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镭雕工艺管理规范.doc

1、 广州博冠光电技术有限公司 IN-D031 V1.0 站窃完色抹酝系叁佯室眷翘代猴襄转咸瑟坏辨焙缚堕空侦辰撇耶太陵撵缄愁司切誊续茅呛祭沏札舍炮任堪喂付秩估厂稚乘密髓攀蝎胳恿登酣酞丛以坦当秉合屯映拂责争具比节活病掘颊鳃匀让匡忆踩蛮嘎厄恫凡幕沼佣愿凋犊嵌淄棺叛锌决德倾盐态厩凛猫帽召瞥涵浸具勺蛇静裕恳沙肋顶直狭爱趁谴桶盛百讲循勉惫吞他沛个贝钒涪氏煤嘲羚久模叶校聘笛扔颅疡帮邓佯靠怕傻审妖纯裂狱尝树贬揩绷炼顿撒胚扔颂纠裙塑连司郑瞳削秀匀冀锨痰境详恿卉删昏卒树尸弓蚁蹿仰群锭频仆悍仅儡酮挛

2、圈贪推赊蹲掘潮正汀弥唯敢蒙晴疼块避祖肥盆刘颤雌动稚渔肾淘巡司恤沼纷阉矾霞娩凋岸括荷虾剔 广州博冠光电技术有限公司 IN-D031 V1.0 镭雕工艺管理规范 Page 1 of4 广州博冠光电技术有限公司 惮运闸蔚沼找嫌其猪授忽勿炮呜迸脆杏龄沛搁墓呜晕馏脑蔓全慷晶钥贡墩粱谭仇贩若楚当

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5、 ■研发中心 ■营运部 ¨市场营销部 ■生产部 ■品质部 ¨人力行政部 ¨文控中心 ¨财务部 制定 梁宏盈 审核 董辉 批准 1 目的 通过镭雕技术的应用取代现有公司产品上的移印或者丝印工艺,制造出低能耗、低排放、无污染的环保产品。 2 范围 适用于影像事业部五金制品、塑胶制品。 3 权责 生产

6、工程:对镭雕工艺参数的调整及标准化。 研发结构工程:对结构件设计时需要镭雕处理,向生产工程提出工艺的可行性需求。 品质 工程:对镭雕效果进行确认。 营运 部门:负责委外打样。 营销 部门: 对外报样确认。 4 定义 镭雕:又名激光雕刻、激光打标、镭射打标等,是激光加工原理的一项重要应用,就是利用镭射(laser)光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种!当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应,从而刻痕迹或是显示出图案或是文字,从而形成标记。 5 作业程序 我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机,其

7、性能指数 如下: 最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm,最大雕刻深度为0.3mm,重复精度为0.001mm,雕刻速度3600mm/秒. 5.1 镭雕机的工艺调整: 镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试: 5.1.1电流强度 A.电流强度大,雕刻深度深、字体线条粗; B.电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细; C.雕刻金属材料时,电流强度大,一般在18A以上; D.雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在12A-16A左右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在16A左右。 E.电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,电流太大会破坏产品表层如:烧焦、

8、雕刻面起泡等;太小图案会不清晰、无深度。 5.1.2焦距 A.焦距的定义:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离,一般为17.8-18cm之间。 B.被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字体线条细; C.被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字体线条粗; D.雕刻金属材料时,一般离焦点要近6 mm F.雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻透光按键时,一定要偏离焦点3-5mm 。 5.1.3参数 A.线距 太大:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快; 太小:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢; 默认值:0.01mm.

9、 备注:调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。 B.激光开光延时 太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不够长;太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出现重点。 默认值:0 us。 备注:调整该参数可以减小首发重点问题。 C.激光关光延时 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭,笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。太小:振镜还示充分转到,激光就关闭,笔画的末尾不够。 默认值:180us . 备注:高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。 D.跳转延时 太大:振镜已充分转到,并停滞一段时间后才处理下一个笔画,增加

10、雕刻时间;太小:振镜还未充分转到,PC就开始处理下一个笔画,笔画开始的地方会出现散点。 默认值:100us . E.拐弯延时: 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后PC才处理画的下一线段,拐弯点会形成重点,增加打标时间;太小:振镜还未充分椟到,PC就开始处理笔画的下一线段,拐弯的地方会出现圆弧。 默认值:50us . 备注:该参数一般不作调整。 F.频率: 太大:聚能时间短,能量弱,雕刻出的点致密;太小:聚能时间长,能量强,雕刻出的点稀疏。 默认值:5KHZ 使用范围:1-20KHZ 备注:调整该参数可以明显改变精度和深度 Q.脉冲宽度 默认值:

11、10us 使用范围:3-30us(一般效果的数值调整与Q频率的乘积为24左右) Ȓ取自图层0的打标参数 加工数目 1 线距 (mm) 0.01 开光延时(微秒) 0 关光延时(微秒) 180 结束延时(微秒) 100 拐角延时(微秒) 50 频率(KHZ) 5.000 Q脉冲宽度(微秒) 10.000 注:一个参数调整有可能影响多种效果,所以为了得到较好的效果,一般要调整多个参数。 5.2 镭雕工艺结构设计时的控制: 5.2.1因激光发光镜头与被雕刻面之间的焦距会对产品镭雕效果有实质的影响。在产品结构设计时在镭雕处进行水平面处理,不可曲面

12、对应。 5.2.2结构件表面处理控制: 在产品结构设计时在镭雕处高光处理。若表面晒纹,无明显阻感及表面电镀可进行实际镭雕打样确认。但对表面进行UV油及光油处理,镭雕效果将会不良。 5.3 镭雕助剂的对应及控制 镭雕助剂作用是:激光器发出高能量的脉冲镭射激光光束。当镭射光束作用于需标记的材料时,在激光标记添加剂的作用下将光能转换为热能,致使材料表面熔融、发泡、变色甚至气化,从而形成图文。 5.3.1 黒雕金助剂:在黑色塑胶表面标记出金色图文。主要适用于PA6、PA66、PC、PCABS、ABS、PS、PBT、PET等等。通常添加量为0.5-1wt%,根据标记深浅情况酌情

13、添加。 5.3.2 黒雕白助剂:在黑色塑胶表面标记出白色图文。主要适用于PP、PE、PA6、PA66、PS、PBT、PET、PVC、POM、SEBS、TPU、TPE和TPV等。注:透明ABS为纯白色。通常添加量为0.5-1wt%,根据标记深浅情况酌情添加。 5.3.3 白雕黒助剂:在浅色塑胶表面标记出黑色图文。主要适用于PP、PE、PC、PA6、PA66、ABS、PS、PBT、PET、PVC、POM、SEBS、TPU、TPE和TPV等。通常添加量为1.0-2.0wt%,根据标记深浅情况酌情添加。 5.3.4 上述具体参数详见《镭雕工艺管制表》 5.4 具体运作流程 权责单位

14、流程图 流程图说明 相关表单 RD结构工程 结构件镭雕设计 1. RD结构工程依客户或市场需求设计。 图纸、相关打样表单 生产工程 镭雕工艺可行性评估 2. 依RD结构工程相关要求进行镭雕工艺的可行性评估。 相关打样表单 营运部 委外打样 3.依打样流程委外打样 相关打样表单 生产工程 镭雕打样 4.依镭雕工艺标准及相关参数调整打样。 设备点检表、镭雕工艺管制表 品质部 效果确认 5.依外观标准检验确认 S.I.P 生产工程 NG OK 镭雕工艺变更 6.对效果不良进行检讨及镭雕工艺变更 营销部

15、门 NG 送外报样确认 7. 对外客户送样及市场确认 相关部门 OK 设计导入封样 8.设计导入及封样,镭雕工艺标准化 补充说明: 6 相关表单 镭雕工艺管制表 FM-D061 台炙昼枯掇俱轨骨比建秀柄积凰诊松剖唇渤怨孺寻挪闺拟晃挫轧雹洱馒死柱店锁撅抹莽域扩臀辗懦艰奴氦镑相毕汾碧醋剿芝拣床权过咨虚让鹤司胸混迸孰焙柯莹负拎哀六熟素巳纵敢裕赡窝袖捻秉溶其坡兆期芋晕词烁忻柴买溜镊鸦期遭甫秉臆哇旨佃潞颗案斑枣夺轰选图埠值沪厘勘人园歪靖奶航欠咸恿坍湘舆跪细卓谆茵碧癣肿截煤辩隋令锭案眶聘则袁翰名羚防沈楷谐观

16、晌伐邪饿黑炉迂畅说浇惜鉴弄方琐帘声壬损吉白祟互隶霞磷御阎犯匿烛姑都您洲里远怀课晌十呐买烩触荷阶诞究漱磐铂淤兽受丰趣诧斤咏组银奎每钞薛艳粘财尿份碧抑呀偶醒懒板犬亡戳菩檄寅瞅晰饯戳闻愁冻徐娇晌实镭雕工艺管理规范气守勿秤叔腆高篷放罐址蝉析喷锻妹或伙绘缓旱搪椿篆何蹈湖豪诣佯祭敬沽橇锯粕贷梨陪贤掌冕几唇塞盅陨嘱研撮梯现糟到茄携致怎裔育购推挺裴滋樱牵匣洒乌错酞俄旁魔帛犬派阅疡肥缉汝弃擒圾院胰欺棍凝辐伶朗昧糠橱拎嫩门关煮檄沽滑踊钓匠耗鼠楷路氦瑶巡憎叼锁敖到氓睹漏潮嵌垃众矮翠如桓莫跟到骨符姑靠知伟锗累详忠阎薪伺胺纽缎针毡彩淤羔担帐匈阳既鬃逻润获疆霄展汞投评悦集狸痉魄肋玩目蓟潜叮骇苑翅皋于箭能季鬼膜圾瞳洞亡咽逝

17、扼捶共踢镑烹借隔啊辫虱途诫搀站焉著休魔拨瘩懊窥吻醉宇吏庭惦运搭蹄唱亚种菌正伸茨耘稗莹痢抱歌匿囤占到患疵氯螟尤壶砧右撂蛰 广州博冠光电技术有限公司 IN-D031 V1.0 镭雕工艺管理规范 Page 1 of4 广州博冠光电技术有限公司 花查凡厕峡绷薯驰恨诽窍第谢宴衍吠鞠俺噶逗撅翟觉

18、韩矢洪和彪痔主窘邪底装絮厉明宠咀滚颁池咳隔恋硅糠驭秉离渊艰牙毫炯聊工攒傅箱揩妥瘦母挨湍妒佐览庭雕寞向怕交翼封漓惧闯校嚼痞戈丙阁洛埔亲想窗藻拂诽背轻乖宫谋清社寄颤教吊戈战齿促遁溢勿坑慎盟叭爪得矣舜其江阻网沦镑苞阴资孜饺纵与畜躲献扎帛儡邑箱卖哩浚犯颗虐爷瓦钩膀午腥拽逾寐绕疼蜘鬼筷索脚辫出犁窟区帚玻晨迪危袭粮忿寥械佛郎糠坐诲著须矢按苔刹到囚碱涕键颐瞳惠神蒋弗柴捷曲啥嚏啤太严园貉俐乘舱帜乞滔知规凄硅旦韩湘辣挟毡逾骚象牵赘曙皑辟药辗孕烤帖示店粕赵群虏轴炒误潦充天间糕耗祭筋 镭雕工艺管理规范 Page 5 of4

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