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半导体集成电路中的low—k技术
摘要：随着芯片集成度的不断提高，RC时延、串扰噪声和功耗等越来越成为严重的问题。low—k(低介电常数)技术在这样的背景下产生并逐渐应用到集成电路工艺中。low—k材料代替SiO2能够进一步提高芯片的速度，但在low—k材料带来巨大技术优势的同时，也带来了一些技术性难题.研究新型low-k材料并提升其相应的性能,将极大的促进集成电路的发展。
关键词： 集成电路 low—k技术　低介电常数 多孔材料

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1 前言
随着超大规模集成电路(Very Large Scale Integration,VLSI)的高速发展，芯片的集成度不断提高，特征尺寸不断减小。金属互连的多层布线导致金属导线的电阻、线间电容和层间电容增大，从而使RC延迟时间、串扰噪声和功耗等增加，这些问题成为集成电路进一步发展的制约因素［1,2].为了解决上述问题，提高芯片的速度，一方面用采用Cu金属互连线代替Al金属，减少电阻(Cu电阻率为1。75 ×10—8Ω·m，Al电阻率2。83 ×10—8Ω·m)。另一方面用low-k电介质(k〈3）代替SiO2(k=3。9～4。2）,降低金属互连层间绝缘层的介电常数k［3,4］.90 nm工艺要求k = 3.0~2.9；65 nm工艺要求k = 2。8~2.7；45 nm 工艺要求k = 2。6～2。5［3]；32nm及以下工艺要求k值在2。4之下［5].因此，low-k技术已经成为集成电路领域的重点研究内容之一。
2 low—k技术的优势

图1 分布电容示意图
low-k技术就是就是寻找介电常数（k）较小的材料作为芯片内部电路层之间的绝缘介质ILD（Inter Layer Dielectrics，层间电介质）,防止各层电路的相互干扰，以提升芯片的稳定性和工作频率。集成电路的速度由晶体管的栅延时和信号的传播延时共同决定，使用high—k材料可以有效地降低栅延时。RC时延由金属导线的电阻R和内部电介质形成的电容C决定[6]。由于ILD的存在，导线之间就不可避免的存在分布电容.在集成电路内，RC时延决定于电阻R与电容C的乘积值，其值越小，速度越快。R值由材料的性质决定，因此降低电容值就可改善线路的传输速度。电容值与与ILD的介电常数K相关，K值越小，电容值越小.所以，low—k技术的实质就是寻找k值尽量小的材料以降低R ×C的值，减小延迟,进而提升芯片速度。
在另一方面，low-k技术还可以降低线路串扰。当一条传输线传送信号时，通过互感作用在另一条传输线上产生感应信号，或者通过电容产生耦合信号,这两种现象统称为串扰。串扰可使相邻传输线中出现异常的信号脉冲，造成逻辑电路的误动作。耦合干扰是由导线间的寄生电容引起的，根据容抗表达式XC=1/2nfC可知：电容的容量C越大，XC越小，信号越容易从一根导线穿越电介质到达另一根导线，线路间的串扰就越严重；信号的频率f越高，脉冲的上升、下降时间越短,串扰也越严重[6]。
由上面可以看出，使用low-k材料作为ILD，可以降低分布电容,进而缩短了RC时延， 提高了芯片的速度；另外,分布电容的降低可以降低信号串扰,允许互连线之间的距离更近,可进一步提高芯片的集成度。
3 low—k材料
3.1 低介电性能
材料的介电性能主要取决于构成材料微观成分的分子极化率，其宏观量相对介电常数εr，和微观量极化率α之问的关系为
（εr－1）/εr+2)=Ｎα／3ε０
上式又称为Clausius－Mossotti 方程，其中,Ｎ为介质单位体积内极化质点数［8]。电介质的介电常数与其分子在电场中的极化强度大小和单位体积内分子数目有关，分子的极化强度越高，材料单位体积内的分子数越多，介电常数越大.因此可以通过两种途径降低材料的介电常数：一是降低自身的极性和极化率，包括降低材料中电子极化率,离子极化率以及分子极化率，通常是掺入强电负性的元素,能将电子牢牢地束缚住，使Si—O-Si网络结构由四面体Sp3轨道转为极性较弱的sp2轨道；二是降低单位体积内极化分子的密度。由于通过降低分子的极化率来降低材料的介电常数是有限的,目前降低材料介电常数多是通过引入介电常数约等于1。0的空气孔隙来实现的，这主要是由于通过引入孔隙，降低了材料单位体积内极化分子的数目[8,9]。
3.2 几种low-k材料的介绍
下面将介绍几种low—k材料。
3。2。1 无机多空材料
(1) 氧化硅多孔材料 氧化硅材料具有良好的化学稳定性和热稳定性，与硅基板具有良好的相容性,因此在众多低介电常数材料中是最具发展前景的．氧化硅多孔材料因具有更低的介电常数，在目前集成电路高度密集化的发展过程中，获得了广泛关注，其介电常数在1。99～2.45之间。
（2）氮化硅多孔材料 氮化硅材料具有耐腐蚀、机械强度高、耐高温、介电常数低（5。6)和介电损耗小的特点.采用浆料注人法和硅胶循环渗透法，在750。C反应条件下制备出熔融石英纤维增强多孔氮化硅低介电常数陶瓷材料，在高测试频率下材料的介电常数为2.8—3.1。
(3)多孔a—C：F薄膜 尽管a-C：F薄膜作为低介电材料的应用受到人们质疑(热稳定性和力学性能较差)，但对它的研究探索却一直未停止。多孔a-C：F薄膜的出现使得a—C：F薄膜开始迈向超低k材料领域。其介电常数值在2.1~2.7之间。
3.2.2 有机多孔材料
(1) 聚酰亚胺多孔材料 聚酰亚胺是以酰亚胺环为结构特征的高分子聚合物,利用聚酰亚胺制备的薄膜具有耐高低温特性、耐辐射性、优良的黏接性、电气绝缘性和机械性能。其薄膜介电常数可降至1。8左右[12］。
（2）聚乙烯多空材料 聚乙烯是一种非极性高分子材料，且具有无毒、耐化学腐蚀、吸水性小、电绝缘性能优良和价格低廉的优点，非常适合用作低介电常数材料。介电常数主要受孔隙率的影响．当孔隙率为62。9%时,薄膜的介电常数可降低至1。56。
（3)含氟聚合物多孔材料 聚四氟乙烯（PTFE)因具有良好的机械强度、低的介电常数和较高的玻璃化转变温度，被认为是一种理想的低介电常数材料。介电常数可达1。5,在400℃ 以下不发生分解反应。
(4)聚硅氮烷多孔材料 多孔聚硅氮烷薄膜由于高的孔隙率和均匀的薄膜结构，介电常数低至2。2，这种材料已经被应用于集成电路制备过程中
3.2。3 有机／无机复合多孔低介电常数材料
(1) 倍半硅氧烷基多孔复合材料 倍半硅氧烷材料具有低的介电常数，其中甲基倍半硅氧烷（MSQ)的介电常数为2.6~2。8，已经被广泛应用于微电子领域.通过在这种基体材料中引入孔隙的方法可以进一步降低介电常数。
(2) 沸石聚酰亚胺多孔复合材料 沸石是具有微孔结构的铝硅酸盐化合物，具有窄分布分子尺寸的孔隙以及低的介电常数．将沸石与低介电常数的聚合物混合,采用旋涂法可以获得无机／有机复合多孔薄膜，孔隙来自于沸石本身,这种薄膜材料具备低的介电常数且综合了无机、有机材料的优点，具备良好的机械性能和热稳定性.采用旋涂法制备出的无机／有机复合多孔薄膜，薄膜的介电常数为2.00～2.56 ［9,10]。
对低介电常数材料的研究已经从无空低介电常数材料发展到多孔低介电常数材料,从单一组分的多孔低介电常数材料发展到多组分的复合多孔低介电常数材料。
4 low-k技术面临的挑战
尽管low—k材料有许多的技术优势，但除了低介电常数的特性以外,还需要具备以下性质:在电学性能方面,要有高击穿电压、低损耗、低漏电流和非等向特征；在力学方面，要有高附着力、高硬度、搞机械强度和低残余应力；在化学性能方面，要符合低的释气量、不与金属反应、高的憎水性等特性［7］；在热学方面，要有高热稳定性、低热膨胀率和高热导率[2，10]。
与SiO2相比,low—k材料密度较低，这样带来两个问题,一是热传导性能较差，不利于芯片内热量的散发，由此导致芯片热稳定性变坏；二是铜更容易扩散进入绝缘层材料的孔隙中，不仅影响了互连的可靠性,如果不采取适当防扩散工艺措施，情况严重时会因电解质中铜含量过高而带来漏电和功耗升高问题.在制造工艺上，由于low-k材料的松软结构和易渗透性,使得CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光)和清洁工序变得更为艰难，并导致成品率下降和生产成本的提高[6]。
5 结束语
2011年国际半导体技术蓝图(International Technology Roadmap for Semiconductors,ITRS）指出，low-k材料的空气隙结构被认为是ILD潜在解决方案的主流，因为它在逐渐成熟。ITRS团队坚定地认为,除了使用空气隙结构，对任何多孔超低k值（k〈2）材料的进一步改进都不可能引起k值大幅减小。对低k值，这是材料解决方案的结束,也是结构解决方案的开始［11］。除了降低k值,low—k技术在其他方面也要解决一些关键性问题,如多孔材料的化学抵抗能力和机械强度，ALD的阻挡效率以及互连结构的电学稳定性等问题.

参考文献：

［1] 崔进,刘卉敏，邓艳红，等.2CHF_3 等离子体刻蚀SiCOH低k薄膜的机理分析。苏州大学报.2011，27(1）：49-51
［2］ 孙鸣，刘玉岭，刘博，等. 低k 介质与铜互连集成工艺.微纳电子技术. 2006，10：464—469
［3] 翁寿松.低k 电介质及其设备. 电子工业专用设备。 2008.160:28-30
[4］ 王立冉，邢哲,刘玉岭，等. 碱性抛光液在CMP 过程中对低k 介质的影响.半导体先进制造技术。 2012,37(1）：29-32
[5］ T。 Watanabe, Y。 Hayashi， H。 Tomizawa， et al. Robust BEOL Process Integration with Ultra Low-k （k=2.0) Dielectric and Self—Formed MnOx Barrier Technology for 32 nm—node and beyond.Interconnect Technology Conference. 2008，6：208 — 210
[6］ 钟雅苏. Low-k给我们带来了什么。 微型计算机. 2004,14：118—119
［7] 翁寿松。 45nm工艺与关键技术。 微纳电子技术。 2007,9:863—867
［8］徐洪耀,严正权，张超,等。 多面体笼型倍半硅氧烷纳米杂化低介电材料的研究. 高等学校化学学报。2011,9:1962—1969
［9］ 王家邦，张国权。 浙江大学学报。 2009，43(5）:957—961
［10] 殷桂琴，袁强华. 旋转涂覆法制备硅基多孔低k薄膜材料的研究进展。 材料导报. 2010,24(4）：40—43
[11］ 周润玺 译，黄庆红 校.国际半导体技术发晨路线图（IRS)2011版综述。中国集成电路. 2012,163:27—42
［12］ 杜诗文,李永堂。 化学机械抛光中Si/Cu/Ta/low—k界面剥离和断裂特性研究. 机械工程学报。 2012,48(4):26-31