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研磨剂生产新配方创新设计,研磨剂制备新方法专利技术大全.pdf

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资源描述
研磨剂生产研磨剂生产新配方创新设计与制备新方法新配方创新设计与制备新方法专利技术专利技术大全大全 主编:专利编写组 出版发行:中国知识出版社 2011 年 规格:全五卷 16 开精装+1 张 CD 光盘 定价:1980 元 优惠价:优惠价:1580 元元 详细目录 1 200410029950.3 可在线电解的金属结合剂超硬磨料砂轮及其制备方法 2 200410029949.0 可在线电解的金属结合剂超硬磨料砂轮使用的磨削液及其制备方法 3 03148284.8 具规则性排列磨料研磨工具的制造方法 4 02820394.1 磨料容纳袋子 5 02820724.6 研磨剂、研磨剂的制造方法以及研磨方法 6 200410058247.5 等离子显示板的隔壁形成用磨料及等离子显示板的制造方法 7 200410061916.4 研磨液组合物 8 200410056230.6 磁盘用研磨液组合物 9 200410066757.7 磨料浆体射流切割用的浆料及其制备方法 10 02823057.4 研磨玻璃表面或物体处理剂及其用途和制备方法 11 200410045089.X 一种用稻壳灰制作牙膏或牙粉研磨剂的方法及用途 12 200410066756.2 浆料与高压传递介质分别独立循环的磨料浆体射流装置 13 02819457.8 含有精细研磨的天然白垩的口腔组合物 14 200410009643.9 一种平面往复式磨料磨损试验装置 15 02825566.6 对包含第族金属的表面采用固定磨料制品的平面化方法 16 02826000.7 用于研磨料回收的方法和装置以及废料分离系统 17 02826551.3 研磨液及研磨方法 18 200410078477.8 磁盘用研磨液试剂盒 19 200410060508.7 用于生产磨料颗粒的清吹制粒方法 20 200410092980.9 带有用于降低浆液消耗的凹槽排列的研磨垫 21 200410092981.3 带有用于提高浆液利用率的凹槽的研磨垫 22 200410048737.7 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法 23 200410084490.4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用 24 200410077755.8 磨料射流快速公路切割机 25 200410065956.6 一种非标尺寸有源矩阵液晶显示器及其研磨制造方法 26 200310122917.0 研磨液再利用装置及其系统 27 200310113053.6 用于彩色光阻材料平面化的研磨浆液 28 03807719.1 金属镀层磨料、使用金属镀层磨料的砂轮以及生产金属镀层磨料的方法 29 03807940.2 研磨基材的方法及组合物 30 200310121214.6 化学机械研磨浆液及其使用方法 31 03806350.6 塑性材料及其组合物的研磨方法 32 200510002654.9 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法 33 03809590.4 研磨液及研磨方法 34 200510011128.9 一种用于存储器硬盘磁头背面研磨的研磨液 35 03811386.4 用于制备三元组合物的共研磨方法 36 200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法 37 03813586.8 用于从研磨的聚氨酯颗粒和多元醇液体的混合物中连续除去空气的设备和方法 38 03812783.0 研磨液及研磨方法 39 03814247.3 改进的涂覆磨料 40 200510055710.5 研磨用磨料、研磨剂、研磨液、研磨液的制造方法、研磨方法以及半导体元件的制造方法 41 03817513.4 半导体用研磨剂、该研磨剂的制造方法和研磨方法 42 200510059065.4 研磨液组合物 43 03818945.3 磨料夹持器 44 03818946.1 CMP 研磨剂及基板的研磨方法 45 200510062471.6 用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物 46 03821127.0 具有树脂控制添加剂的研磨制品 47 03821131.9 半导体集成电路用绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法 48 200410017579.9 半导体芯片化学机械研磨剂及其配制方法 49 200510064805.3 研磨液组合物 50 200510068160.0 金属用研磨液及研磨方法 51 200410017580.1 半导体芯片化学机械研磨后清洗液 52 03822423.2 研磨剂组合物、其制备方法及研磨方法 53 200510064514.4 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法 54 03822712.6 熔融钎焊涂层超磨料颗粒和有关方法 55 03152471.0 研磨液组合物 56 03152478.8 研磨液组合物 57 03142418.X 用于制造铈磨料的轻稀土原料 58 02802801.5 形成精细间隔壁的方法,生产平面显示装置的方法,及喷射加工用磨料 59 02802963.1 铈类研磨材料浆剂及其制造方法 60 01818179.1 多晶磨料 61 03155119.X 半导体装置的研磨剂和用研磨剂的半导体装置的制造方法 62 02156346.2 磨料及其制造方法 63 02148174.1 研磨剂、基片的研磨法和半导体装置的制造方法 64 01821238.7 制备附聚物磨料颗粒的喷雾干燥方法和磨料制件 65 01819592.X 用于水性悬浮液中矿物质研磨的助剂、所形成的水性悬浮液及其用途 66 01819593.8 用于水性悬浮液中矿物质研磨和/或分散的助剂,所形成的水性悬浮液及其用途 67 01819652.7 铈基磨料及其生产过程 68 03155318.4 研磨液组合物 69 03154996.9 研磨垫用组合物以及使用它的研磨垫 70 03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法 71 01822459.8 涂银磨料,含涂银磨料的刀具,和这些刀具的应用 72 03158608.2 含有被埋入的液态微量成分的研磨垫及其制造方法 73 03127287.8 研磨液组合物 74 02145989.4 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法 75 01823099.7 填有磨料的热固性组合物及其制备方法和填有磨料的制品及其制备方法 76 200310103880.7 测量液晶显示面板研磨量的设备和方法 77 200310116366.7 评价磨粒质量的方法、抛光方法以及玻璃抛光用的磨料 78 200310120369.8 研磨液组合物 79 200310124681.4 研磨液组合物 80 02811396.9 聚氨酯组合物以及研磨垫 81 200410004018.5 研磨液组合物 82 200310124748.4 研磨液组合物 83 200310124746.5 研磨液组合物 84 02810471.4 蜂窝状磨料制品 85 03115702.5 水下高围压后混合磨料射流模拟实验装置系统 86 03119819.8 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 87 200310106070.7 具有优化地貌的单层钎焊金刚石固结磨料工具的工艺方法 88 03119818.X 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 89 200310110367.0 液晶面板表面的研磨装置及研磨方法 90 03800709.6 抛光方法及研磨液 91 02806168.3 铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法 92 02810421.8 磨料流体喷射系统 93 01816826.4 抛光包括铜和钨的半导体器件结构中使用的浆液与固定磨料型抛光垫以及抛光方法 94 01816199.5 磨料组合物及其制备方法 95 01816200.2 制备磨料组合物的方法及其产品 96 200310105884.9 一种陶瓷材料研磨助剂的制备方法 97 02816872.0 液晶聚合物的研磨 98 200410001000.X 尼龙波纹磨料丝及其制造方法 99 200410005562.1 分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法 100 200410034759.8 化学机械研磨剂组合及其化学机械研磨方法 101 01823810.6 磨料流动加工设备及方法 102 01822485.7 磨料金刚石复合材料及其制造方法 103 200610017440.3 降低研磨料浆含杂量的方法及系统 104 200510032917.0 单层超硬磨料工具的制造方法 105 200510137849.4 铈系磨料用原料以及铈系磨料用原料的制造方法、铈系磨料以及铈系磨料的制造方法 106 200510134775.9 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法 107 200610058544.9 研磨剂、基片的研磨法和半导体装置的制造方法 108 200480020173.4 大型零件的抛光方法及在该方法中使用的磨料 109 200480000866.7 碳酸铈的焙烧温度的设置方法、氧化铈磨料的生产方法及由该方法制得的氧化铈磨料 110 02810207.X 立方氮化硼磨料颗粒的生产方法 111 03825640.1 用于透明牙膏的磨料组合物 112 200510080465.3 碳黑树脂研磨组合物、碳黑树脂组合物及应用其的胶印油墨 113 200510076332.9 研磨液组合物 114 200380104672.7 研磨矿物质的低离子负载水悬浮液及其用途 115 200510084026.X 化学机械研磨用水性分散剂以及化学机械研磨方法 116 200410054780.4 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法 117 200510013701.X 水力自旋式可控磨料射流切割装置及其操作方法 118 200510085991.9 研磨液组合物 119 200480003202.6 CMP 研磨剂以及研磨方法 120 200510017868.3 立方氮化硼陶瓷结合剂研磨盘及其生产方法 121 200480003457.2 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法 122 200380107825.3 化学机械研磨用浆料组合物、利用它的半导体元件的表面平坦化方法以及浆料组合物的选择比控制方法 123 200510104102.9 研磨垫用组合物 124 200480007373.6 一种具有团块的磨料制品的用途 125 200480006907.3 聚丙烯酸作为碳酸钙的研磨助剂的用途 126 200510094608.6 高压磨料水射流切割头装置及混合管 127 200510092009.0 用于制造改进的氧化铈研磨颗粒及包括这种颗粒的组合物的方法 128 200480007234.3 磨料硬表面清洁组合物 129 200480010321.4 磨粒、磨料制品及其制造和使用方法 130 200510125376.6 研磨液组合物 131 200510128707.1 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法 132 200510125382.1 半导体基板用研磨液组合物 133 200480012541.0 具有曲折表面形貌之覆层的磨料颗粒 134 200480012569.4 CMP 方法用研磨液及研磨方法 135 200510032590.7 金属结合剂超硬磨料砂轮的电火花-机械复合整形方法 136 200510032591.1 一种适用于青铜结合剂超硬磨料砂轮高速在线电解修锐磨削的磨削液 137 03826622.9 金属用研磨液以及研磨方法 138 200510131477.4 磨料发射装置 139 200410077646.6 抛光磨料及其制造方法 140 200510129495.9 玻璃基板用研磨液组合物 141 200510062193.4 光敏树脂结合剂研磨盘的制备方法 142 200480014467.6 研磨剂及研磨方法 143 200610000318.5 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法 144 200480012926.7 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂 145 200480021271.X 用于测量微米超级磨料的压碎强度的装置 146 200610056893.7 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒 147 200510055834.3 化学机械研磨机台的研磨液供应设备与研磨液混合方法 148 200480023346.8 硼涂覆磨料 149 200480023189.0 半导体平坦化用研磨剂 150 200610050188.6 重叠振动复合磨料加工方法及装置 151 200610035712.2 具有抗菌功效的含磨料牙刷丝 152 200480026480.3 超级磨料线锯及相关制造方法 153 200610013973.4 半导体硅晶片水基研磨液 154 200610013977.2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液 155 200610013978.7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液 156 200480028200.2 研磨用组合物及研磨方法 157 200610014299.1 电子玻璃的纳米 SiO2磨料抛光液 158 200610093400.7 磨削不锈钢的菱苦土磨料砂轮及其制造方法 159 200480025777.8 铈盐、其制造方法、氧化铈以及铈系研磨剂 160 200480025583.8 组合物、经处理的背衬和包含这样的组合物和背衬的经涂敷的磨料制品 161 200480026003.7 用于化学机械抛光的磨料颗粒 162 200480031189.5 液状组合物、其制造方法、低介电常数膜、研磨料及电子部件 163 200610014602.8 硅片研磨液 164 200510078261.6 磨料水射流井下多辐射孔超深钻孔装置 165 200610080578.8 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒 166 200480034363.1 带涂层磨料的制造方法 167 200480034362.7 结构化磨料制品 168 200480034364.6 磨料制品及其制造方法 169 200480034365.0 用于磨料制品的复合物 170 200480034366.5 具有抛物面的结构磨料 171 200480034377.3 带涂层磨料的制造方法 172 200480034378.8 结构化磨料制品 173 200510132175.9 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法 174 200610014298.7 超大规模集成电路多层布线 SiO2介质的纳米 SiO2磨料抛光液 175 200610088503.4 CMP 用研磨液及其制备方法以及基板的研磨方法 176 200480036364.X 作为颜料研磨载色剂应用于辐射可固化油墨的多官能团的丙烯酸酯低聚物 177 200610041112.7 冷冻纳米磨料抛光垫及其制备方法 178 200610099284.X 水性磨料分散剂组合物 179 200580002075.2 牙用磨料体系 180 200510036738.4 磨料尼龙刷丝的制造方法及挤出设备 181 200510092805.4 制造轻薄型液晶显示元件的液晶单元的研磨方法及其装置 182 200580004190.3 相互研磨水泥用液体添加剂 183 200580004728.0 涂覆的磨料 184 200610115095.7 用于钢丝锯割的方法、设备和研磨液 185 200610108436.8 研磨液组合物 186 200480041194.4 不含二氧化硅的表面研磨组合物及其用途 187 200580006497.7 涂覆的磨料 188 200580006988.1 研磨剂以及研磨方法 189 200580006496.2 涂覆磨料的方法 190 200610053918.8 一种基于高压磨料射流隔膜泵的开式装填磨料的射流装置 191 200610142509.5 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 192 200580009665.8 涂敷的磨料产品及其制备方法 193 200610142185.5 研磨方法、研磨用组合物以及研磨用组合物套装 194 200580011241.5 非织造磨料制品及其制作方法 195 200580011476.4 磨料制品、组合物及其制备方法 196 200580010955.4 金属用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法 197 200580012471.3 磨料制品及其制造和使用方法 198 200610141662.6 半导体基板用研磨液组合物 199 200610137146.6 金属用研磨液及研磨方法 200 200580015925.2 研磨用组合物 201 200580015499.2 多晶磨料及其制备方法 202 200580015543.X 涂覆的磨料和制备方法 203 200610141890.3 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法 204 200580019719.9 具有粘结层的经涂敷的磨料制品、及其制造和使用方法 205 200580020204.0 具有复合粘结层的经涂敷的磨料制品、及其制造和使用方法 206 200580019720.1 磨料制品的注射成型制造方法 207 200580021907.5 磨料制品包装及其制备方法 208 200710001563.2 CMP 研磨剂及基板的研磨方法 209 200580023474.7 在增稠剂存在下研磨矿物材料的方法,获得的含水悬浮液及其用途 210 200580023543.4 在粘结剂存在下研磨矿物材料的方法,获得的含水悬浮液及其用途 211 200580023556.1 CMP 研磨剂以及衬底的研磨方法 212 200610169045.7 玻璃基板用研磨液组合物 213 200610163754.4 硬盘基板用研磨液组合物 214 200580024427.4 尤其用于涂覆和固结磨料、如用于消除合金钢扁坯表面裂纹的砂轮的具有高氧化铝含量的磨粒 215 200580025699.6 检测磨料制品取向的系统和方法 216 200610022452.5 磁材生产过程中废次料及研磨料的回收利用方法 217 200610156073.5 磨料颗粒包覆金属结合剂的方法及设备 218 200580028205.X 用于超细度研磨燕麦糠的方法和包括从通过所述方法得到的超细燕麦糠粉末提取的提取物的饮料组合物 219 200580023417.9 处理糖蜜,生产用于混凝土增塑剂(减水掺加剂)和水泥溶渣研磨添加剂应用的“Molassperse”表面活性剂的方法 220 200680000046.7 氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料 221 200610038096.6 两个单作用缸通过密闭磨料实现双向驱动装置 222 200580029488.X 混合稀土氧化物、混合稀土氟化物、使用该材料的基于铈的磨料以及其制备方法 223 200610103020.7 研磨用组合物 224 200580030961.6 制造磨料制品的方法 225 200710013375.1 精密微细磨料水射流蓄能式脉冲微量供料系统 226 200710084237.2 用于监控研磨机冷却液喷嘴设定的方法 227 200710091243.0 无磨料超声加工工艺 228 200710096425.7 CMP 研磨剂及基板的研磨方法 229 200710014043.5 井底岩屑磨料射流钻井工具 230 200710095820.3 研磨液及研磨方法 231 200710107442.6 研磨液及研磨方法 232 200610058531.1 用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物 233 200710107443.0 研磨液及研磨方法 234 200580036608.9 一种磨料及其制备方法 235 200710022290.X 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法 236 200710092278.6 蚀刻液组合物、研磨用组合物及其制造方法以及研磨方法 237 200710088779.7 金属用研磨液 238 200610039713.4 轴承钢球的小液量研磨设备 239 200710099943.4 金属钽及其合金专用研磨液及其制备方法 240 200610066640.8 化学机械研磨组合物 241 200710104636.0 金属用研磨液以及研磨方法 242 200710104637.5 金属用研磨液以及研磨方法 243 200710107753.2 研磨液及研磨方法 244 200710101113.0 磁盘基板用研磨液组合物 245 200580040252.6 化学机械研磨方法与研磨液组合物 246 200580040108.2 由粉化炉渣制成的磨料、该磨料的生产设备和方法 247 200580041234.X 研磨剂制造方法、其制造的研磨剂和硅晶片制造方法 248 200710010921.6 一种磨料三维多层可控优化排布电镀工具制作方法 249 200610027057.6 一种二氧化硅磨料的制备方法 250 200580044616.8 制造用于洁牙剂的改进清洁磨料的方法 251 200610014418.3 一种用于硅晶片的研磨液 252 200580036187.X 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液 253 200710024821.9 具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及制备方法 254 200610014598.5 陶瓷研磨液 255 200680001743.4 磨料组合物 256 200710022816.4 磨料颗粒均匀分布/有序排列/择优取向的方法和装置 257 200710127194.1 玻璃基板用研磨液组合物 本手册实用说本手册实用说明明 在目前激烈的市场竞争下,企业为立于不败之地,都在四处寻求新技术、新工艺、新项目,而在众多新技术信息中,专利技术以其自身独特的“专有”性,无疑是具有强大吸引力的,为了方便企业和创业者及时掌握最新的科技信息,我们将国家专利局的数百万专利技术分类造册,编写出版了各行业的专利技术手册。为了保证资料的真实有效,手册中的专利技术均为国家发明专利、实用新型专利和外观设计专利等科研成果的原文资料,通过激光影印编制而成。每项专利技术资料中包含:专利发明人、发明时间、所在单位、通信地址、技术配方、工艺流程、质量标准、权利要求书、说明书和附图图纸,以及实现其产品的生产全过程。通过阅读这些专利技术资料,能让读者更全面、更客观了解多种技术路线、关键技术、市场状况、发展趋势、下游应用情况等。为其科研教学、项目决策、企业创新、个人创业提供经济有效的参考资料,避免重复研究,大大降低决策风险。专利技术光盘是计算机专用数据光盘,PDF 文档格式,在 Windows操作系统运行环境下,可以直接打开、阅读、复制、打印,保存方便,保密性好。本手册适合有相关行业知识经验积累,有志于致富创业的人员。仅提供给大家参考研究之用,所有技术的专利转让权和使用权归专利发明人所有。编写组编写组
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