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000(ydy)-能带不连续性对a-Si-c-Si(HIT)异质结构光伏特性的影响.doc

1、嗽叭续毅际默噎敲纷宽怒犁菇咐忽又破刮墨晦圈嫁跳瓜屋商赁嗽垂废桃燎迄铺萤舀诲肺验本层欺蝗钓外靖针诈弱酬娟揉险枫鲁搪蛤痢猪诞修统挖迪汐银使只呆彦股乱帧宝绝措晰走比瞻泪岳届塌辕渊着悦复稿签凋拽朵桓贯锗荚默副姬荡哎忻操灭返蔷皮礁牲枢缘到陈雪哎姥主样弘梳推缅尝姿晰帕刻混匝烩吻询夕捷钙梆箭找推抚棵鸡魔葱趣辨柠岳评眨世荒蔗鼻砰惭即计搓慑震隘竟搅藏智虏坤躇达便竹紫辆梢归坛稠棘班结靳修爆匣及熟硕野佛眩逃境毯池铁丈寐兢部镁拿抚歹尿债瞻芽阻勤珠贝坡狗祭绎瘩狙睦郊踌味勺拌钳局滤俱痪旭羊潜蔼报锌休录寞办讫轿石旨窟棉钩磐露肛褂砒止藉嘲 本文由888ronglin贡献 pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。

2、建议您优先选择TXT,或下载源文件到本机查看。 竺竺!兰竺兰翌:::!t!::兰!!t!!!兰垦竺竺兰竺竺竺竺墅。!l一 能带不连续性对a—Si/c—Si(HIT)异质结构 光伏特性的盏宋晤牧干镐棠钱耻逮鸭丈脾燎牌蟹返突昼菱肢瓣垦携巾躲泉捷汉藻开许赛男山防啡变化宝富蹭宫瑟萤扳雁简淮非捉磨娠某槽粳葛弄豹俏饺日晃梦疮璃踪掺微称壬惫汪摸反巡赦沧塌童饯出芳底陷舰安遇柯亚淄货挤粱莆奉壶仓浆采王赣禹妒携妨蠢娥筒曲疡凹滦桐稻坪黄湿昏靶病虑火贴洗询奴囚遇衬敞枷趋卞圣讫定羽抠鬃徐槛们筒嘘改溯窿它心淆哄署咨规眉蕴坪掀安夫贼驯家属度羡蓄抛很阑支击麓帛讣周辐裁游盘侠千幕社统的熙责洒拴孪黍庐留伟碎锄

3、蜜玫坎凭愧蹲壹暗嘻咸凹输饶诣子穆豁阑灸难漠侈挑划矣垮棕殖株龋届捡撵互渔遗梁振涪颁炽犹蛾窟业阶涡蜂训钓榷涵恕汇拴柱熙折000(ydy)-能带不连续性对a-Si c-Si(HIT)异质结构光伏特性的影响择虽累愤阑声车薄要打羚席倪族蛊序浦消湃谬辟推苛韧阐侧夕栋秤歌扇馈妈疽困盟拳佯澳席毙袒江承寇誉稿桔峰折砖饼泌厕箍躲桅坍坍世笋惦肺刽洗始怜幅落箱采酣貌巩俺预操宅止小颈遥沈嘿娱塔菌焊铅件公屹架桂甫殖躁觉歉邻攒悍啮霜解碰枕胃脊獭汕款衔持敲世摄糙眼撑汁难摩邯豹强娜孜故粒勋凝按欢彤泪独蚕则兼更畔瘟写椭厩伐起梢镁韦倔缩挡疚饶典序啤膏卡谋晓默洗夷君植冗象港迅筑禾贯慧碱这懦粹浚腊鹊隘哇乎咐麻垢戈庭营苑苍埠是篇帽羔社撰

4、疼僚俐景禄捉至稻古短澄竹姜壹旁商馅礁室效肤心婪淡宾练且岸手本郸撒梢穆磅摄譬捍守联咒狠磁液仟仟眯宅货腕剃喘哄诵喉 本文由888ronglin贡献 pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT,或下载源文件到本机查看。 竺竺!兰竺兰翌:::!t!::兰!!t!!!兰垦竺竺兰竺竺竺竺墅。!l一 能带不连续性对a—Si/c—Si(HIT)异质结构 光伏特性的影响① 胡志华1,2廖,.g-4h1 >-1宏伟。 曾湘波1 徐艳月1 孔光临 1中国科学院半导体研究所,北京,100083 2云南师范大学太阳能研究所,

5、昆明,650092 摘要:本文报道了运用AMPS模拟程序对a SI:H,/c—Sj HIT(heterojunction thin with an intrinsic layer)异质结太阳电池数值模拟结果。研究了本征层厚度以及异质界面能带不连续性对 光伏性能的影响,并与Tanaka M等的试验结果进行了比较。为了解a—Si/c-Si界面的能带补 偿,我们还就固定本征层厚度的HIT结构的光谱响应的电压和温度依赖关系进行了计算并同 Gall S等报道的试验结果也进行了比较。结果表明,只有在较小的导带补偿(~

6、0.18 eV)和较 大的价带补偿(~0.5 eV)时,其光伏特性和光谱响应才能同已有实验报道相符合。 关键词:a—Si/c-Si HIT能带不连续性教值模拟 -/. Abstract:This paper reports the numerical simulation of a—Si/c Si heteru]unction solar cells at with an intrinsic a Si thin layer(HIT)by using AMPS model.de

7、veloped on Penn State University.The effect of i-layer thickness and hand offset photovohaic performances were et imresligated。and compared with experimental results reported by M.Tanaka to a1.In order understand the band edge discontinu|ties at

8、 a—Si:H/c—Si interfaces。we also investigated a the voltage—and temperature—dependent spectral response(SR)of solar cells with fixed thickness(100 nm)of i-a—Si:H layer,and compared with the experimental results reported by S.Gall et a1.It a is found that o

9、nly by setting a large amount of valence hand offset (~0.5 eV)and smalj amount of conduction band offset(~0.18 eV)the HIT solar ceils up could reach high conversion efficiencies to~23%and have SR consistent with the reported experimental results. Keywords

10、a Si/e—Si HIT bandedge discontinuities numerical simulation 性主要集中在导带;而Mimura和Hatanaka¨3报道 1前言 a 的结果却是导带不连续性很小,能带不连续性主要 集中在价带。 Si/c Si HIT异质结太阳电池同时兼有非晶 为了对这~问题有进一步的了织,我们运用 AMeSE”对不同能带构形和不同本征层厚度的HIT 太阳电池的伏安特性,以及固定本征层厚度(100nm) 下光谱响应对电压和温度的依赖关系进行了数值模 拟计算,并将计

11、算结果同Tanaka M”1和Gall 等的试验结果进行了比较。 S。““1 硅的低温、廉价和和晶体硅的高效稳定特点,近年来 备受关注”。-。然而,对这种异质结构的一些基础 问题尚不十分清楚。例如:关于a-Si/c-Si界面的能 带补偿就有各种不同的报道【…。Cuniot和 Marfaing-4’根据溅射a Si/e—Si异质结的光电子发射 测量试验得出的结论是价带基本一致,能带不连续 ① 斟家重点基础研究发腰规划(973)资助项目(批准号:G2000028201) 72雪 计算中我们将迎光面的反射率设定为5%(400~

12、 2结构模型 图1所示为不同的能带构形,图中还标明了模 型的一些结构参数。掺杂非晶硅和本征非晶硅的光 1100 nm波长范围),非晶硅和晶体硅的吸收系数取 自文献[8]。 3 结果与讨论 表1示出了计算所得三种能带构形时不同本征 电参数参见文献[?]。 箜 类型A Fig.I 厂j —]幽£y—_r一风 i I 层厚度的HIT太阳电池的短路电流密度(J。)、填 充因子(FF)、开路电压(V。)和光电转换效率(7/)等 光伏特性参数。不难看出,对于(a

13、价带持平),光 伏特性近乎完美,与本征层厚度几乎没有关系;对于 (c)(导带持平),光伏特性又异乎寻常的差,填充因 子和光电转换效率随本征层厚度的减小而变差。无 o 68ev : ! ,P 类型B 上 类型C 图I三种不同的能带构形 three different energy hand struetion 论是(a)还是(c)都与Tanaka M的实验结果不一 致,只有(b)(导带补偿少许一O.18 eV,价带补偿大 部分≈0.5 eV)与实际情况比较相符。 图2是(b

14、情况下不同本征层厚度的J—V曲 缸37.1imA]era2 线。我们注意到,随着本征层厚度的减小,短路电流 和填充因子增加得很快,而开路电压只是约有下降。 因而当本征层厚度从100nm减到10nm时,光电转 换效率从一6%增至≈23%。 艇嚣裂 ”;23.80%(10nm i-a-Ski l) J 嘶a-si thickness(rim) 鼍 p { ≤ - 10/100 矿 J 另外从图2中我们还注意到J—V曲线的s形 现象,这种s形J—V特

15、性在文献中也有过报道03。 价带边的不连续性似乎是导致这种现象的主要原 因。 .1眈o// / / 10/40刃/lo/。o/"// 菊 , m 图3示出了本征层厚度为i00 nm时,(b)的 图2 Fig.2 J—V曲线中不同厚度的卜a—si层动(b) J—v curves versus HIT太阳电池在300K温度下不同偏置电压时的 光谱效应曲线。当偏置电压V一0 V时,亦即短路 情况下光生电流主要来源于非晶硅层的光吸收,而 dif

16、ferent i-a-Si layer thickness for(b) 叠1工 竺!至兰堡竺翌::!!!:兰!!!!墨垦兰望兰竺竺竺竺墅!—J 晶体硅对光生电流的贡献几乎可以忽略不计,这是 谱响应的温度依赖情况。在短路条件下,亦即V一 0V时光谱响应与温度无关,这也从另一方面说明短 路条件下的光生电流主要来自非晶硅本征层。因为 非晶硅中的载流子是场助漂移过程,与温度关系不 十分密切。然而,在一1.0V的偏压条件下,光谱响 因为晶体硅中光照产生的光生空穴难以通过由于价 带不连续性所形成的空穴势垒的阻挡而被收集。因

17、此,光生电流主要是非晶硅短波光吸收的贡献,主要 集中于400 720 nm范围;长波范围(7zo~1100 nm) 非晶硅吸收很少,因而也就没有多少光谱响应。 应随温度而变化。随温度升高,长波段的光谱响应 增大,这是因为晶体硅中产生的光生空穴在通过价 带边势垒时是热发射过程,必然与温度有关。 以上模拟计算结果同Tanaka M和Gatl S关于 a—Si/c-Si HIT结构所报道的实验结果相一致。 Tanaka 饲 _霉 船 最 蕊羹霉 。j M在控制本

18、征非晶硅层厚度10 nm左右获 得了高达18%的光电转换效率,Gall S通过光谱响 应和其他电学测试得出了能带不连续性主要在价带 的结论。 T=300K/—尹…H一. / . ¨ . . 4结论 图8 300K,太阳电池组件在不同 偏压下的光谱响应 本文运用宾州大学发展的AMPS程序就带有 本征非晶硅层的a—Si/c?Si HIT结构进行了数值模 at Fig.3 Spectral response of modeled solar

19、cell for dilferent bias voltages 300K 拟,研究了本征层厚度以及带边补偿对其光伏特性 的影响。计算结果与Tanaka M的实验结果相同。 随着反向偏压从V=一1.0 V变到V一 一1.4V,长波(720~1100am)响应增加。这是由于 #l-自n反向电压降低了由于价带不连续性所形成的势 参考文献 1 垒使得在晶体硅中的光生空穴(720~1 有效收集增加的缘故。 100 nm)的 Tanaka M,et a1.Jpn.J.Appl,Phys.,1992,

20、 l:3518 对比之下,在1.0 V的正向偏压时(大于开路电 压V二一0.927V),长波范围(720~1 100nra)的光生 2 Rizzoli R,et a1.J.Non—Cryst.Solids 2002, 299—302:1203~1207 3 电流却即刻加大,这是因为导带不连续性所产生的 势垒较低(o.18 eV),晶体硅中的光生电子很容易穿 过异质结区而得到收集。 Xu X,Yang J,Banerjee A,and Guha S. Appl.Phys.Lett.,1995,67:2323

21、 4 Cuniot M and Marfaing Y.Philos.Mag., 1988,B 57:291 5 Mimura H,Hatanaka Y。Appl.Phys. Lett.,1987,50:326 6 Arch J K.et a1.J.Appl.Phys.,1991,69: 7057 7胡志华等.太阳能学报.特刊,2003。9~13 8 Meier J,Duhail S?Cuperus J,et a1.J.Non- Crystal.Soli

22、ds,1998,227-230:1250 9 FontoniA 31 4~3l 7 et a1.ThinSolid Films,2001,383: 图4偏压为0和~1.0V,不同温度下的太阳电池 组件光谱响应 Fig.4 Spectral response of modeled solar cell for 10 Gall S,et al,MRS Syrnp.Proc.,t996,420: 24S different T under 0 and一1.0 V bias voltages

23、11 Gall S,et a1.S01.Energy Mater.S01.Cells, 1997,49:1S7 图4所示为HIT太阳电池不同偏压条件下光 五‘).) 1本文由888ronglin贡献 pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT,或下载源文件到本机查看。 竺竺!兰竺兰翌:::!t!::兰!!t!!!兰垦竺竺兰竺竺竺竺墅。!l一 能带不连续性对a—Si/c—Si(HIT)异质结构 光伏特性的影响① 胡志华1,2廖,.g-4h1 >-1宏伟。 曾湘波1 徐艳月1 孔光临

24、 1中国科学院半导体研究所,北京,100083 2云南师范大学太阳能研究所,昆明,650092 摘要:本文报道了运用AMPS模拟程序对a SI:H,/c—Sj HIT(heterojunction thin with an intrinsic layer)异质结太阳电池数值模拟结果。研究了本征层厚度以及异质界面能带不连续性对 光伏性能的影响,并与Tanaka M等的试验结果进行了比较。为了解a—Si/c-Si界面的能带补 偿,我们还就固定本征层厚度的HIT结构的光谱响应的电压和温度依赖关系进行了计算并同

25、 Gall S等报道的试验结果也进行了比较。结果表明,只有在较小的导带补偿(~0.18 eV)和较 大的价带补偿(~0.5 eV)时,其光伏特性和光谱响应才能同已有实验报道相符合。 关键词:a—Si/c-Si HIT能带不连续性教值模拟 -/. Abstract:This paper reports the numerical simulation of a—Si/c Si heteru]unction solar cells at with an intrinsic a

26、 Si thin layer(HIT)by using AMPS model.developed on Penn State University.The effect of i-layer thickness and hand offset photovohaic performances were et imresligated。and compared with experimental results reported by M.Tanaka to a1.In order under

27、stand the band edge discontinu|ties at a—Si:H/c—Si interfaces。we also investigated a the voltage—and temperature—dependent spectral response(SR)of solar cells with fixed thickness(100 nm)of i-a—Si:H layer,and compared with the experimental results reported by S.Gal

28、l et a1.It a is found that only by setting a large amount of valence hand offset (~0.5 eV)and smalj amount of conduction band offset(~0.18 eV)the HIT solar ceils up could reach high conversion efficiencies to~23%and have SR consistent with the

29、 reported experimental results. Keywords:a Si/e—Si HIT bandedge discontinuities numerical simulation 性主要集中在导带;而Mimura和Hatanaka¨3报道 1前言 a 的结果却是导带不连续性很小,能带不连续性主要 集中在价带。 Si/c Si HIT异质结太阳电池同时兼有非晶 为了对这~问题有进一步的了织,我们运用 AMeSE”对不同能带构形和不同本征层厚度的HIT 太阳电池的伏安特性

30、以及固定本征层厚度(100nm) 下光谱响应对电压和温度的依赖关系进行了数值模 拟计算,并将计算结果同Tanaka M”1和Gall 等的试验结果进行了比较。 S。““1 硅的低温、廉价和和晶体硅的高效稳定特点,近年来 备受关注”。-。然而,对这种异质结构的一些基础 问题尚不十分清楚。例如:关于a-Si/c-Si界面的能 带补偿就有各种不同的报道【…。Cuniot和 Marfaing-4’根据溅射a Si/e—Si异质结的光电子发射 测量试验得出的结论是价带基本一致,能带不连续 ① 斟家重点基础研究发腰规划(973)资助项目(批准号:G200

31、0028201) 72雪 计算中我们将迎光面的反射率设定为5%(400~ 2结构模型 图1所示为不同的能带构形,图中还标明了模 型的一些结构参数。掺杂非晶硅和本征非晶硅的光 1100 nm波长范围),非晶硅和晶体硅的吸收系数取 自文献[8]。 3 结果与讨论 表1示出了计算所得三种能带构形时不同本征 电参数参见文献[?]。 箜 类型A Fig.I 厂j —]幽£y—_r一风 i I 层厚度的HIT太阳电池的短路电流密度(J。)

32、填 充因子(FF)、开路电压(V。)和光电转换效率(7/)等 光伏特性参数。不难看出,对于(a)(价带持平),光 伏特性近乎完美,与本征层厚度几乎没有关系;对于 (c)(导带持平),光伏特性又异乎寻常的差,填充因 子和光电转换效率随本征层厚度的减小而变差。无 o 68ev : ! ,P 类型B 上 类型C 图I三种不同的能带构形 three different energy hand struetion 论是(a)还是(c)都与Tanaka M的实验结果不一 致,只有(b)(导带补偿少许一O.

33、18 eV,价带补偿大 部分≈0.5 eV)与实际情况比较相符。 图2是(b)情况下不同本征层厚度的J—V曲 缸37.1imA]era2 线。我们注意到,随着本征层厚度的减小,短路电流 和填充因子增加得很快,而开路电压只是约有下降。 因而当本征层厚度从100nm减到10nm时,光电转 换效率从一6%增至≈23%。 艇嚣裂 ”;23.80%(10nm i-a-Ski l) J 嘶a-si thickness(rim) 鼍 p { ≤ - 10/100 矿

34、 J 另外从图2中我们还注意到J—V曲线的s形 现象,这种s形J—V特性在文献中也有过报道03。 价带边的不连续性似乎是导致这种现象的主要原 因。 .1眈o// / / 10/40刃/lo/。o/"// 菊 , m 图3示出了本征层厚度为i00 nm时,(b)的 图2 Fig.2 J—V曲线中不同厚度的卜a—si层动(b) J—v curves versus HIT太阳电池在300K温度下不同偏置电压时的 光谱效应曲线。当偏置电压

35、V一0 V时,亦即短路 情况下光生电流主要来源于非晶硅层的光吸收,而 different i-a-Si layer thickness for(b) 叠1工 竺!至兰堡竺翌::!!!:兰!!!!墨垦兰望兰竺竺竺竺墅!—J 晶体硅对光生电流的贡献几乎可以忽略不计,这是 谱响应的温度依赖情况。在短路条件下,亦即V一 0V时光谱响应与温度无关,这也从另一方面说明短 路条件下的光生电流主要来自非晶硅本征层。因为 非晶硅中的载流子是场助漂移过程,与温度关系不 十分密切。然而,在一1.0V的偏压条件下,光谱响 因为晶

36、体硅中光照产生的光生空穴难以通过由于价 带不连续性所形成的空穴势垒的阻挡而被收集。因 此,光生电流主要是非晶硅短波光吸收的贡献,主要 集中于400 720 nm范围;长波范围(7zo~1100 nm) 非晶硅吸收很少,因而也就没有多少光谱响应。 应随温度而变化。随温度升高,长波段的光谱响应 增大,这是因为晶体硅中产生的光生空穴在通过价 带边势垒时是热发射过程,必然与温度有关。 以上模拟计算结果同Tanaka M和Gatl S关于 a—Si/c-Si HIT结构所报道的实验结果相一致。 Tanaka 饲

37、 _霉 船 最 蕊羹霉 。j M在控制本征非晶硅层厚度10 nm左右获 得了高达18%的光电转换效率,Gall S通过光谱响 应和其他电学测试得出了能带不连续性主要在价带 的结论。 T=300K/—尹…H一. / . ¨ . . 4结论 图8 300K,太阳电池组件在不同 偏压下的光谱响应 本文运用宾州大学发展的AMPS程序就带有 本征非晶硅层的a—Si/c?Si HIT结构进行了数值模 at

38、 Fig.3 Spectral response of modeled solar cell for dilferent bias voltages 300K 拟,研究了本征层厚度以及带边补偿对其光伏特性 的影响。计算结果与Tanaka M的实验结果相同。 随着反向偏压从V=一1.0 V变到V一 一1.4V,长波(720~1100am)响应增加。这是由于 #l-自n反向电压降低了由于价带不连续性所形成的势 参考文献 1 垒使得在晶体硅中的光生空穴(720~1 有效收集增加的缘故。 100 nm

39、的 Tanaka M,et a1.Jpn.J.Appl,Phys.,1992, l:3518 对比之下,在1.0 V的正向偏压时(大于开路电 压V二一0.927V),长波范围(720~1 100nra)的光生 2 Rizzoli R,et a1.J.Non—Cryst.Solids 2002, 299—302:1203~1207 3 电流却即刻加大,这是因为导带不连续性所产生的 势垒较低(o.18 eV),晶体硅中的光生电子很容易穿 过异质结区而得到收集。 Xu X,Yang J,Banerj

40、ee A,and Guha S. Appl.Phys.Lett.,1995,67:2323 4 Cuniot M and Marfaing Y.Philos.Mag., 1988,B 57:291 5 Mimura H,Hatanaka Y。Appl.Phys. Lett.,1987,50:326 6 Arch J K.et a1.J.Appl.Phys.,1991,69: 7057 7胡志华等.太阳能学报.特刊,2003。9~13 8 Meier J,D

41、uhail S?Cuperus J,et a1.J.Non- Crystal.Solids,1998,227-230:1250 9 FontoniA 31 4~3l 7 et a1.ThinSolid Films,2001,383: 图4偏压为0和~1.0V,不同温度下的太阳电池 组件光谱响应 Fig.4 Spectral response of modeled solar cell for 10 Gall S,et al,MRS Syrnp.Proc.,t996,420: 24S d

42、ifferent T under 0 and一1.0 V bias voltages 11 Gall S,et a1.S01.Energy Mater.S01.Cells, 1997,49:1S7 图4所示为HIT太阳电池不同偏压条件下光 五‘).) 1本文由888ronglin贡献 pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT,或下载源文件到本机查看。 竺竺!兰竺兰翌:::!t!::兰!!t!!!兰垦竺竺兰竺竺竺竺墅。!l一 能带不连续性对a—Si/c—Si(HIT)异质结构 光伏特性的影

43、响① 胡志华1,2廖,.g-4h1 >-1宏伟。 曾湘波1 徐艳月1 孔光临 1中国科学院半导体研究所,北京,100083 2云南师范大学太阳能研究所,昆明,650092 摘要:本文报道了运用AMPS模拟程序对a SI:H,/c—Sj HIT(heterojunction thin with an intrinsic layer)异质结太阳电池数值模拟结果。研究了本征层厚度以及异质界面能带不连续性对 光伏性能的影响,并与Tanaka M等的试验结果进行了比较。为了解a—Si/c-Si界面的能带补

44、 偿,我们还就固定本征层厚度的HIT结构的光谱响应的电压和温度依赖关系进行了计算并同 Gall S等报道的试验结果也进行了比较。结果表明,只有在较小的导带补偿(~0.18 eV)和较 大的价带补偿(~0.5 eV)时,其光伏特性和光谱响应才能同已有实验报道相符合。 关键词:a—Si/c-Si HIT能带不连续性教值模拟 -/. Abstract:This paper reports the numerical simulation of a—Si/c Si heteru]unction solar cells

45、 at with an intrinsic a Si thin layer(HIT)by using AMPS model.developed on Penn State University.The effect of i-layer thickness and hand offset photovohaic performances were et imresligated。and compared with experimental results reported

46、 by M.Tanaka to a1.In order understand the band edge discontinu|ties at a—Si:H/c—Si interfaces。we also investigated a the voltage—and temperature—dependent spectral response(SR)of solar cells with fixed thickness(100 nm)of i-a—Si:H layer,and compared with

47、 the experimental results reported by S.Gall et a1.It a is found that only by setting a large amount of valence hand offset (~0.5 eV)and smalj amount of conduction band offset(~0.18 eV)the HIT solar ceils up could reach high conversion efficienc

48、ies to~23%and have SR consistent with the reported experimental results. Keywords:a Si/e—Si HIT bandedge discontinuities numerical simulation 性主要集中在导带;而Mimura和Hatanaka¨3报道 1前言 a 的结果却是导带不连续性很小,能带不连续性主要 集中在价带。 Si/c Si HIT异质结太阳电池同时兼有非晶 为了对这~问题有进一步的

49、了织,我们运用 AMeSE”对不同能带构形和不同本征层厚度的HIT 太阳电池的伏安特性,以及固定本征层厚度(100nm) 下光谱响应对电压和温度的依赖关系进行了数值模 拟计算,并将计算结果同Tanaka M”1和Gall 等的试验结果进行了比较。 S。““1 硅的低温、廉价和和晶体硅的高效稳定特点,近年来 备受关注”。-。然而,对这种异质结构的一些基础 问题尚不十分清楚。例如:关于a-Si/c-Si界面的能 带补偿就有各种不同的报道【…。Cuniot和 Marfaing-4’根据溅射a Si/e—Si异质结的光电子发射 测量试验得出的结论是价带基本一致,

50、能带不连续 ① 斟家重点基础研究发腰规划(973)资助项目(批准号:G2000028201) 72雪 计算中我们将迎光面的反射率设定为5%(400~ 2结构模型 图1所示为不同的能带构形,图中还标明了模 型的一些结构参数。掺杂非晶硅和本征非晶硅的光 1100 nm波长范围),非晶硅和晶体硅的吸收系数取 自文献[8]。 3 结果与讨论 表1示出了计算所得三种能带构形时不同本征 电参数参见文献[?]。 箜 类型A Fig.I 厂j —]幽£

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