API682冲洗方案.doc

API682冲洗方案

PLAN11出口自冲洗
介质由泵的出口经管线进入机械密封实施冲洗。

适用情况：

1.清洁介质(介质本身须清洁)
2.介质温度不高于110℃
3.泵进出口间的压差不能大于10Bar
大于10Bar．则需设节流阀)

PLAN13入口自冲洗
介质由入口经管线进入机封实现液体的循环流动

适用情况：

1.泵进出口压力差大于10Bar
2.清洁介质
3.介质温度不高于110℃

PLAN21出口冷却自冲洗
介质由泵的出口经冷却器降温后，再进入机械密封，实现对密封的冷却.

适用情况：

1.介质温度高于110℃
2. 清洁介质

PLAN52不加压冷却方式
利用压力小于工艺流体压力但不低于大气压力的阻隔流体，注入密封室中。由于隔流体压力小于工艺流体压力，少量工艺流体泄漏至阻隔流体中，被阻隔流体出密封室，到密封系统或放空系统中进行处理，从而避免工艺流体的直接排放大气和环境的污染。

技术要求:
1. 低压阻隔流体防止渗漏，但阻隔液压力不得低于O．7公斤／厘米
2. 阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3. 阻隔流体的流向应与轴的旋向相同
适应场合:

低沸点、易汽化的介质
危险品
不允许介质被污染的制药行业

PLAN53加压冷却方式
利用压力大于工艺流体和大气压力的阻隔流体注入密封室中，由于阻隔流体压力大于工艺流体压力，防止了工艺流体向阻隔流体的泄漏，从而有效地防止工艺流对大气和环境的污染。

技术要求:

1.阻隔流体压力至少比密封腔压力高1—2公斤／厘米2.阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相同
适应场合:

易结晶或固化的介质
易聚合介质
常温含颗粒的介质

PLAN54加压冷却方式
利用加压泵给阻隔流体加压，压力比工艺流体压高1—2公斤／厘米2一方面，提高阻隔流体的循环速度，加快对密封面的冷却；另一方面，阻止工艺流体通过内侧密封向阻隔流体系统的泄漏，避免工艺流体对大气和环境的污染。

技术要求:
1. 阻隔流体压力比密封腔内工艺流体压力高1—2公斤／厘米
2. 阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3. 阻隔流体的流向应与轴的旋向相同
适应场合:

高温含颗粒的介质
热流体
低温介质