1、电容式触摸屏设计规范 序号 内容 页 1 目 2 2 合用范畴 2 3 工程图设计 2 4 Lens 设计 4 5 ITO 玻璃设计 6 6 Film 设计 9 7 保护蓝胶设计 12 8 FPC 设计 14 9 包装设计 21 10 保护膜设计 23 11 防暴膜设计规范 25 1 目 规范电容式触摸屏(投射式)设计,提高设计人员设计水平及效率,保证触摸屏模块整体合理性及可靠性。 2 合用范畴 第五事业部TP厂技术部电容式触摸屏设计人员。 3 工程图设计
2、 3.1 工程图纸为TP模块成品管控,以及出货根据,包括如下内容: 3.1.1 正面视图:该视图包括TP外形、view area、active area、FPC图形及有关尺寸.若TP需作表面解决,则必要对LOGO位置、尺寸、材质、颜色、以及工艺进行标注。 需标注尺寸及公差如下: 3.1.2 侧视图:该视图表达出TP层状构造,TP各层厚度、材质、FPC厚度(含IC等元件)必要标注。 需要标注尺寸及公差如下: 3.1.3 反面视图:这一图层包括背胶、保护膜、泡棉及导光膜外形尺寸,以及FPC背面IC及元件区尺寸。 需要标注尺寸及公差如下: 3.1.4 FPC出线图:
3、普通状况FPC表达可以在正面视图中完毕,重要反映FPC与主板连接方式。如果FPC连接方式为ZIF ,则必要标注如下尺寸。 如果TP与主板连接方式为B2B,则必要标注连接器位置尺寸及公差。走线图,出线对照表:走线图表达TP内部走线,如下图所示: 出线表为TP内部与外界连接接口,电容普通分I2C、SPI、USB,如下图所示: I2C接口 USB接口 3.2 文字阐明 该某些对TP常规非常规性能作重点表述,重要涉及如下内容: 3.2.1 构造特性:涉及lens材质,ITO膜厂家及型号,IC型号 3.2.2 光学特性:涉及透光率,雾度,色度等 3.2.3 电气特性:工作电
4、流,反映时间等 3.2.3 机械特性:输入方式,表面硬度等 3.2.4 环境特性:工作温度,储存温度,符合BHS-001原则等 以上特性如超过行业规格范畴,需逐个标注,并让客户确认。 3.3 图档管理 图档管理这块需按如下原则进行相应维护: 3.3.1 按照命名规则填写图框,并签名。 3.3.2 如有更改需有更改记录及版本升级,并需客户确认。 3.3.3 模组图纸受控之前统一按照“X”“0”为起始版本,所有升版动作都规定在更改记录框中有相应内容与之 相应。受控时可以回归“A”“0”版本标记,并删除所有更改记录。此办法也使用于其她图纸及BOM。 3.4 注意事项 3.4.1
5、 各部件尺寸,加工精度需符合供应商及内部工艺制程能力 3.4.2 sensor外形与Lens配合间隙,最内边线路与视窗区配合间隙需符合供应商加工能力及贴合工艺 3.4.3 容许摆放元件高度区域需标标清晰 3.4.4 按照命名规则填写图框?如有更改是需有更改记录及版本升级?工程图纸受控之前统一按照“X”“0”为 起始版本,所有升版动作都规定在更改记录框中有相应内容与之相应。受控时可以回归“A”“0”版本 标记,并删除所有更改记录。此办法也使用于其她图纸及BOM 3.4.5 触摸屏外观效果需明确标记(LOGO,丝印油墨,导电或不导电电镀靶材,色号或直接提供颜色样板) 4 LENS
6、设计 电容屏LENS惯用材质可分为如下几种: PMMA,PC,Glass,PET;其中PMMA,PC,PET材质加工工艺比较简朴,普通采用CNC工艺成型,通过电镀,或丝印做表面解决,三种构造玻璃材质较为惯用,触摸效果比PC,PMMA,PET两种效果来得好,工艺也相对复杂,下面以Glass材质LENS为 例,简介电容式触摸屏lens设计 4.1 LENS加工工艺简介: 切割(切割机)——仿型(仿型机/雕刻机)——开口(开口机/雕刻机)——打孔(雕刻机/开口机)——粗磨(粗磨机)——抛光(抛光机)——清洗(清洗机)——强化(强化炉)——清洗(清洗机)——镀膜(镀膜机)——丝印(丝印机)—
7、—清洁包装(手工) 4.2 LENS基材: IG3、旭硝子(Asahi)、板硝子(NSG)、康宁(Corning) 4.3 lens设计:由客户提供原始资料,以及最后确认工程图为根据展开lens单体设计. 4.3.1 正面视图:该视图包括lens外形、view area(边框丝印范畴)、通孔,听筒,倒边等构造及有关尺寸.普通需做表面解决,则必要对LOGO位置、尺寸、材质、颜色、以及工艺进行标注。玻璃lens各种构造及加工能力如下:(更新如下能力及公差,增长孔与孔间距 、孔与边距离等) 4.3.2 侧视图:该视图表达出lens层状构造,lens各层厚度(玻璃基板以及油墨层)、材质必
8、要标注。需要标注如下构造尺寸,加工能力如下表所示: 4.3.3 反面视图:这一图层包括背胶/保护膜外形尺寸,以及与ITO sensor配合对位标记。 需要标注如下构造尺寸,加工能力如下表所示: 4.4 文字阐明: 4.4.1 构造特性:涉及lens材质 4.4.2 光学特性:涉及透光率,雾度,色度等 4.4.3 机械特性:可靠性测试,表面硬度 4.4.4 环境特性:符合BHS-001原则等 4.4.5 lens翘曲度及膜厚规定:翘曲度规定0.1mm min ; 膜厚规定lens VA区域1.5mm以内保证10UM如下 以上详细特性参数与测试原则以客户端规定为准。
9、4.5 注意事项 4.5.1 Lens图重表面效果、尺寸等规定需与工程图保持一致; 4.5.2 玻璃lens固有构造是标注清晰,例如倒边等; 4.5.3 文字阐明一栏需注明lens强化原则; 5 ITO玻璃Sensor设计 5.1 ITO玻璃构造简介 下面左图为当前电容屏惯用ITO玻璃构造,右图为电阻值和玻璃透过率之间关系表 备注:现SENSOR鉻板设计,背面SIO2可以不要,如果是大客户背面SIO2要设计。 由于ITO玻璃Sensor使用鉻板进行每层制作。各镀层规格:ITO : 1~120Ω/□,当前惯用规格为90~120Ω/□对 应膜厚250埃;Metal:为钼铝
10、钼,面 阻0.3Ω/□,相应膜厚4000 Å;SiO2:膜厚500~600Å;OC:为环氧树脂,膜厚2UM。
5.2 Sensor图形设计:
5.2.1patten设计:
以cypress为例,简介菱形patten设计
1)拟定单个菱形大小
Cypress:定义VA横向尺寸L,以及纵向尺寸H,
横向通道数M=L/5(取整);纵向通道数N=H/5(取整)
横向PattenPitch a=L/M(4.5 11、
2) 计算完单个ITO菱形大小,以b为行距, a为列距,进行阵列,布满VA区,ITO棱形间Gap为0.03mm。横向patten间通过0.1mm线宽ITO导通,纵向Patten间悬空,详细图下图所示:
如下图所示。在VA区基本上面单边外扩0.65mm(需保证:走线距离视窗区域0.35mm以上)作为TP产品功能区域进行设计。定义此功能区域横向尺寸L,纵向尺寸H。
横向通道数M=L/5(取整);纵向通道数N=H/5(取整)
横向PattenPitch a=L/M(4.5 12、attenSensor图;右图为ITO Patten一某些:
3) 计算完单个ITO菱形大小,以b为行距, a为列距,进行阵列,布满VA区,ITO棱形间Gap为0.03mm。横向patten间通过0.12mm线宽ITO导通,纵向Patten间悬空。
5.2.2 OC设计纵向悬空Patten间通过金属线连接导通,金属线与下方横向ITO通道之间使用55um宽度OC进行隔离。关于此处OC设计,Sensor制作供应商莱宝和南玻设计有所区别:莱宝OC区域在上、下两个ITO Patten之间;南玻设计为搭接在上、下两个ITO Patten之间,与ITO Patten接触长度为20um。如下方示意图 13、
5.2.3 Metal设计
搭桥处:Metal为连接纵向悬空上、下两个Patten。详细为在OC基本上电镀一层导电金属(金属桥宽度为12um/15um)如上图所示,金属线长度需保证与ITO Patten接触某些长度为30um;边沿走线处:在保证金属线与VA区域保持0.5mm距离(0.45mm MIN)基本上,通过0.3mm*2mm金属PAD与ITO PAD压合, 并通过0.03/0.03线宽/线距引至FPC bonding区。压合区域:此区域PAD,a=b=>0.2mm,考虑到掩膜板公差0.35mm,因此需保证PAD长度(有效压合长度)为1.2mm MIN。并在两边制作如下图所示F 14、PC热压对位标记;热压对为标记设计详见鉻板设计中FPC bonding对位标记。
5.2.4 SiO2
Metal除FPC bonding以外,需覆盖SiO2保护(SIO2掩模公差±0.35mm)
5.3 铬版各标记设计:
铬版上面各标记设计如下
5.3.1 切割标记
切割记号:尺寸如下图,作用为定位玻璃切割尺寸,控制玻璃切割精度,规定切割精度为±0.05mm,此标记仅合用Metal层
5.3.2 ITO方阻测试块标记:为测试ITO镀膜后方阻,在非图形区域制作四个尺寸为30mm*30mmITO测试方块,由于ITO为透明材料,故在ITO方块边沿制作线宽为0.2mm*0.2m 15、m方框(若边框较小,可以调节方块大小,最小制作为10mm*10mm)详细如下图所示:
5.3.3 保护蓝胶丝印对位标记:在ITO Glass切割之前要对图案进行保护,即玻璃正反面丝印保护蓝胶,则需要在ITO GlassMT层上制作对位标记以保证保护蓝胶与玻璃丝印位置,对位标记.
5.4 ITO Glass 切割边需要保存0.5 mm -- 1.0 mm 余量为二强做准备。
5.5 二强设计原则
5.5.1 物理二次强化,需要规则外形,不能有异形。
5.5.2 化学二次强化,5寸以上BM比外形尺寸内缩0.2-0.25 mm,以免化强后需要补印BM
6 ITO Film 16、构造Sensor设计
ITO Film构造Sensor构造暂时有两种,两层ITO Film和三层ITO Film构造。如下左图所示,为三层ITO Film构造,其中ITO面向下,ITO Film3为屏蔽层。右图为两层ITO Film构造,ITO面向上。ITO Film构造Sensor是采用印刷方式制作各层布线。将使用菲林和钢丝网进行印刷。
下面为所使用菲林构造:
1) 保护涂层:涂有明胶涂层以防止损伤感光乳剂层。里面也许包括无光泽试剂。
2) 感光乳剂层:均匀地涂有卤化银微小晶体,以明胶作为介质。
3) 下涂层:该层用于把感光乳剂层粘到胶片基上。
4) 胶片基:使用了PET 17、聚对苯二甲酸乙二醇酯)。这种材料有如下特点:尺寸稳定性高;紫外线透射率高;弹性与光滑度适中;
5) 防静电层:涂有导电材料以去除静电。
6) 衬底层:用于提高卷曲平衡及防止由于吸取反射光而减少图像质量。该层重要由明胶构成。里面也许具有无光
泽试剂;
6.1 ITO Film构造Sensor详细设计
ITO Film构造Sensor图形设计涉及AG,ITO和保护蓝胶。此外在图纸设计时需结合客户规定和内部工艺制程能
力。下面按照Atmel方案进行ITO图形设计
6.1.1 ITO 设计
Atmel方案,ITO图形设计为条形,据图如下左图,ITO横向为发射极,ITO图形较宽;纵






