讯设备、数字家电、工业器件、计算机等领域，是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。1集成电路又被称为芯片，它是将电阻、电容、晶体等元件通过一定的线路固化于一定的固体材料上，从而使之具备一定的电子功能的产品。2 集成电路作为一种综合性的技术成果，包括工业技术和布图设计3，工业技术方面，其技术方案可以通过申请专利获得专利法保护；而布图设计既不是工业品外观设计，也不属于具有审美意义的美术作品，因此当前各国基本上对其采用了一种“工业版权”的保护模式。42020 年 8 月 4 日国务院发布新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策（下称若干政策），从财税、投融资、研究开发、知识产权等八个方面加大了对于该产90902023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan业的政策支持力度。在知识产权政策方面，该文件提出，严格落实集成电路布图设计及软件知识产权保护制度，加大侵权违法行为惩治力度，有效保护集成电路和软件知识产权。5本文试图通过对集成电路布图设计专有权现有法律保护机制和保护现状进行分析，理清布图设计专有权的几个关键问题，在集成电路布图设计专有权保护机制强化的同时，完善权利限制规则，以期促进我国半导体集成电路产业的高质量发展。二、现有保护机制及案例实证分析（一）现行法律制度的总体分析1989 年，世界上首部关于保护集成电路布图设计的国际条约华盛顿条约制定，其对于集成电路布图设计的立法具有指导性意义。该条约规定各国可以任选著作权法、专利法、工业设计法或不正当竞争法等形式，或采用特别法形式保护布图设计。61994 年 TRIPS 协议进一步强化了集成电路布图设计专有权的法律保护，布图设计专有权的效力不限于布图设计及含有该布图设计的集成电路，还延伸到了安装含有该集成电路布图设计的产品。为履行加入世贸组织的相关知识产权保护义务，我国于 2001 年 10 月 1 日实施了集成电路布图设计保护条例（以下简称条例），条例针对集成电路布图设计专有权的法律定义、权利内容、登记程序、法律责任等方面内容进行了规定。2001 年 10 月 1 日同步实施了集成电路布图设计保护条例实施细则（以下简称细则），细则针对条例关于集成电路布图设计申请登记的相关规定进行了细5.新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策第二十六、二十七、二十八条。6.顾志恒：TRIPS 协议下集成电路布图保护制度失衡法律分析，上海交通大学 2012 年硕士学位论文，第 21 页。7.参见雷艳珍：我国集成电路布图设计专门法保护中的基本问题以布图设计保护范围的确定为中心，载法律适用2023 年第 2 期，第 133 页。8.参见郭禾：中国集成电路布图设计专有权保护评述，载知识产权2005 年第 1 期，第 12 页。化。2001 年 11 月 28 日，国家知识产权局颁布实施了集成电路布图设计行政执法办法，就集成电路布图设计侵权行为的处理和调解程序进行了规定。经过多年实践，国家知识产权局于 2019 年 4 月发布集成电路布图设计审查与执法指南（试行）。以上是我国现有的针对集成电路布图设计专有权的全部法规及部门规章，其中条例和实施细则是目前我国集成电路布图设计保护的主要法律依据。在知识产权其他部门法已经多次修改完善的背景下，关于集成电路布图设计专有权的法律保护仍然存在立法阶层不高，缺乏全面的、与时俱进的法律指引等问题，7相关法律规定亟待进一步完善。（二）相关案件的实证分析为深入分析集成电路布图设计现有司法案例，笔者在裁判文书网以“侵犯集成电路布图设计专有权”为案由关键词进行检索，共获得法律文书 43 篇，其中判决 11 篇，裁定 31 篇，调解书 1 篇。此外，查询到两件国家知识产权局公布的集成电路布图设计专有权的行政撤销案件。相较每年案件量不断攀升的专利、商标等案件，集成电路布图设计专用权的案件显得尤为稀少。从世界范围来看，美国、德国等作为制造业大国，其诉至法院的集成电路布图设计专有权案件也屈指可数。8这与集成电路布图设计专有权保护的客体范围较小、法律规则有待完善等要素不无关系。通过梳理现有案例，笔者发现现有裁判中亦存在部分观点冲突、规则不明晰之处。1.布图设计专有权是否为“以公开换保护”存在不同判决通过上述案例我们可以发现，在集成电路布图设计专有权是否以“公开换保护”的问题91912023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan上，法院存在不同的裁判观点，而该问题直接关系到是否要求申请登记的相关文件需要达到专利法律制度下说明书的充分公开标准。2.布图设计专有权保护范围的确定存在不同判决由于国家知识产权局针对申请登记的集成电路布图设计并不进行实质性审查，其申请材料的纸质版是否清楚载明了该布图设计的独创性部分以及电子版与样品是否一致的问题并不清晰，在后续司法诉讼中，如何确定案涉布图设计的保护范围成为一个关键问题。三、布图设计专有权的几个关键问题相较于版权、专利、商标等传统知识产权客体而言，布图设计专有权此种新型知识产权长期以来处于相对边缘化的状态，实务案例的缺乏导致理论界对布图设计的关注度不够，而理论研究的不足亦使得涉及布图设计专有权的相关概念处于相对混乱的状态，对此本部分试表 1 布图设计专有权是否为“以公开换保护”的相关案例案件名称案件号审理法院裁判观点昂宝电子（上海）有限公司与被告南京智浦芯联电子科技有限公司、深圳市芯联半导体有限公司、深圳市梓坤嘉科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷（2013）宁知民初字第 42 号南京市中级人民法院布图设计因登记公告公开而获得保护，布图设计对社会应当是公开的，公众有权获知受保护的布图设计的具体内容，从而在获得布图设计专有权保护的同时也促进公众对布图设计的利用，并能够保护公众利益。昂宝电子（上海）有限公司与南京智浦芯联电子科技有限公司、深圳市芯联半导体有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷（2012）深中法知民初字第 398 号苏州市中级人民法院以复制件或图样为准确定专有权的保护内容，符合条例规定的精神，符合以公开换保护的原则深圳裕昇科技有限公司、户财欢侵害集成电路布图设计专有权纠纷（2019）最高法知民终 490 号最高人民法院布图设计的登记是确定保护对象的过程，是获得布图设计专有权的条件，而不是公开布图设计内容的过程，也不是以公开布图设计为对价而获得专有权保护。表 2 布图设计专有权保护范围确定的相关案例案件名称案件号审理法院（机构）裁判观点南京微盟电子有限公司与泉芯电子技术（深圳）有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠（2019）粤知民终1 号广东省高级人民法院布图设计专有权范围应当以布图设计的复制件或者图样为主，必要时样品可以作为辅助参考。无锡新硅微电子有限公司与南京日新科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案国家知识产权局集成电路行政执法委员会审理的第一批集成电路布图设计专有权侵权纠纷第 5 号指导案件国家知识产权局集成电路行政执法委员会登记时尚未投入商业利用的布图设计，保护范围以复制件或图样为准。登记时已投入商业利用的布图设计，复制件或图样能够清晰完整地呈现布图设计全部细节的，以复制件或图样为准；复制件或图样的细节不够清晰时，单独依靠复制件或图样无法界定专有权保护范围的情况下，集成电路样品与复制件或图样呈现的布图设计一致时，样品可以作为参考。深圳市 XX 电子有限公司诉深圳市 XX 电子股份有限公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案（2009）深中法民三初字第 184 号深圳市中级人民法院登记时所提交的纸质图样与芯片样本不一致，图样未包含芯片样本的全部内容，以登记的芯片样本确定案涉集成电路布图设计的保护范围。92922023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan图对几个关键问题进行理清，以期为完善集成电路布图设计专有权法律保护机制奠定基础。1.布图设计保护的客体：功能性表达从产业链的结构来说，集成电路产业由设计、制造、封装、测试、销售等组成，布图设计处于产业的上游。9而设计又可被分为不同的阶段，最终的布图设计文件是在功能、逻辑、电路的设计与验证等步骤之后对电路元件位置的层叠排列，是以图案形式对集成电路中的元件类型、大小以及元件之间的相对位置关系进行了物理描述，以此体现元件间更优的位置关系。具体而言，在布图制作阶段，集成电路设计者将以抽象形式表达的电路网表转化成代表电路的几何图形，用于表示对元件间的排列、布局所作的安排。10在这个意义上，布图设计与著作权法上的图形作品存在类似之处，但图形作品获得著作权保护的关键在于其点、线、面构图之间体现出来的严谨、对称的科学美感，著作权法之所以将此种设计图作为作品加以保护仅仅是因为图形设计“看上去美”，并不是因为其变成实物之后的实用功能。11而布图设计侧重保护功能性，布图设计不在于给受众提供视觉上的美感享受，而在于执行电子电路功能。虽然布图设计与高精尖技术紧密相关，但其本质上属于独立于思想方法与最终产品之间存在的智力成果形式，保护的是对元件的物理描述方式，与抽象的逻辑关系、元件功能以及技术思想无关。根据条例的规定，集成电路布图设计指的是元件的部分或者全部互连线路的三维配置，此处的三维配置是布图设计呈9.参见吴汉东：知识产权法，法律出版社 2021 年版，第 692 页。10.参见宁立志：知识产权法（第二版），武汉大学出版社 2011 年版，第 374 页。11.参见王迁：知识产权法教程，中国人民大学出版社，2021 年版，第 129 页。12.集成电路布图设计专有权保护条例第五条：“本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等”。13.美国半导体芯片保护法第 901-907 条，其中 901 条规定：“掩膜作品是指一系列相联的以任何形式规定或编码的图像：（A）具有或体现由半导体芯片产品各层上，或由各层移离出金属、绝缘或半导体材料所形成的预定立体图形；以及（B）此系列图像之间的关系是，每一图像在半导体芯片产品中均有一种形式的平面图形”。14.参见英国半导体产品保护条例第 5 条：“布图设计专有权，从布图设计创作完成之时产生，或在本条例第 3 条第 2 款规定的情况下，从其首次商业利用之日产生”。现的最终结果，即集成电路布图设计专有权保护的是设计者对电路中布图元件在特定空间中特定布局关系的表达。在保护对象这个客体概念上，集成电路布图设计专有权与著作权存在类似之处，即不保护思想，保护的是思想的表达方式，12这与专利法保护技术方案（技术思想）的规则存在较大区别。也正因为如此，在美国法律体系下，集成电图布图设计亦被称为“掩膜作品”。132.专有权的独创性要件：与著作权和专利权的比较针对集成电路布图设计的保护，华盛顿条约允许缔约方以商业实施或登记作为权利取得的方式，TRIPS 协议允许缔约方将登记注册作为权利取得的一种方式，但不仅限于此。当前，除英国采取集成电路布图设计专有权自动取得方式外，14绝大多数国家均采取登记注册的权利取得模式。在登记取得制度下，除美国采取登记诉讼主义，即形式审查和实质审查相结合的方式外，其余大多数国家（包括我国）均采取登记保护主义，即采形式审查方式，此种审查类似于专利法中针对实用新型和外观设计的审查模式，即仅对申请文件的形式要件进行审查，不对申请内容进行实质审查，此种审查模式契合了集成电路迭代更新快、应用周期短的现实要求。根据条例的规定，集成电路布图设计专有权的获权条件是“独创性+非常规设计”。基于形式审查的基本模式，布图设计完成登记后，并不能当然推定该布图设计具有独创性，独创性的判断仍然需要法官在具93932023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan体个案中分析。集成电路布图设计要求的“独创性”与著作权法中关于作品的“独创性”要求具有不同的法律内涵。著作权法在立法目的上鼓励文学艺术创作，鼓励思想表达的多样化，只要具备文学艺术上的创造性即可构成作品。著作权法中的“独创性”要求作者独立创作，且达到一定水准的智力创作高度，作品独创性的有无并无明确的客观判断标准，总体而言作品独创性的判断具有较大的主观性。集成电路布图设计中的“独创性”相较于著作权法的“独创性”而言，其所要求的独创性同样要求设计者是独立设计完成的，因而集成电路布图设计的法律规则和著作权法在允许设计巧合的问题上保持一致。但在“创”的判断上具有更多的创新要求与客观性标准，即集成电路布图设计要求的是在技术上的进步，具有明确且客观的指向性要求，与文学作品中百花齐放的“创”具有明显不同。其次，集成电路布图设计中的“创”要结合专利法中的“创造性”要件进行理解。专利法要求的创造性（发明）是指技术方案具有突出的实质性特点和显著的技术进步，对于本领域普通技术人员来说是“非显而易见的”，即不是本领域普通技术人员无需经过创造性劳动就能联想到的技术方案，而集成电路布图设计中的“创”要求“非常规设计”即可。前者要求的是技术上“质的创造性”，后者强调的是“量的创造性”。15且由于布图设计受限于电路设计过程中规则的限制，此处的“非常规设计”标准应低于专利法的“非显而易见性”标准。反之，如果布图设计的创造性已经达到了专利法意义上的“非显而易见性”标准，则当然认定该设计符合“非常规设计”要求。因此，集成电路布图设计获权条件中的15.参见盛大铨：论集成电路及其布图设计的法律保护，载南京邮电大学学报（社会科学版）2002 年第 4 期，第31 页。16.参见无锡新硅微电子公司与南京日新科技有限公司侵犯集成电路布图设计专有权案，国家知识产权局集成电路布图设计行政执法委员会集侵字 2017001 号行政处理决定书。“独创性+非常规设计”标准高于著作权法中的独创性标准，但低于专利法中的创造性要求，这也是针对集成电路布图设计的保护法律采取区别于著作权法和专利法的保护规则，而采取“工业版权”保护规制的原因所在。3.保护范围的判断：电子图样法律地位的明晰根据条例第 16 条和细则第 14 条的规定，申请集成电路布图设计登记，应当提交申请表、布图设计的复制件或者图样，可以同时提交布图设计的电子版，如果布图设计已经投入使用的还需要提交包含有该布图设计的集成电路样品。当申请人仅提交复制件或图样时，在后期涉及侵权判断的司法诉讼亦或是行政处理过程中，当然以该复制件或图样中该集成电路布图设计的独创点划定其保护范围。但若申请人同时提交了布图设计的电子版以及样品时，此时在图样纸质版、电子版和样品三种权利载体间，以何种确认保护范围成为法律实务中存在的问题。本文认为，图样纸质版是任何申请时都必须提交的申请文件，其法律地位类似于专利申请文件中的权利要求书，应当以其确定保护范围。细则要求该纸质版图样至少放大到用该布图设计生产的集成电路的 20 倍以上，但基于当前集成电路早已进入纳米级别，诸多时候仅靠纸质版图样难以清晰地判定集成电路布图的保护范围。在我国首例侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案件中，国家知识产权局认为：以复制件和图样为基础，以集成电路样品为补充来确定布图设计保护范围的原则，即在复制件和图样与样品具有一致性时，后者可对前者的细节进行补充，但未在前者中得到体现的部分，不应被纳入布图设计的保护范围。16在赛芯电子诉裕94942023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan昇科技侵害集成电路布图设计专有权纠纷上诉一案中，最高人民法院认为：在确定布图设计的保护范围时，一般应根据复制件或图样的纸件进行。在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下（此处的一致并不要求完全相同，不具有明显区别即可），可以采用样品剖片，通过技术手段精确还原出芯片样品包含的布图设计的详细信息，提取其中的三维配置信息，确定纸件中无法识别的布图设计细节，用以确定布图设计的内容。17当前司法机关和行政机关的观点基本一致，即原则上应该由纸质版图样确定保护范围，样品与纸质版存在一致性的情况下，可以作为参考。前述案例中，司法机关和行政机关均针对样品的法律地位进行了分析，而并未对电子版图样在确定保护范围时的法律地位进行判定。本文认为，电子版图样与纸质版图样仅在载体上存在差异，二者理应保持一致性，但在纳米级别语境下，当纸质版图样已无法更好的再现布图设计的独创性内容时，通过电子版的图样更为清晰的再现独创性部分，从而提交电子版图样，此时应该根据技术发展的实际情况，以纸质版图样为基础，结合电子版图样更为细化、清晰的内容来确定布图设计的独创性部分，从而划定其保护范围是法律规则适应技术变化的应有之义。4.禁止性权利的外延分析根据条例第 7 条的规定，布图设计专有权的范围包括复制权和商业利用权。作为禁止性权利，对于法定权利类型的外延进行清晰的判断是侵权认定的前提，也是布图设计专有权保护的关键所在。复制权是著作权的核心权利，其在著作权法意义上的内涵是指作品被相对稳定和持久地固定在有形物质载体之上，具体包括无载体到17.参见最高人民法院（2019）最高法知民终 490 号民事判决书。18.参见曹伟：集成电路知识产权保护评析，载现代法学2007 年第 2 期，第 164 页。19.TRIPS 协议第三十六条：“以商业使用为目的，通过进口、销售或者其他方式去扩散含有受保护的布图设计的集成电路以及该集成电路组成的产品。”有载体的复制、有载体到有载体的复制行为。然而，我们不能将布图设计专有权上的复制与著作权法意义上的复制做同等解释。在实际操作中，对集成电路布图的复制并非单纯地复制设计图本身，而是将布图设计应用到集成电路当中，以提升集成电路的功能和效率，此种行为本质上是将布图设计用于产品制造，类似于专利法上的制造行为，因此国外关于集成电路的立法以及相应的国际条约针对集成电路中的复制所使用的大都是“reproduce”而非“copy”一词。18故布图设计中的复制权，范围应包括著作权法意义上的复制以及专利法意义上的制造。根据条例对商业使用权的定义，该权能包含三个层次的保护范围，即将布图设计直接投入商业利用，将含有布图设计的集成电路投入商业利用，将含有前述集成电路的物品投入商业利用。此种权利范围的设计类似于专利法的保护模式，譬如对专利方法的保护不仅包括该专利方法，还延伸到依照该方法直接生产的产品上，此种立法模式的选择是参照 TRIPS协议的结果。195.侵权的判断：“接触+实质性相似公式”的应用根据条例第 7 条、第 23 条的相关规定，当被控侵权人不能证明被控侵权设计与受保护的布图设计存在相同的部分是自己独立设计完成时，构成对权利人集成电路布图设计专有权的侵权。针对实质性相似的判断，要注意的是当受保护设计并非整体具备独创性的条件下，比对的对象应当是受保护设计中具有独创性的部分与被控侵权设计中的相应部分，而非将被控侵权设计与受保护设计进行整体比对。在当前司法实务中，针对集成电路布图设计专有权的侵权采取与著作权侵权判断同样的95952023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan规则，即“接触+实质性相似”规则。在具体的案件中，司法机关和行政机关在诸多时候将重点放在了实质性相似的判断上，忽视了“接触”要件的判断。譬如在钜泉光电公司与深圳市锐能微科技公司、上海雅创公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案中，法院通过被诉侵权产品与涉案布图设计构成实质性相似，便认定该案被告侵犯了权利人布图设计专有权中的复制权。20在前述无锡新硅微电子公司与南京日新科技有限公司侵犯集成电路布图设计专有权案中，国家知识产权局亦通过认定被诉侵权产品与涉案布图设计的独创性部分相同或实质相同，直接认定被诉侵权人复制行为的存在。忽视对“接触”要件的判断，可能导致条例23 条第 3 款规定的“对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用”不视为侵权条款被架空。在著作权侵权判断规则中，“接触”要件并不要求举证证明实际接触，只要求存在接触的可能性即可，该规则在布图设计专有权侵权判断中同样适用。“接触可能性”的判断因素可参考著作权法下的规则，21即在构成实质性相似的基础上，判断接触可能性时可以一方面从被控侵权人与权利人之间是否存在雇佣、亲友、合作等特殊关系角度以及被控侵权人的利害关系人与权利人是否存在前述特殊关系的角度分析；另一方面若被控侵权设计与受保护设计的保护范围完全一致，无法用巧合来说明的情况下，可以推定被控侵权人存在接触受保护设计的可能性；此外如果受保护设计在本行业领域广为知晓，亦可以作为存在接触可能性的考虑因素。20.参见上海市高级人民法院（2014）沪高民三（知）终字第 12 号民事判决书。21.著作权法下构成接触可能性的要素：1.被控侵权作品与权利作品存在实质性相似且权利作品作品已经广泛传播，被控侵权人存在接触可能性；2.被控侵权作品与权利作品存在实质性相似，且被控侵权人的人的利害关系人接触过权利作品；3.被控侵权作品与权利作品存在实质性相似，且这种相似难以用巧合来说明。22.参见王迁：2014 年度人民法院十大民事案件之六：上海首例集成电路布图设计纠纷案，https:/ 年 10 月 24 日。23.王广巍、冯灏宁：刍议集成电路布图设计专有权的法律保护，https:/ 9Eg，最后访问日期：2022 年 10 月 22 日。此外，还需要注意的是在满足“接触+实质性”相似判断要件的基础上，实质性相似部分在整个布图设计中的占比要件亦不可忽视。在著作权侵权判断规则中，仅复制个别独创性表达尚不足认定构成侵权，但在布图设计专有权侵权判断中，只要被控侵权布图设计与权利布图设计中任何独创性部分构成实质性相似即可构成侵权。布图设计与文学作品存在不同，其设计具体功能性，各设计点相互依存，具有牵一发而动全身的特点，因此布图设计中任何具有独创性的设计点都应该给予法律保护。226.“以公开换保护”的否定：布图设计与专利的区分“以公开换保护”是专利法律制度下专利权授权的本质，也是权利获取的对价。有观点认为“与专利法相类似，布图设计专有权的制度逻辑也是以技术公开作为专有权保护的对价，以有期限的保护换取社会公众对先进技术的接触。”23在前述昂宝电子公司与被告南京智浦芯联公司等害集成电路布图设计专有权纠纷一案和赛芯电子诉裕昇科技侵害集成电路布图设计专有权纠纷上诉一案中，不同法院对此问题亦存在观点差异。本文认为集成电路布图设计专有权的登记程序类似于著作权中作品的登记程序，登记的目的在于进行权利固化，是后续维权的基础，而非通过登记进行公开换保护。首先以公开换保护法律规则的实质在于申请人将智力创造成果完全公开，使得社会公众可以根据公开的内容复制实施该成果，避免社会公众重复性研发，也使得有价值的新技术可以迅速普及、应用，96962023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan发挥其价值，基于此法律给予申请人一定期限的垄断性权利，以奖励其智力性投入。该规则要求申请人必须充分公开其智力成果，达到本领域普通技术人员不经过创造性劳动就可以复制实施的程度。而根据细则的规定，公众可以查阅已经登记的布图设计复制件或者图样的纸件，而登记备案的电子版布图设计只能在侵权诉讼或行政处理程序的条件下可查阅，其余任何人不得查阅或复制。由此可知，已经登记的集成电路布图设计，其并不必然提交了设计的电子版，即使提交了电子版本的设计图，公众也无法查阅。且针对申请时未投入商业利用的布图设计，该登记申请可以保密最多不超过设计一半的信息。由此可见，立法者并未要求布图设计者在申请材料公开方面履行类似专利法中针对说明书等材料的全面公开原则，且在当前微电子技术已经进入纳米级别的背景下，仅设立放大 20 倍的下限要求，并不能实现充分公开的效果。其次，专利法在“以公开换保护”的规则下，当专利申请文件充分公开后，默示推定任何第三人在此后完成的落入专利保护范围的技术产品（外观设计）构成专利侵权，第三人主张独立完成并不能成为侵权阻却事由，这是专利充分公开后强排他性权利的体现。而与著作权规则类似的集成电路布图设计专用权，条例中明确表示独立完成可以成为侵权阻却事由，在未充分公开，不以公开为权利获取前提的规则下，承认独立设计不具有侵权可能性的制度设计符合法律的基本逻辑。四、保护体系的完善：基于机制完善和权利限制的二维视角在理清集成电路布图设计专有权几个关键问题的基础上，立足当前法律保护机制的不足，24.参见傅启国、龚跃鹏等：损害知识产权社会公共利益的救济途径探析，载中国发明与专利2019 年第 2 期，第 106 页。进一步完善集成电路布图设计专有权法律保护机制和权利限制机制是促进我国半导体集成电路产业发展的内在要求。（一）保护机制的完善1.构建确权制度：引入无效宣告请求人在专利法律制度中，专利授权后，任何主体认为该专利授权不符合专利法的规定，都可以向专利复审和无效审理部申请宣告该专利全部或部分无效，该制度旨在引入公众对专利此种法定垄断性权利的监督，纠正错误授权引起的专利权人对公共资源的独占，将原本属于社会公共领域的智力成果返还给社会公众，实质上是一种对社会公共利益的救济手段。24在集成电路布图设计法律制度中，现有法律制度并未规定公众有权提起撤销集成电路布图设计的权利，即缺乏无效宣告程序。在法律实务中存在所谓的“撤销意见提出人”，但该主体并未获得法律“请求撤销布图设计专有权的请求权”授权。因此，从严格的意义上来说，专利复审和无效审理部并不会因为“撤销意见提出人”提出的撤销意见而必然启动撤销程序。条例第20 条规定“布图设计专有权利人对国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记的决定不服的，可以自收到通知之日起 3 个月内向人民法院起诉。”但对于“撤销意见提出人”而言，不论是对专利复审和无效审理部不启动撤销程序的决定，抑或是对处理决定不服的，其均不享有法律上的救济路径。此外，由专利复审和无效审理部负责针对集成电路布图设计的撤销审查，该部同时负责专利的复审和无效的审查工作。但集成电路布图设计专有权取得的条件与专利授权条件存在较大差异，集成电路布图设计专有权的取得要件是“独创性+非常规设计”，专利的核心授权条件在于专利“三性”，最为关键的在于“创造97972023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan性”的问题。集成电路布图设计专有权所要求的独创性和非常规设计标准低于专利法创造性要求的实质性特点和“进步（发明要求突出的实质性特点和显著的技术进步）+非显而易见性”标准。在集成电路布图设计撤销案件远少于专利复审和无效案件数量的现实背景下，由同一个机构针对不同法律标准的两项权利进行审查，从理论上来说难以区分。因此，在布图设计专有权法律制度中参考专利法律规则，赋予撤销意见提出人以无效宣告请求人的法律地位，建立权利的确权机制具有现实必要性。2.建立布图设计的刑事保护机制信息技术时代，知识产权侵权类型不断变化，强化知识产权保护成为社会共识，刑事保护作为严格的法律保护措施已然愈发重要。2020 年 12 月 26 日，全国人大常委会审议通过刑法修正案（十一），扩大了侵犯著作权罪的入罪范围，将侵犯注册商标罪扩展到了服务商标类型等，都体现出立法者对强化知识产权刑事保护的意图。当前针对严重侵害集成电路布图设计专有权的行为缺乏刑事保护制度，在司法实践中，权利人多是依托侵犯假冒注册商标罪、侵犯著作权罪等刑事保护措施实现权利维护。譬如在门洪志、叶威等假冒注册商标罪一案中，被告人通过反向工程获取权利人的集成电路布图设计，在缺乏针对集成电路布图设计刑事保护的背景下，权利人基于针对该布图设计“WCH”享有注册商标专用权，通过假冒注册商标罪路径追究了侵权人的刑事责任。25在罗开玉等侵权著作权罪一案中，行为人通过反向工程获取权利人的布图设计，从而进行了芯片仿制，由于该行为同时侵犯了集成电路内部固件程序软件的著作权，情节严重，最终以侵犯著作权罪追究行为人的刑事责任。26但并非所有25.参见南京铁路运输法院（2017）苏 8602 刑初 29 号刑事判决书，2016 年检察机关打击侵犯知识产权犯罪十大典型案例之五。26.参见深圳市南山区人民法院（2016）粤 0305 刑初 228 号刑事判决书。27.参见李雪连：论集成电路布图设计的知识产权保护，山东大学 2020 年硕士学位论文，第 15 页。集成电路布图设计专有权权利人针对芯片都享有注册商标专用权亦或是所有集成电路内部都有内置固件程序，在不涉及其他知识产权客体的情况下，针对严重侵犯集成电路布图设计的行为，尚无法追究其刑事责任。当前日本、韩国等国都针对集成电路布图设计专有权建立了刑事保护制度：日本是最早用刑事手段保护集成电路布图设计专用权的国家，日本半导体集成电路线路布局法规定对侵犯集成电路布图设计专有权行为最高可以判处三年有期徒刑或一百万日元的罚金。27在知识产权司法保护双轨制不断完善的背景下，建立符合市场需求的集成电路布图设计专有权刑事保护规则是促进产业健康发展的路径选择。（二）权利限制机制的完善知识产权制度作为社会公共政策的产物，在强化知识产权保护的同时，对知识产权的限制亦成为核心问题。如何在强化保护的同时实现恰当的权利限制，关键在于利益平衡，法经济学是知识产权领域中最常用的利益平衡分析路径。法经济学发源于科斯的著名论文社会成本问题，波斯纳所著的知识产权法的经济结构，将法经济学全面引入知识产权法律分析体系，但遗憾的是，在波斯纳的分析中并未囊括布图设计专有权，但同属知识产权体系的布图设计专有权理应适用法经济学分析模型。布图设计专有权具备非排他性和非竞争性两种属性，使之具备成为公共产品的可能，作为公共产品任何人都可以使用，但与此同时任何人都将失去研发创新的动力，为使得布图设计能够源源不断地创新，通过立法赋予本身不具有排他性的布图设计以排他性权利，这就是布图设计专有权立法的经济学原理所在。然而对于社会来说，布图设计进行广泛的应用从而实现社98982023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterprise Intellectual Property Capability Promotion Plan会的发展是最具社会整体效率的，符合卡尔多-希克斯效率理论。因此，在保障布图设计专有权利人享有垄断性权利，从而不断激励创新的基础上，对其权利进行一定的限制，从而在最大范围内实现布图设计的广泛应用，是布图设计立法追求最大社会效率的体现。1.反向工程认定要件的完善“通过技术手段对公开渠道取得的产品进行拆卸、测绘、分析等而获得该产品有关的技术信息，可以作为商业秘密侵权的合法来源抗辩”，28这是不正当竞争法律体系中关于反向工程的定义和法律地位的条款。基于商业秘密的秘密性要件，社会公众无从知晓商业秘密的具体内容，排除此种行为的侵权可能性是防止商业秘密权利人信息垄断的重要路径。然而在专利法律制度中，并不存在所谓的反向工程抗辩，原因在于专利本质上“以公开换权利”，专利权获得的条件下，专利技术已经全部公开，不存在需要通过获取专利技术的理由。基于布图设计并非以公开换权利的理论，社会公众并不能从布图设计登记文件中获取布图设计的全部内容，给通过反向工程获取布图设计提供了现实可能性。条例第 23 条第 2 款规定“在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的”可以不经权利人许可，不支付报酬。该条款即是布图设计中的反向工程条款。基于集成电路布图设计的特点，其前期开发需要投入较大成本，但一旦登记公开之后，第三人利用反向工程技术进行研究利用的成本非常低，将不利于促进布图设计的创新研发。但一刀切的禁止反向工程并不利于在28.最高人民法院关于审理不正当竞争民事案件应用法律若干问题的解释第 12 条、最高人民法院关于审理侵犯商业秘密民事案件适用法律若干问题的规定第 14 条。29.中华人民共和国专利法第五十六条：“一项取得专利权的发明或者实用新型比前已经取得专利权的发明或者实用新型具有显著经济意义的重大技术进步，其实施又有赖于前一发明或者实用新型的实施的，国务院专利行政部门根据后一专利权人的申请，可以给予实施前一发明或者实用新型的强制许可”。现有布图设计的基础上进行进一步的创新研发，最佳的路径即是提高第三人通过反向工程使用布图设计的成本，在实现创新的基础排除该反向工程的侵权性。此种制度设计在专利法律制度中存在类似情况，即从属专利强制许可。29当然著作权法上的演绎行为，演绎创作者对演绎作品享有著作权也具有类似的立法考量。然而，针对布图设计合法反向工程的认定标准并不清晰。根据条例的规定，需要在原权利布图设计基础上，创作出具有独创性的布图设计的行为才能认定为合法反向工程，但此处独创性的判断问题缺乏客观标准。此处的独创性标准要求若过高，将阻碍社会公众对布图设计的利用，若标准过低则不利于对布图设计的保护，有碍鼓励创新的立法目的。对此需要在公共利益和个人利益之间寻找一个恰当的平衡点。本文认为，反向工程的独创性要求与布图设计专有权利取得要件中的独创性要求一致，即只要布图设计的部分或全部内容在功能性上具有创新性，且此种创新不是简单的常规设计，即可满足独创性要求。在具体案件中，被控侵权人反向工程抗辩能否成立，应当对行为人主张不同于原有布图设计的部分进行分析，判定其是否具备创造性同时也不属于常规设计，并以该不同之处能否达到获得布图设计专有权授权标准为判断基准。2.商业使用权范围的限制当前我国在集成电路布图设计专有权利范围的立法上，针对商业使用权的禁止权范围延伸到了第三层次，即包括安装了使用布图设计的集成电路的产品。对该问题学术界也存在不同的观点。本文认为，通常，权利产生的条件99992023 年第 6 期“企业知识产权能力提升推进计划”专题Enterpris