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文献汇报重点.pptx

1、文献汇报氨基硅烷偶联剂修饰磁流体汇报人:霍美俊汇报人:霍美俊指导教师:赵凌云指导教师:赵凌云汇报日期:汇报日期:2010-7-142010-7-14背景介绍磁性纳磁性纳米颗粒米颗粒核磁共振成像核磁共振成像造影增强剂造影增强剂生物生物传感器传感器磁转染磁转染生物生物分离分离肿瘤肿瘤磁感应热疗磁感应热疗靶向靶向药物载体药物载体表面偶联生物活性分子表面偶联生物活性分子背景介绍铁氧化物纳米颗粒的表面化学性质相对惰性限制了可以共价键合到颗粒表面的分子数量进行表面功能化修饰功能化的磁性纳米颗粒应具有功能化的磁性纳米颗粒应具有:良好的磁学性质、亲水性、生物相容性,无毒,在水中保持稳定。背景介绍氨基氨基与氨基

2、相连(通过戊二醛活化法)与羧基相连(通过形成肽键)氨基修饰氨基修饰是一种常用的功能化修饰,而氨基硅烷偶氨基硅烷偶联剂联剂是一种有效引入氨基的方法。偶联剂偶联剂:具有两不同性质官能团,一部分官能团可与有机分子反应,另一部分官能团可与无机物表面的吸附水反应,形成牢固的粘合。偶联剂偶联剂官能团1官能团2无机物HO有机分子有机分子氨基硅烷氨基硅烷偶联剂偶联剂硅原子:与大多数金属之间可以形成噁烷键(M-O-Si)氨基:与其他生物活性分子相连背景介绍偶联剂的起源:偶联剂的起源:1945 年前后由美国联碳(UC)和道康宁(Dow Corning)等公司开发了一系列具有典型结构的硅烷偶联剂;1955 年,UC

3、 公司首次提出了含氨基的硅烷偶联剂;1959年开始陆续出现了一系列改性氨基硅烷偶联剂。道康宁有机硅有限公司道康宁有机硅有限公司(Dow Coming Toray Silicone Co)成立于1943年,总部位于美国,长期致力于开发有机硅的各种潜能,是商用硅酮产品开发的先驱,一直是有机硅产品、硅基技术和创新领域的全球领先者。背景介绍许多学者都对氨基硅烷修饰磁性纳米颗粒进行了研究,但是还是缺乏可靠的数据资料。3种可能的作用机制。5种不同的修饰方法。性质表征:FTIR、磁滞回线、TEM、GTA等。氨基硅烷种类对修饰的影响。二氧化硅涂层对修饰的影响。共沉淀法的产物。内容简介1 1Amino-sila

4、ne Modified Superparamagnetic Particles with Surface Immobilized Enzyme在氨基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒表面固定酶在氨基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒表面固定酶道康宁公司道康宁公司(日本日本),Journal of Colloid and Interface Science,1991,IF=3.019(2009年)年)2 2Methotrexate-Modified Superparamagnetic Nanoparticles and Their Intracellular Uptake into Human Cancer C

5、ells甲氨蝶呤修饰的超顺磁性纳米颗粒及人肿瘤细胞对其的摄取甲氨蝶呤修饰的超顺磁性纳米颗粒及人肿瘤细胞对其的摄取美国美国,Langmuir,2005,IF=3.7053 3Preparation and characterization of(3-aminopropyl)Triethoxysilane-coated magnetite nanoparticles3-氨丙基三乙氧基硅烷包覆的磁性纳米颗粒的制备与表征氨丙基三乙氧基硅烷包覆的磁性纳米颗粒的制备与表征巴西巴西,Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2004,IF=1.204(09)4

6、4Synthesis and Characterization of 3-Aminopropyltriethoxysilane-Modified Superparamagnetic Magnetite Nanoparticles3-氨丙基三乙氧基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒的制备与表征氨丙基三乙氧基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒的制备与表征中国中国,Chemistry Letters,2004,IF=1.830(05年)年)5 5Immobilization of albumin on aminosilane modified superparamagnetic magnetite nanopart

7、icles and its characterization在氨基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒表面固定白蛋白及其表征在氨基硅烷修饰的超顺磁性纳米颗粒表面固定白蛋白及其表征土耳其土耳其,Colloids and Surfaces B:Biointerfaces,2009,IF=2.6006 6Fabrication of cyclodextrin-functionalized superparamagnetic Fe3O4/amino-silane coreshell nanoparticles via layer-by-layer method在在Fe3O4核核/氨基硅烷壳的超顺磁性纳米颗粒表面

8、连接环糊精氨基硅烷壳的超顺磁性纳米颗粒表面连接环糊精中国中国,Applied Surface Science,2009,IF=1.6167 7Functionalization of magnetic nanoparticles with 3-aminopropyl silane3-氨丙基硅烷修饰磁性纳米颗粒氨丙基硅烷修饰磁性纳米颗粒斯洛文尼亚斯洛文尼亚,JournalofMagnetismandMagneticMaterials,2009,IF=1.204问题1、介绍的几种氨基硅烷修饰的方法分别采用了什么作为反应溶剂?2、氨基硅烷的种类对修饰有什么影响?3、SiO2涂层对氨基硅烷修饰有什么影

9、响?4、文献中共沉淀法制备出的磁颗粒的成分是什么?可能混有哪种杂质?能才有物理方法出去吗?作用机制作用机制作用机制修饰方法磁颗粒溶于甲醇甲醇+20 wt%偶联剂超声处理10 min搅拌过夜法一:文献1(5种氨基硅烷种氨基硅烷)磁颗粒200g+100 ml甲苯甲苯+APS60超声水浴4h法二:文献2(3-氨丙基三甲氧基硅烷,氨丙基三甲氧基硅烷,APS)修饰方法磁颗粒溶于丙三醇丙三醇(甘油)(甘油)加40ml APTES 10%的水溶液(PH=4.0)水浴3h法三:文献3(3-氨丙基三乙氧基硅烷,氨丙基三乙氧基硅烷,APTES)磁颗粒溶于乙醇乙醇/水溶液(水溶液(1:1)加入APTES(摩尔比AP

10、TES:磁颗粒=4:1)法四:文献4、5N2,40,搅拌反应1或2 h修饰方法300mg磁颗粒+乙醇 600ml+水 4 ml加APTES 120L搅拌7h法五:文献6(中国兰州大学)FTIR结果法二(文献法二(文献2)OHSi-ONH2CHAPSAPTES法三(文献法三(文献3)CHN-H伸缩振动伸缩振动Fe-O(570、375)Fe-O-Si(584,重叠,重叠,不能确定)不能确定)SiO-H,Si-O-SiSi-O-H,磁颗粒表面的,磁颗粒表面的OHN-H变形振动变形振动FTIR结果法四(文献法四(文献4)OH伸缩振动伸缩振动Fe-O伸缩振动伸缩振动CH2伸缩振动伸缩振动NH2与与OH交

11、叠交叠OH变形振动变形振动Si-O伸缩振动伸缩振动C-N伸缩振动伸缩振动APTESFTIR结果法四(文献法四(文献5)NH2(3446)C-H伸缩振动伸缩振动(2930,2861)Fe-O(632、585)Si-O(1115、1030)APTESFTIR结果法五(文献法五(文献6)APTESFe-O(570、375)C-H伸缩振动伸缩振动Fe-O-Si(584,重叠,重叠,不能确定)不能确定)SiO-H,Si-O-SiN-H变形振动变形振动N-H伸缩振动伸缩振动FTIR结果570 nm 左右有Fe-O,有时有移动。Fe-O-Si在584 nm,与Fe-O重叠。1100 nm 左右有Si-O16

12、00 nm 左右有N-H变形振动-OH变形振动也在1600 nm 左右,与N-H变形振动峰重叠。2900 nm 左右有C-H3400多nm 处有N-H伸缩振动-OH也在3400多nm 处,与N-H伸缩振动峰重叠a图中总结FTIR结果 氨基硅烷的种类对氨基硅烷的种类对FTIR结果的影响不大。结果的影响不大。磁滞回线法三(文献法三(文献3)法四(文献法四(文献4)法四(文献法四(文献5)法五(文献法五(文献6)TEM检测结果法三(文献法三(文献3)法四(文献法四(文献4)法四(文献法四(文献5)法五(文献法五(文献6)磁颗粒粒径:平均粒径磁颗粒粒径:平均粒径 9.62.1 nm.氨基硅烷修饰的磁颗

13、粒:氨基硅烷修饰的磁颗粒:平均粒径平均粒径 13.43.9 nm.氨基硅烷修饰层:氨基硅烷修饰层:3 nm.磁颗粒粒径:平均粒径磁颗粒粒径:平均粒径 12 nm.氨基硅烷修饰的磁颗粒:氨基硅烷修饰的磁颗粒:平均粒径平均粒径 15 nm.氨基硅烷修饰层:氨基硅烷修饰层:3 nm.磁颗粒粒径:平均粒径磁颗粒粒径:平均粒径 73 nm.氨基硅烷修饰的磁颗粒:氨基硅烷修饰的磁颗粒:平均粒径平均粒径122 nm.氨基硅烷修饰层:氨基硅烷修饰层:5 nm.均匀的球形,聚集是因为缺少表面活性剂。均匀的球形,聚集是因为缺少表面活性剂。在高分辨倍数下,能够清楚地看见在高分辨倍数下,能够清楚地看见Fe3O4的的晶

14、格结构。晶格结构。TEM检测结果法五(文献法五(文献6)有文献报道,通过控制Fe2+和Fe3+在惰性气体保护下的反应条件,可以合成不同粒径的磁颗粒,如6 nm 和 12 nm粒径的磁流体分别在室温和80下制备的。讨论TGA检测结果法四(文献法四(文献5)法五(文献法五(文献6)上升:上升:Fe3O4Fe2O3110 410快快速失重速失重3.0%,因为因为3-氨丙基的氨丙基的分解。分解。138第一次失重:粘附的溶剂第一次失重:粘附的溶剂(乙醇和水的蒸发)。(乙醇和水的蒸发)。磁颗粒共失重磁颗粒共失重3.3%,因为吸附,因为吸附水的损失以及水的损失以及 表面羟基的脱水。表面羟基的脱水。磁颗粒:磁

15、颗粒:65 120失重失重0.8%,因为物理吸附水的蒸发。因为物理吸附水的蒸发。氨基硅烷修饰的磁颗粒:氨基硅烷修饰的磁颗粒:250 500失重失重3.5%。其它检测结果法三(文献法三(文献3)原子力显微镜原子力显微镜无磁场情况下,氨基硅烷修饰的磁颗粒无磁场情况下,氨基硅烷修饰的磁颗粒成大小不一的簇状分布。成大小不一的簇状分布。氨基硅烷修饰的磁颗粒在干燥过程中伴氨基硅烷修饰的磁颗粒在干燥过程中伴随着聚集现象随着聚集现象外加平行磁场后,聚集簇更加均匀,外加平行磁场后,聚集簇更加均匀,3、4个磁颗粒聚集成一个约个磁颗粒聚集成一个约30nm的簇。的簇。磁性反应磁性反应无磁场无磁场外加平行磁场外加平行磁

16、场其它检测结果法四(文献法四(文献4)胶体稳定性实验胶体稳定性实验 结果显示,氨基硅烷与结果显示,氨基硅烷与磁颗粒的摩尔比为磁颗粒的摩尔比为4:1时,时,制备得到的复合磁颗粒的稳制备得到的复合磁颗粒的稳定性最好,即得到最适摩尔定性最好,即得到最适摩尔比,优化反应条件。比,优化反应条件。氨基硅烷种类对修饰的影响ES三甲氧基硅烷BET法测比表面积法测比表面积APS3-氨丙基三乙氧基硅烷AEAPSN-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷ABAPSN-(4-氨丁基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷ABAPSN-(6-氨己基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷法一(文献法一(文献1)氨基硅烷种类对修饰的影响磁性纳米颗粒的粒径:

17、224nm,平均直径10nm。讨论:具有超顺磁性和铁磁性的临界直径大约在30nm,全部在此范围内。氨基硅烷修饰的磁性纳米颗粒的粒径范围在200 400nm,无论哪种类型硅烷修饰剂,二氧化硅涂层对修饰的影响硅烷偶联剂广泛应用于玻璃纤维的表面处理。Si-O-Si比M-O-Si(M=metal)牢固。Fe-O-Si背景小知识二氧化硅涂层对修饰的影响一、磁颗粒的制备:FeSO4(0.027 mol/L)+Fe2(SO4)3(0.0115 mol/L)+25%氨水文献文献7X射线衍射显示,所得磁颗粒中只有不到3%的 Fe 是 Fe2+,证明磁颗粒是-Fe3O4。透射电镜结果显示,磁颗粒粒径为13.72.

18、9 nm。磁颗粒的比表面积为 84.4 m2/g。讨论二氧化硅涂层对修饰的影响2g磁颗粒溶+60 mL 柠檬酸溶液(0.02 g/mL)氨水调PH值5.280,强烈搅拌90 min二、SiO2涂层的包覆氨水调PH值11搅拌过夜2.5 mL 硅酸四乙酯溶于25.5 mL乙醇 防止磁颗粒聚集,防止磁颗粒聚集,使单个磁颗粒都包覆一使单个磁颗粒都包覆一层均匀的层均匀的SiO2涂层,所涂层,所以使用柠檬酸作为表面以使用柠檬酸作为表面活性剂。活性剂。讨论透射电镜透射电镜 氨基硅烷修饰的磁颗粒的粒径为氨基硅烷修饰的磁颗粒的粒径为185 nm,SiO2涂层约为涂层约为2 nm,比,比表面表面 94 m2/g。

19、比表面积增加的原因是比表面积增加的原因是SiO2的比重小于磁颗粒。的比重小于磁颗粒。B图中高分辨透射电镜显示,在结晶性质的磁颗粒表面清晰可见一图中高分辨透射电镜显示,在结晶性质的磁颗粒表面清晰可见一层薄薄的非结晶涂层。层薄薄的非结晶涂层。二氧化硅涂层对修饰的影响二氧化硅涂层对修饰的影响0.5磁颗粒+100 mL 乙醇/水溶液(1:1)加入氨基硅烷(20mol/m2)PH=11三、氨基硅烷修饰50,搅拌5 h 反应条件由实验优化得到。反应条件由实验优化得到。讨论150mol/m220 80 二氧化硅涂层对修饰的影响 包覆包覆SiO2涂层的磁颗粒表面偶联氨基硅烷的数量涂层的磁颗粒表面偶联氨基硅烷的

20、数量明显高于裸露的磁颗粒,说明明显高于裸露的磁颗粒,说明SiO2涂层有利于氨基硅涂层有利于氨基硅烷修饰。烷修饰。讨论二氧化硅涂层对修饰的影响热重分析热重分析NP:120之前,物理吸附水蒸发;之前,物理吸附水蒸发;200340,化学结合水失重。,化学结合水失重。NP-Si:多失重部分,:多失重部分,Si羟基失重。羟基失重。APSNP-Si失重多于失重多于APSNP,说明偶联氨基硅烷的量较多。,说明偶联氨基硅烷的量较多。共沉淀法的产物目标产物目标产物Fe3O4对对O2敏感,与空气敏感,与空气中的中的O2发生氧化反应发生氧化反应-Fe2O3Fe2+被水中溶解的少量被水中溶解的少量O2氧化氧化 终产物

21、很大程终产物很大程度上取决于反应动度上取决于反应动力学、反应温度、力学、反应温度、PH值等。值等。文献文献3:可能发生的反应:可能发生的反应讨论共沉淀法的产物X射线衍射图射线衍射图共沉淀法制备的磁颗粒以及氨基硅烷修饰共沉淀法制备的磁颗粒以及氨基硅烷修饰的磁颗粒的的磁颗粒的X射线衍射图,射线衍射图,对比对比JCPDF database(粉末衍射标准联合委粉末衍射标准联合委员会数据库员会数据库)的衍射图的衍射图都具有尖晶石结构,都具有尖晶石结构,X射线衍射的峰相似,射线衍射的峰相似,无法区分。无法区分。无磁性无磁性110(2=21.22)104(2=33.15)2=26.38Fe3O4黑色,黑色,

22、Fe2O3棕色棕色共沉淀法制备的磁颗粒中,大部分为,可共沉淀法制备的磁颗粒中,大部分为,可能在共沉淀和氨基硅烷修饰过程中混有少量,能在共沉淀和氨基硅烷修饰过程中混有少量,但只是少量。但只是少量。都具有磁性,无法通过物理方法分离。都具有磁性,无法通过物理方法分离。讨论总结掌握了一些氨基硅烷修饰磁颗粒的FTIR特征峰。学会了几种氨基硅烷修饰磁颗粒的方法:包括不同的溶剂、反应时间、反应温度等。不同种类的氨基硅烷偶联剂对修饰的影响:链越长,偶联的个数越少。SiO2涂层有利于氨基硅烷修饰。共沉淀法制备磁颗粒的原理,及可能发生的反应、混有的杂质,以及检测产物的方法。X射线衍射的分析方法。学到的知识问题1、介绍的几种氨基硅烷修饰的方法分别采用了什么作为反应溶剂?2、氨基硅烷的种类对修饰有什么影响?3、SiO2涂层对氨基硅烷修饰有什么影响?4、文献中共沉淀法制备出的磁颗粒的成分是什么?可能混有哪种杂质?能才有物理方法出去吗?

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