1、2024/4/81真空鍍膜設計及應用真空鍍膜設計及應用2024/4/82 1.1 1.1 簡簡 介介 現現 代代 化化 的的 薄薄 膜膜(Thin film)技技 巧巧,已已 發發 展展 成成 許許 多多 產產 品品 製製作作 的的 精精 密密 技技 術。術。應應 用用 範範 圍圍 包包 含含 使使 用用 極極 為為 廣廣 泛泛 之之 積積 體體 電電 路路(Integrated Circuits)電電 子子 構構 裝裝(electronic packaging)、感感 應應 器器(Sensor)裝裝 置置(device)、光光 學學 薄薄 膜膜(Optical films),一一 如如 保保
2、 護護 或或 裝飾裝飾 用用 之之 覆覆 膜膜(Coating),薄薄 膜膜 之之 程程 序序 總總 共共 可可 分分 為為 三三 大類大類:(1)物物 理理 氣氣 象象 沈沈 積積(Physical Vapor Deposition)(2)化化 學學 氣氣 象象 沈沈 積積(Chemical Vapor Deposition)(3)化化 學學 方方 式式(Chemical methods)2024/4/83 1.2 1.2 真真 空空 系系 統統現現 代代 化化 的的 沈沈 積積(Deposition)Deposition)技技 術術 ,需需 要要 在在 一一 個個真真 空空 的的(Vacu
3、um)Vacuum)環環 境境 之之 下下 來來 發發 生。生。對對 許許 多多 的的 技技 巧巧 而而 言言 ,最最 終終 產產 品品 的的 品品 質質 與與 組組 成成,通通 常常 是是 依依 沈沈 積積 過過 程程 中中 之之 真真 空空 條條 件件 來來 決決定定 的。燃的。燃 而而 “真真 空空”必必 須須 存存 在在 的的 理理 由由 有有 那那 些些 呢呢對對 在在 真真 空空 環環 境境 下下 的的 沈沈 積積 材材 料料(Deposition of Deposition of material)material)而而 言言 ,真真 空空 條條 件件(Vacuum condit
4、ions)Vacuum conditions)可可 以以增增 加加 原原 子子 的的 自自 由由 平平 均均 路路 徑徑 (mean free path),mean free path),消消除除 會會 參參 與與 沈沈 積積 材材 料料 一一 同同 反反 應應 之之 氣氣 体体 ,減減 少少 2024/4/84 蒸蒸 氣氣 壓壓(Vapor pressure)即即 使使 是是 更更 低低 溫溫 氣氣 象象 之之 材材 料料,以以及及 提提 供供 超超 越越 潔潔 淨淨 之之 環環 境境(Ultimate clean environment)。簡簡 而而 言言 之之 我我 們們 可可 以以 將
5、將 真真 空空 比比 喻喻 成成 在在 我我 們們 週週 遭遭 環環 境境中中 之之 氣氣 体体(gases),水水 氣氣(moisture),微微 粒粒(particles)都都 缺缺 席席(absence)的的 情情 況況 之之 下下 的的 一一 番番 景景 象。象。2024/4/85 一一 般般 而而 言言 真真 空空 可可 以以 定定 義義 為為 10 W VACUUM(10 TO 10 Pa)(760 to 25 torr)medium vacuum(10 TO 10 Pa)(25 to 0.75 milli torr)High Vacuum (10 TO 10 Pa)(10 to
6、10 torr)Very High Vacuum(10 TO 10 Pa)(10 to 10 torr)2024/4/86 1.31.3真真 空空 腔腔 體體(Vacuum Chamber)Vacuum Chamber)當當 維維 持持 真真 空空 的的 情情 況況 之之 下下,腔腔 體體(chamber)外外 側側 仍仍 需需 抵抵抗抗 正正 常常 之之 大大 氣氣 壓壓 力力,一一 般般 而而 言言 不不 鏽鏽 鋼鋼(Stainless Steel)或或 玻玻 璃璃(glass)製製 成成 之之 腔腔 體體,具具 有有 下下 列列 優優 點點:(1)不不 易易 被被 侵侵 蝕蝕(corro
7、de)(2)較較 易易 清清 潔潔(3)非非 磁磁 性性(nonmagnetic)(4)有有 絕絕 佳佳 之之 釋釋 氣氣(outgassing)性性2024/4/87 其其 中中 又又 以以 不不 銹銹 鋼鋼 因因 具具 有有:加加 工工 容容 易易(machinability),高高強強 度度(highstrength),容容 易易 焊焊 接接(welding),而而 成成 為為 製製 造造 大大型型 腔腔 体体 最最 容容 易易 被被 採採 用用 之之 素素 材。材。2024/4/88 圖 1.傳 統 使 用 於 沈 積 鍍 膜 之 真 空 系 統 2024/4/89 1.4 1.4 排
8、排 氣氣 系系 統統 重重 要要 用用 語語 介介 紹紹真真 空空 幫幫 浦浦(Vacuum pump)有有 兩兩 項項 達達 成成 終終 極極 壓壓 力力(Ultimate Pressure)之之 關關 鍵鍵 性性 條條 件件,分分 別別 為為 置置 換換 能能 力力(displacement)及及 抽抽 氣氣 速速 率率(pumping rate),2024/4/810 用用 語語 介介 紹紹 逆逆 流流(Back streaming),阻阻 擋擋(Baffles)及及 陷陷 阱阱(Traps)。逆逆 流流 可可 定定 義義 為為:傳傳 輸輸 口口 的的 排排 出出 流流 体体(Pumpi
9、ng fluid)會會有有 少少 部部 份份 從從 泵泵 浦浦 回回 流流 到到 真真 空空 腔腔 中中 之之 現現 象。象。為為 了了 進進 一一 步步 減減 少少 逆逆 流流 之之 現現 象象,可可 以以 充充 分分 使使 用用 阻阻 擋擋 及及 陷陷 阱阱,然然 而而 一一 般般 常常 對對 Baffle 及及 Trap 有有 錯錯 用用 之之 誤誤 解解2024/4/811 以以 下下 將將 簡簡 略略 說說 明明:阻阻 擋擋:為為 一一 項項 用用 於於 凝凝 縮縮(condense)泵泵 浦浦 流流 氣氣 体体 化化 與與 流流 体体 回回 流流 至至 泵泵 浦浦 沸沸 騰騰 器器
10、 (boiler)之之 誤誤 置置陷陷 阱阱:則則 為為 針針 對對 泵泵 浦浦 中中 氣氣 相相 (Vapor)之之 物物 質質 作作 凝凝 縮縮 (condense)捕捕 捉捉 之之 用用 2024/4/812 1.5 1.5 蒸蒸 發發(Evaporation)Evaporation)蒸蒸 發發 的的 形形 式式 或或 許許 可可 說說 是是 膜膜 沈沈 積積 中中 最最 簡簡 單單 之之 型型 式式真真 空空 蒸蒸 發發(Vacuum evaporation)是是 沈沈 積積 技技 術術 中中 可可 以以使使 用用 多多 樣樣 材材 料料 成成 膜膜 的的 方方 法法,通通 常常 之之
11、 形形 式式 為為 在在 真真 空空的的 環環 境境,利利 用用 加加 熱熱 源源 加加 熱熱 來來 源源 材材 料料(Source material)直直 至至 其其 揮揮 發發(evaporation or Sublimes),揮揮 發發 後後 之之 物物 質質以以 沈沈 積積(deposited)或或 凝凝 縮縮(condensed)於於 基基 板板(Substrate)表表 面面 成成 膜膜(film)2024/4/813 1.61.6蒸蒸 發發 源源(Evaporation Sources)Evaporation Sources)目目 前前 有有 兩兩 種種 廣廣 泛泛 被被 使使
12、用用 之之 蒸蒸 發發 源源 型型 式式(1)Thermal evporation(2)electron beam evporation(1)Thermal evporation 是是 其其 中中 最最 常常 使使 用用 之之 蒸蒸 發發 源源 即即 為為 直直 接接 加加 熱熱 昇昇 華華 材材 料料 之之 形形 式式,採採 用用 坩坩 堝堝(Crucible)舟舟(boat)及及 線線 圈圈(wire coil)來來 盛盛 接接 蒸蒸 發發 材材 料料 件件,然然 後後 利利 用用 外外 部部 之之 電電 流流 通通 過過 加加 熱熱 直直 接接 昇昇 華華 之之 方方 式式 2024/4/814(2)electron beam evporation 則則 是是 被被 有有 效效 改改 良良 後後 之之 利利 器器,其其 能能 力力 遠遠 超超 過過 傳傳 統統 之之 方方 式式,增增 加加 其其 廣廣 泛泛 之之 使使 用用 性性,其其 原原 理理 為為 利利 用用 高高 能能 量量 之之 電電 子子 束束(Beam of electron)充充 電電 集集 中中 於於 極極 小小 之之 區區 域域 加加 熱熱 2024/4/815參考書籍參考書籍Thin Film Technology HandbookElshabini-RiadBarlow